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G．1 水用语
1．1 前置处理装置用语
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编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1201 | Primary pure water system | 系指由前置处理装置,一次纯水装置,及次系统所构成所谓超纯水制造装置之中间部分.一次纯水装置系由逆渗透装置,离子交换装置及脱气设备等所构成. |
G1202 | Primary pure water 一次纯水 | 系指将存在前置处理装置处理水中之离子,微粒子,微生物及有机物等全部杂质,加以去处之高纯度水.其电阻系数在5-18MΩ-cm程度的纯水,虽也可照样被加以使用之案列,通常作为设置在后段次系统之原料水.此外,对除去离子之低纯度水,即称为去离子水,或纯水. |
G1203 | Ion exchange equipment 离子交换设备 | 系指利用离子交换,将水中之离子加以吸附去除之装置.可利用于纯水制造或废水之回收再利用等. |
G1204 | Two bed three tower deionizing equipmeng 二床三塔去电离设备 | 系由阳离子(cation)交换树脂塔,除碳酸塔(decarbonator),或真空排气塔(deaerator),及阴离子(anion)交换树脂塔,所构成之多床式纯水装置.去电离设备有时也可称为除磺设备(demineralizing equipment). |
Two bed three tower demineralizing equipment 二床三塔除磺设备 | ||
G1205 | Cation exchanger 阳离子交换器 | 系充以阳离子交换树脂之离子交换塔.此种交换塔大都称为H塔或K塔.通常系由使用酸液来再生 |
G1206 | Decarbonator 除碳酸塔
| 系将未处理水中之CO2,加以去除之设备.对喷雾(spray)之水经由吹进大量之空气来进行除去碳酸. |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1207 | Anion exchanger 阴离子交换塔 | 系充填有阴离子交换树脂之离子交换塔.此一交换塔多半称为OH塔或A塔.通常系以碱液来再生. |
G1208 | Mixed bed column 混合床交换塔 | 系在一个离子交换树脂塔中,充填有阳离子交换树脂与阴离子交换树脂,混合使用之设备.与多床式交换塔比较,可获得较高纯度之水. |
G1209 | Mixed bed polisher 混合床净化塔 | 系将混合式离子交换塔配置在2床3塔型纯水装置之后端,可将纯水中微量之离子加以去除且可净化之设备. |
G1210 | Conterflow regeneration ion exchanger equipment 逆流再生离子交换设备 | 为易于获得水处理,系指将再生药品注入方向于水流方向逆流之离子交换装置.与再生药流,水流同一方向之顺流式离子交换装置比较,不仅可获得优异之水质处理,且可节约再生药品使用量. |
G1212 | Ion exchange resin 离子交换树脂 | 系指具有能将存在于水中之离子,加以吸附去除能力之珠状合成数值。此一树脂有阳离子交换树脂及阴离子树脂之种类.也有同样功能之纤膸 |
G1213 | Cation exchange resin 阳离子交换树脂 | 是可将存在于水中之阳离子，诸如Na+，Ca2+，Mg2+等，加以吸附去除之离子交换树脂。此一树脂可分为对阳离子吸附力较强之强酸性阳离子交换树脂，与吸附力较弱之弱酸性阳离子交换树脂2种类。尚有多孔（prous）型及凝胶（gel）型等2种类。 |
G1214 | Anion exchange resin 阴离子交换树脂 | 是可将存在水种之阴离子，诸如Cl-，SiO42-，SiO2-等，加以吸附去除之离子交换树脂。此一树脂可分为对阴离子吸附力较强之强碱基性阴离子交换树脂，与吸附力较弱之弱碱基性阴离子交换树脂之2种类。尚有多孔型与凝胶型等2种类。 |
G1215 | Gel type ion exchange resin 凝胶型离子交换树脂 | 是将苯乙烯（styrene）与二乙烯苯（divinylbenzene）之凝胶型重合体为母体之离子交换树脂。若二乙烯苯之添加量加少了即树脂之微观细孔（micropore）之孔径会变大，若添加量加多了即微观细孔之孔径会变小，而变成密度大又坚硬之构造。这一型最被普遍使用。 |
G1216 | Porous type ion exchange resin 多孔型离子交换树脂
| 是将苯乙烯（styrene）与二乙烯苯（divinylbenzene）之共同重合在有机溶媒之存在下，所生成所得重合体，作为母体之离子交换树脂。与凝胶（gel）型同样有微观细孔，同时亦具有多数之宏观细孔（macropore）。经多孔化之树脂与凝胶型比较，每容积之交换容量多多少少会降低，但其耐有机污染性及物理耐久性等均会提升。 |
Macro reticular type ion exchange resin 宏观网状型离子交换树脂 | ||
G1217 | regeneration 还原，再生 | 是促使被离子交换树脂所吸附之被处理物质 （是离子化物质），经由酸液，碱液或经由流通电流，使之剥落之操作。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1218 | Regeneration level 还原量 | 是将使用于还原离子交换树脂之还原剂量，以相等于每单位树脂体积之量，表示还原剂之使用量。例如：若以1 liter之树脂用100g之氢氧化钠(NaOH)来还原时，其还原量即为100g NaOH/l 树脂。 |
G1219 | Ion exchange capadity 离子交换容量 | 是指离子交换树脂所具有能引起离子交换反应之交换基量。此一交换基量可区分成总交换容量，中性临分解容量，贯穿容量等3种类。总交换容量是表示交换基之总量，而以mg当量/ml湿润树脂表之。 |
G1220 | Reverse osmosis unit 逆渗透单元 | 是指使用逆渗透膜来去除水中之离子，有机物，微粒子及生菌之装置，虽会因水质而有所不同，都设置在离子交换装置之前段或后端，对处理水水质之安定化，达成极重要之角色。本单元是由安全过滤器，高压泵，逆渗透膜及压力容器等所构成。 |
G1221 | Double pass RO 二段式逆渗透装置 | 是将第一段RO之渗透水供应到第二段RO来处理，藉以获得电阻系数为0.5~5MQ-cm程度纯水之装置。有时后段可与不需要还原设备之离子交换装置搭配使用者较多。 |
G1222 | Reverse osmosis membrane 逆渗透膜 | 是指应用逆渗透现象之过滤膜。此过滤膜可用来去除溶存于水中之离子，有机物，微粒子及生菌等。 |
G1230 | Concentrate brine 浓缩（盐水所产生之）水 浓缩水 | 是经由逆渗透膜将水中之杂质与水分离之际，不渗透过膜而以浓缩杂质之形式所产生之水。虽因水质而有所不同，其水量约为给水量之10~30%程度。 |
G1231 | Safety filter 安全过滤器 保安 | 是指设置在RO装置高压泵正前方之高压泵保护过滤器。可使用数μｍ～数+μｍ孔径之过滤器。 |
G1232 | Vacuum degasifier 真空除气塔 真空脱气塔 | 是指可去除溶于水中瓦斯之设备。是在真空中，经由将水喷出成雾状来进行。 |
G1236 | Ultra-violet sterilizer 紫外线杀菌器 紫外线杀菌器/UV杀菌器 | 是指将水银灯放置于水中，利用其波长253.7nm之紫外线，来杀死微细菌（bacteria）之装置。 |
G1237 | Nitrogen seal 氮气密封 窒素 | 是将已经除氧之纯水储存槽，以氮气加以密封，防止O2或CO2气体再溶解之系统。 |
G1238 | Ultra low pressure reverse osmosis membrance 超低压逆渗透膜 超低压浸渗透膜 | 是指在3~20kg/cm2之操作压力下运转，能获得指定之水量与水质之逆渗透膜。大都使用合成聚合物制成之逆渗透膜。与以前之低压逆渗透膜比较，在同一压力下可获得将近2倍之渗水量。 |
1．3 超纯水装置用语
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1301 | Ultra pure water system 超纯水制造系统 超纯水制造装置 | 是将自来水，工业用水，及井水作为原料水，将水中之杂质以高纯度离子交换树脂，使用高功能膜加以精制分离，籍以制造高纯度纯水之全部装置。该系统是由前置处理装置，一次纯水装置及次系统等所构成。 |
G1302 | Ultrapure water 超纯水 | 是指经由超纯水制造装置，将水中之悬浊物质，溶解物质及杂质，以高效率加以去除之极高度纯水。尚有极微量之微粒子数，微生物数，TOC，二氧化矽（silica；SiO2），溶解氧气及金属离子等成为问题。就溶解物质而言，被要求有10亿分之1单位（μg/l）层级之纯度。就微粒子而言，最小图案尺寸10分之1以上大小者尚成为问题。 |
G1303 | Subsystem 次系统 | 是以一次纯水为原料水，籍仪2制造超纯水之装置，是设置在主系统之附近。系统是由低压紫外线氧化装置，筒夹式净化器（cartridge polisher），压力过滤膜（精密过滤膜、UF膜、RO膜等）所构成。 |
G1304 | Pure water storage tank 纯水储水槽 | 是指暂时储存一次纯水之储水槽，为防止电阻系数之下降以及细胞之增加，以氮气加以封存且加设透气过滤器。 |
G1307 | Micro filter 精密过滤膜 | MF之形状大致可分类为圆形片状之隔膜，摺折状筒式过滤器，及中空纤维状之中空丝线型隔膜过滤器。其孔径在0.1~0.45μm者较被普遍使用。 |
Membrane filter 隔膜过滤器 | ||
G1309 | Hollow fiber type ultrafiltration membrane 中空纤维丝型超过滤膜
| 是指内径1mm，外经数mm程度之毛细管状膜 。将此一隔膜作如下图之模组化。而安装在UF装置依动作流程，可分为将原料水供应于中空纤维丝内，过滤水由纤维丝外取出之所谓内压式超过滤法。与此现反，将原料水从纤维丝外供应，过滤水由纤维内取出之所谓外压式超过滤法。后者在二次侧之微粒子剥离较少，建立时间性能较佳。其过滤方法有全部过滤与交叉流动（）。就隔膜材料而言，有polyacrylonitorile与polysulfon等。 |
Capillary type ultrafiltration membrane 贸细管型超过滤膜
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G1310 | Hot water resistant ultrafiltration membrane 耐热水超过滤膜 | 是指可当作热水杀菌或蒸汽杀菌之超过滤膜。就膜材质而言有polysulfon与polyethersulfon.。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1311 | Cut off molecular weight 截止分子量
| 是指可作为评价隔膜（特别是UF膜），孔径（aperture）之指标。亦是隔膜在特定阻止率所能阻止之最小分子量。在此所谓特定阻止率，使用胰岛素（insulin），聚乙烯，乙二醇（polythleneglycol）或葡聚糖（dextran）作为标准物质，其阻止率通常采用90％或95％。 |
Cut-off level 截止能阶 | ||
G1312 | Deionized water heating equipment 超纯水（去电离水）加热设备 超纯水加热装置，温超纯水供给装置 | 是不致降低热纯水（40－90˚C）供应给使用场所之装置。就其加热方法而言，有使用热交换器或直接加热器都有，其连接管之材质有不锈钢，钛（Ti），氟素树脂等。 |
G1313 | Antistatic charge equipment for ultra pure water 超纯水抗静电设备 超纯水用带电防止器 | 由于超纯水之带静电，将会导致晶圆面附微粒子，或引起电路之破坏，因此将二氧化碳注入超纯水中，使其电阻系数降低到1MΩ－cm前后之装置。超纯水因是高电阻系数，因流动或摩擦而会带静电。此一去静电之超纯水是使用于晶圆切割（dicing）工程之冷却喷水。 |
G1314 | Number of particles 微粒子数 | 是指含于超纯水内之沾染物质（contaminant）数，是由无机微粒子及微生物粒子等所形成。亦指被隔离过滤器所捕集，而使用光学显微镜或电子显微镜来计数之方法。或以装设在制程上微生物计数器（bacteria counter），直接加以计数等方法。其所求得之微生物数以各/ml之单位表之. |
G1315 | Number of micro organisms 微生物有机体数
| 是指将含于一次纯水或超纯水内之细菌类,以平板培养法或隔膜过滤法,求得其所形成之集合数,而以个数表之.对于微量微生物有机体之测试,可使用后者.其表示单位依处理溶液量,可用个/ml,或个/100ml等. |
Number of bacteria 细菌数 | ||
G1316 | Total organic carbon 总有机碳 | 是专指有机碳谓之.若对有机物之氧化效率加以考量时,即是指总氧化性碳.含于超纯水中之总有机碳(TOC),有起因于原料水(天然水或回收处理水)者,或起因于离子交换树脂,从配管等使用器材所溶出者.这些TOC,可以靠RO,UF装置,真空除氧塔(vacuum degassifier),离子交换树脂,活性炭塔,UV氧化装置等加以去除.其单位可以碳浓度(ugc/l)来表之. |
G1317 | Silica 二氧化矽 | 所谓二氧化矽,是指离子状二氧化矽,溶存及胶质(colloid)状二氧化矽,及全部二氧化矽之总称,其浓度经由吸光光度法来测试,任何一种均可换算成二氧化矽(ug/l)来表示之。针对水处理装置之设计,有必要注意到被处理水中之SiO2含有率,而SiO2含有率可以次试表示之. |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1318 | Dissolved oxygen 溶解氧 | 是指溶解于水中之分子状氧气.就超纯水制造装置而言,是经由真空除氧塔或氮气起泡除氧气加以除氧,为防止氧气之再溶解,将氮气封入纯水槽内.其溶解氧浓度之测试,有文可勒法,隔膜电解法等,亦有简易之检测管比色法.其单位以ug/l表之. |
G1319 | Trace level ion 示综级(微量)离子 | 是指超纯水装置未能去除,而以微量溶解于超纯水中,诸如Na,K,Fe,Cu,Zn等阳离子及Cl等阴离子.就离子量而言,可求得ppt层级之分析下限值,对于阳离子之测试,可使用无火焰(flameless)原子吸光法及感光耦合等离子体质谱分光计(ICP-MS)等,对于阴离子之测试,可使用离子色层谱(ion chromatograph)法. |
G1320 | Resistivity 电阻系数 | 是测试溶解于水中之有导电性物质,以所得电传导电之倒算(MΩ-cm在25˚C),被要求有接近于理论纯水(约18.25MΩ-cm)之值. |
G1321 | Point of use 使用点,取水场所 | 在晶圆处理工程中为洗涤目的,以取水场所配管从次系统所引道之超纯水,其使用之取水场所. |
G1322 | Distribution piping for ultra pure water 超纯水配管线 | 是指从次系统输水至取水场所,再连接回到次系统之配管.配管上安装有流量计, 力计及电阻系数计等感测器以及控制器. 流量, 力及温度都受到控制. 维持水质, 得有滞流部分及要有适当之流速. 常都使用如图示之逆向回流方式. 一方式, 谋维持超纯水之水质, 供应管路与回流管路加以区别, 止其逆流. |
G1323 | Piping materials for ultrapure water 超纯水管路材质 | 系指为不致于降低超纯水之水质,而能将超纯水输送到取水场所之管路材质.该材质必需管内侧要平滑, 不会释出无机物或有机物.就使用材质而言, 都使用硬质聚氯乙烯, 聚丙烯, 素树脂等树脂材料.有时亦可考量使用经过特 殊表面处理之金属管路. |
G1324 | Pipeline jointing technique 管线连接技术 | 就树脂管线之连线方法而言,有经由接合剂之连线,及经由热熔接之连接,对后者可分类成管座式热熔接之连接有成为主流之趋势,更进一步有改进到管内侧更平滑之对接式热熔接之倾向 |
G1325 | Sterilization 杀菌
| 系指为要杀死在超纯水装置内所繁殖之细菌,所进行之保养作业.就细菌方法而言,有经由使用数%之过氧化氢(H2O 2)之药剂杀菌法,与利用热交换器,将超纯水加热至80-90OC之热水杀菌法,以及连续注入40-50ug/l臭氧(ozone)之臭氧杀菌法.杀菌系指杀死微生物谓之.而减菌系指从物质将所有微生物加以扑杀或去除谓之. |
Pasteurization 灭菌 | ||
| G1326 | Electrolytic ionized water (EIW)production equipment 电解离子化水生产设备 | 是指将超纯水加以电解,可以制作高氧化还原电位(ORP)之阳极水,与低ORP之装置.据闻阳极水对去除晶圆表面之金属,阴极水对去除微粒子很有效. |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1401 | Waste water treatment equipment 废水处理设备 | 是指工厂取水场所使用过之排放水中,将要排放到工厂外废水中之有害物质,污浊物质,加以去除或分解处理之设备. |
G1402 | Waste water reclamation equipment 废水回收处理设备 | 是指将工厂取水场所排放之废水中污浊较少,浓度较稀之废水加以回收,再利用为目的之处理设备.此一设备由可以去除无机离子之离子交换装置,逆渗透装置,可以去除有机物之活性碳吸附塔,紫外线氧化装置等所构成. |
G1403 | Closed system 封闭系统 | 是指将工厂取水场所用过废水全部加以回收处理后,作为工厂没有排放水之废水循环再利用系统.废水中之有害物质,由离子交换装置,逆渗透装置,蒸发浓度装置加以分离浓缩后,其浓缩液被干燥后挤压成球状,片状,或渗入水泥,柏油加以固化后,装桶处理。 |
G1404 | PH control tank PH调整槽 | 是指处理国水废水加以排放之前,或将废水加以凝聚沉淀处理,活性污泥处理之前,对废水之PH加以控制或调整之装置.依目的添加算液或碱液来控制或调整PH值.由搅拌设备,药品注入设备,PH控制设备等所构成。 |
G1405 | Regeneration waste water neutralizing equipment 废水还原中和装置 | 是将离子交换装置之还原所使用浓酸,浓碱等废液,加以中和处理之槽,此一设备通常包含搅拌混合装置,PH调节装置及中和添加装置。 |
G1406 | Waste water equipment 废水均衡槽 | 是指随着时间之变动,将废水之水质,流量,加以均匀化所设备之废水处理暂时储存槽。 |
G1407 | Monitor tank 监视槽 | 是指在废水处理装置之最终段,为要监视查验处理水是否适合于河川废水排放基准,所设置之废水滞留槽。 |
G1408 | Oxidation reduction equipment 氧化还原设备 | 是利用臭氧,氯气等氧化剂之氧化力,或次硫酸钠等还原剂之还原力,将废水中之污浊物质,加以分解使用变成无害之装置. |
G1409 | Ultraviolet ray oxidation Equipment 紫外线氧化设备 | 是指将废水中之有机物,以紫外线加以照射,使其分解处理之装置。可并用过氧化氢，次压氯酸苏打及臭氧作为氧化剂，至于紫外线之产生， 可使用高压水银灯(by high pressure mercury lamp)。其大部分有机物质可分解到CO2为止。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1410 | Hydro peroxide removal equipment 过氧化氢排除设备 | 指将废水中所含过氧化氢,加以分解去除之装置.就处理法而言,有活性碳吸附塔,重金属触煤反应塔,还原剂注入法,酵素注入法等. |
G1412 | Dryer 干燥器 | 指将废水处理所产生污泥,经由加热使其水分蒸发之装置.设法将污泥之水份及容积加以减少,其目的在于使搬运及最终处分较为容易,或使焚化处理较为容易之处理装置.此一干燥方式,及旋转窑(rotary kiln)方式等. |
G1413 | Incineration equipment 焚化炉 | 指将有机污泥及有机系浓缩废液,经由焚化将有机物及水份加以去除,藉以达到减容及物质之安定化为目的之装置.其炉之构造,有多段焚化方式,流动层方式喷射焚化方式等. |
G1415 | Sludge thickener 污泥浓缩槽 | 是为要将废水处理中经由沉淀槽排放之污泥,进一步加以浓缩所设置之槽.该槽可利用重力下沉,将堆积在槽底之污泥,以靶极加以收集. |
G1417 | Activated carbon(charcoal)filter 活性碳吸附塔 | 是将木炭(charcoal),椰子壳,煤等作为原料,且填充施加经特殊处理之粒子活性碳藉以提高对气体或对色素有吸附力之塔.将废水流通过此塔,可将废水中之有机物,色素,过氧化氢加以去除. |
G1423 | Grinding waste water treatment equipment 研磨废水用处理设备 | 是指包括经由研磨或切割晶圆,所产生微细粒子之废水,加以处理之装置.此一装置有经由添加凝聚剂使之凝聚沉淀分离,及藉以回收水为目的之膜分离等方法. |
G1424 | Fluorine waste water treatment equipment 氟素废水处理设备 | 将含有HF,NHF等氟素之废水,加以处理且可去除氟素之装置.此一装置有经由添加钙(Ca)而产生不溶性钙化合物之沉淀法,经由添加铝化盐等,藉以吸附金属凝聚生成物之沉淀法,及有高度处理功能之螯型树脂吸附法. |
G1425 | Heavy metal waste water treatment equipment 重金属废水处理设备 | 是从含有重金属之废水,将重金属在酸性溶剂中系以离子,氰基(cyan),或螯型化合物之共存下,溶解成错离子.其处理法有碱性凝聚沉淀法,离子交换树脂吸附法,螯型树脂吸附法等. |
G1429 | CMP waste water treatment equipment 化学机械抛光废水处理设备 | 是指可处理从CMP制程所产生包括有微粒子废水之装置.此一装置大略可分成氧化膜制程系,与金属布线制程系2种类,可使用凝聚沉淀或膜分离等方法. |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1501 | Condensing water system 冷凝水系统 | 是有冷却塔,热交换塔,输水泵及管路设备等所构成,是使用冷凝水来冷却半导体制造装置,空气及水等设备.其输水方式有密闭循环式,开放循环式及流通式等. |
Cooling water system 冷却水系统 | ||
G1506 | Cooling tower 冷却塔 | 若将水与低温之空气接触时,一部份之水将会蒸发,是指利用此一从水剥夺其蒸发潜热之现象,藉以降低水温度之装置.此一装置有将冷却水本身与空气直接接触蒸发之开放型冷却水管圈,与外界之喷洒水及空气接触蒸发之密闭型冷却塔. |
G1507 | Heat exchanger 热交换器 | 是指流体不致互相混合,流通相隔管壁,热量有此一流体传达至其他流体之装置.一般而言,其相隔管壁为金属,而制成管状之管壳型热交换器,及作为平板状之平板型热交换器.除了冷却水系统所有之水---水外,有空调系统所有之蒸汽—水,及空气—水等之热交换. |
G1509 | Scale inhibitors 水垢抑制剂 | 溶解于冷却水中之难溶性盐类被浓缩成为固态状,而附着在热交换器或管路内壁者,称为水垢(scale),在此是指为抑制此一水垢形成之药品.水垢大都属于碳酸钙及二氧化矽,而抑制剂有丙烯系聚合体(polymer)等. |
G1510 | Corrosion inhibitors 腐蚀抑制剂 | 是指为防止冷却水装置金属材料之腐蚀，所使用之药品。此种药品有磷酸盐，膦酸基（phosphone acid）盐，碳基盐 (carboxylic acid)系聚合物等。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1601 | Resistivity meter 电阻系数计 | 是指可利用内建有温度感测器之一对金属电极，藉以测试溶液电阻之仪器，因水分子之电离或电解质离子等，具有温度依存性，通常须换算到25ºC之换算值，而以MΩcm表之。一般被使用者可测试到0.01 MΩ分解力之仪器。 |
G1603 | Total organic carbon analyzer 总有机碳分析仪
| 是指将溶解于水中之有机物加以氧化，藉以自动测试其所产生二氧化碳（CO2）瓦斯之仪器。在实验室可采用湿式、干式之各种氧化方法，非分散红外线吸收(NDIR)法，及电导率法等各测试方式之组合。制程线上可使用UV氧化－电导率法，及经由氧化剂之湿式氧化法。 |
Total oxidizer carbon analyzer 总氧化碳分析仪 | ||
G1604 | Fluoride ion monitor 氟化物离子监测器 | 是为监测工厂排水中所含氟化物离子浓度之仪器。对试料水添加PH调整剂，由固体电极法加以检测。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G1605 | Silica analyzer 而氧化矽分析仪 | 是指可自动加以测试超纯水中之微量离子状二氧化矽之仪器。是将经由鉬酸氨与酒石酸等之有机物，及1－氨基（1－amino）,2-萘西甲基（naphthal），4－sulfone酸间之反应所产生矽钼酸蓝（silicomolybdic acid blue）,或经由鉬酸氨与硫酸，以及氢氧化钠间反应所长生之矽鉬酸黄（silicomolybdic acid yellow）之发色，当作吸光度来测试。其测试范围在0-10∽50μg/sio2/l。 |
G1606 | Non-volatile residue analyzer 不挥发残渣分析仪 | 超纯水中之杂物，虽按微粒子数、电阻系数、TQC、二氧化矽个别加以测试，在此是指对这些杂质之总量，当作不挥发残渣加以测试之分析仪，将超纯水加以喷成雾状使之变成汽化，而将水中所含粒状物质及溶解物质，当作微粒子析出在清净空气中，将该微粒子经由光学仪器，加以测试及统计处理，而将超纯水中之杂质浓度以ppb单位来表之。 |
G1610 | Standard particle 标准微粒 | 是使用于自动微粒计测器校正用之标准微粒。是一很接近单分散粒径之微粒，是聚苯乙烯乳状之简称。目前市面上有各种粒径之标准微粒出售可用于液体微粒计数器，光散射式计数器，及表面附者微粒测试器等之校正。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G2101 | Automatic chemical supply (dispense) system 自动药剂供应系统 | 是将半导制程所使用药品，自动供应制造装置。该药品供应系统由洁小室（clean booth）及过滤器所构成，至于该大型供应装置，进一步有附设储存槽，供应槽及阀单元等设备。 |
G2102 | Recirulation fiteration system 循环过滤系统 | 是以去除含于药品中之微粒子为目的，将槽内或洗涤槽之药品，边以输泵加以循环，边以过滤器加以过滤之系统。 |
G2103 | Chemical distribution piping 药剂分配管路 | 是指将半导体制造用药，从供应装置输送使用场所之管路。为抑制金属杂质之析出，微粒子之产生，或经由药品之腐蚀，容剂系药品要使不锈钢管，酸液、碱液系药品通常需使用PFA（tetra fluoroethylene perfluoro alkylvinyl ether共聚合体）管路。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G2104 | Quick..connector/quick .disconnecting coupling 快速接头 | 是指一碰即可接紧脱落之管路连接头。是安装在药品容器之嘴部，或化学液体或汽油运输车（tank lorry）等蛇管（hose）末端，可促使药剂之接收或供应时之管连接作业更快速又安全。 |
G2105 | Air chamber 空气室 | 是可减管路内液脈动之管组件，被管路本体内部之空气室、隔膜或所隔离之空气室可当空气垫（air cushion）动作，藉以吸收压力变动之减震器。此一减震器通安装在输送泵之出口侧管路，作为过滤器之保护，使取用场所维持在一定之药剂供应压力。 |
Accumulator 蓄压气，储能器 | ||
Air chamber 空气室 | ||
G2106 | Electronic chemicals 电子工业用药品 | 是晶圆洗涤、蚀刻、显影等湿式制程（wet process），所使用高纯度药品之总称。是可影响半导体元件之合格率，及能促使金属杂质或微粒子大幅减少之药品。 |
G2107 | Chemical container 药品溶剂 | 是指将电子工业药品交货给半导体制造工厂时所使用之输送容器。其使用方式有同一容器反复使用之链环(link)方式，及每一次使用新容器之单程(one way)方式，通常以采用前一方式者较多。就材质而言，容剂系药品都使用玻璃或不锈钢容器，而酸液、碱液系药剂都使用聚乙烯，PFA、PTFE（polytetra fluorothyene）等容器。 |
G2108 | Sulfuric acid reprocessor 硫酸再处理器 | 是将洗涤、剥离等制程所使用硫酸、过氧化氢之混合废液加以蒸馏，仅回收硫酸且加以精制之装置。回收之精制硫酸可利用于湿式制程。此一装置有常压蒸馏法与减压蒸馏法。
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G2109 | Hydrofluoric acid regenerator 氢氟酸再生器 | 是将蚀刻、洗涤等制程所使用浓厚氢氟酸废液，经与粒状碳酸钙接触，变成氟化钙加以回收之系统。其反应式为2HF+CaCO3=CaF2+CO2+H2O,被回收之氟化钙，可再使用于氢氟酸之制造原料。 |
G2110 | Isopropyl alcohol reprecessor 异丙醇再处理器
| 是将洗涤、干燥等制程所使用乙丙醇（isopropyl alcohol）加以回收，经脱水、蒸馏、过滤等处理，可精制到合乎再循环使用纯度之装置。 |
G2111 | Automatic chemical dilution(mixing) equipment 自动药剂释（混合）设备 | 是指可经由超纯水稀释，或将2种以上之药剂自动加以混合，调配到一定浓度或一定配合比之装置。此一装置主要使用于洗涤液，显影液，蚀刻液等制造。对药品消耗量很多之半导体制程而言，有降低成本之优点。请参阅D9155说明。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G2201 | Inductively coupled plasma mass spectrometer 感应耦合等离子体质量分光计 | 是将溶液中所含ppt级之微量金属，对多种元素可同时加以分析之分析仪。将试料送至感应耦合人等离子体（ICP），经加热至高温使之成为蒸发离子化后，经由四重极质量滤光器，依测试元素之质量别加以检测。就目前而言，可测试到次ppt层级高分解能力之二重收敛型ICP-HR-MS，被加以使用。 |
G2202 | Chemical reagent analyzer 化学试剂浓度分析仪 | 是将蚀刻液之成份浓度，加以自动测试分析之仪器。就其测试成份而言，可同时对过氧化氢与硫酸，及过氧化氢与氨加以测试。原理上可使用近红外线吸收法，与点滴法。 |
G2203 | Hydrogen fluoride monitor 氢氟化物监测器 | 是对晶圆洗涤用超纯水所稀释氢氟酸之浓度，加以监视之监测器。其测试方法，是使用以氟化树脂塑膜之电磁感应式电导率电极加以监测。其测试范围有可测到0~5%者。氟化树脂使用灰尘产生量较小之ＰＦＡ（perfluoro alkyl vinyl ether）树脂。 |
G2204 | Chemical concentration meter 药剂浓度计 | 是指可将显影或蚀刻液之成分浓度，自动地加以测试之分析装置。就其测试成分而言，可同时测试四甲基氨氢氧化物（tetra methyl ammonium hydroxide）浓度，硝酸与盐酸，硝酸与磷酸等，因而可使用电导率（electric conductivity）法，超音波法，近红外线法，点滴法等。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3101 | Bulk gas 大量消耗瓦斯 | 是指制造半导体所使用之清除（purge）气体、载运（carrier）气体及氧化用等气体。是指N2，Ｏ2，Ｈ2及Ａr等气体，与特殊材料比较被大量消耗使用。 |
G3102 | Carrier gas 运载气体 | 是指使用于半导体制造上所使用特种材料瓦斯之浓度调整用气体。特殊材料瓦斯若为气体时用作稀释用。若是液体或固体时作用作汽化及混合之用。载运瓦斯有N2，Ｈ2,Ａr及Ｈe等。 |
3．2 瓦斯供应系统用语
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3205 | Gas suppling system 瓦斯供应系统 | 是针对半导体制造装置，能将各种材料瓦斯之供应量，维持在设定值之装置。以控制压力及流量为主，进一步有时也可进行瓦斯之混合。此一控制装置是将质量流量控制器（mass flow controller），切换阀，调压器，半导体压力感测器，及过滤器等安装在现场控制盘或控制箱上。 |
G3206 | Gas dilution system 瓦斯稀释系统 | 是将特殊材料瓦斯连接到载运气体，籍以稀释到一定浓度之装置。经由利用质量流量控制器与积体化阀，可将１００％之瓦斯稀释到１ppm之精密瓦斯稀释装置，也已被研发完成。 |
G3207 | Gas purifier 瓦斯提纯器 | 是将瓦斯中所含残留杂质浓度，提纯到ppt层次之装置。对于氢气之精制，有使用钯镉之钯镉膜氢气提纯器，与低温吸附式两种。对非活性瓦斯而言，有合金吸气器式与触媒吸附剂方式。 |
G3209 | Integrated components 积体组件 | 是将构成瓦斯供应系统不同功能之多数组件，积体化在一个方块者。例如有将全金属调节器，断流阀与过滤器搭配在一起者。 |
G3212 | Cylinder 圆筒瓦斯钢瓶 | 是为填充高压瓦斯之容器。其内容积多半为10~17l程度之容器，其容器之材质有锰钢，铝或不锈钢被加以使用。来自容器之瓦斯抽出，是以附属于容器之阀来加以进行。 |
G3215 | Emergency stop valve 紧急断流阀 | 当瓦斯检漏器检测到瓦斯泄漏时，能将设置在圆筒状容器（cylinder cabinet）或瓦斯供应装置之本断流阀加以关闭，使瓦斯之供应加以中断之控制阀。 |
G3217 | In-line gas filter 管路上瓦斯过滤器 | 是指设置在半导体制造装置之入口，或瓦斯供应装置之出口，籍以捕捉去除半导体制造用瓦斯中微粒之精密过滤器。也有可以清除以前曾经成为问题，是来自隔膜过滤器之水分，及氢化碳为中心之排气污染等不锈钢过滤器。 |
G3220 | Mass flow controller 质量流量控制器 | 是将多种半导体制造用瓦斯之供应，自动加以执行之质量流量控制器。此一控制器由感测器，控制阀及控制电路所构成。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3221 | Mass flow meter 质量流量计 | 是可将瓦斯之流量自动加以量测之仪器。对系统在金属毛细管外侧之二个自个发热电阻体间，流通流体瓦斯时，随着流通瓦斯之质量流量产生温度差，而以电流值被检测出来。此一检测法压力损失既少精确度又高。若将控制阀及电气电路装配在一起，即能构成可自动供应半导体制造瓦斯之质量流量控制器(mass flow controller)。 |
G3222 | Check valve 止回阀 | 是指设置在瓦斯管路上，经由背压阀体能防止流体瓦斯之逆流而动作之特殊阀。将二种以上之半导体制造用瓦斯混合使用时，为防范其混合爆炸，及防止有毒瓦斯或有 腐蚀性瓦斯逆流事故于未然为目的所使用者。 |
G3224 | Fitting 管路接头，管件 | 是指连接瓦斯管路接头之管件。可将对外界泄漏抑压在2x10－11torr.l1sec以下之检测界限。若采用轴承(bearing)式螺帽(nut),可防止连接部之摩擦运动以及管路扭曲。此一型管件有MCG管件及JSK管件。此外，针对外界应力为防止对外界泄漏，亦有将垫圈部位之死区(dead space)完全取消之UPG管件。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3301 | Dry air 干燥空气 | 是供应各种制造装置之空气阀或气缸等驱动用或制程用干燥空气。将被压缩机压缩之空气中油雾，水份及高沸点碳化氢等杂质，使用吸附筒加以精制者。 |
G3302 | Compressor 压缩机 | 是指将空气等气体加以压缩，使之升压之机械。就种类而言，有往复（reciprocating）式，涡轮（turbo）式，螺旋桨(screw)式等。就半导体制造而言，通常都使用无油气规格之压缩机。 |
G3303 | Absorption dryer 吸附式干燥机 | 是将气体中之水份，依物理或化学性加以吸附之干燥机。就种类而言，有分子簺滤（molecular sieve）方式，与五氧化磷方式。此外，尚有利用低温将水份加以凝缩去除之冷却式干燥机。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3401 | Exhaust gas abatement equipment for process 制程排气处理设备 | 是指从各种CVD，离子注入，蚀刻等半导体制程装置所排放之有害瓦斯，加以无害化处理之装置。其处理方式有吸附式或燃烧式等。 |
G3402 | Exhaust gas abatement equipment for emergency 紧急排气处理设备 | 是指可将圆筒状容器（cylindercabinet）或特种材料瓦斯处置场所，在紧急时所排放之大量瓦斯，加以安全处理之装置。此一装置在平常时加以旁通排气，紧急时将紧急风门（damper）动作，经除害装置处理后加排放。 |
G3404 | Dry type exhaust gas abatement equipment 干式排气处理设备 | 是指使用不需要水分补给之吸附材料，可将从半导体制程装置所排放之有害瓦斯，加以无害化处理之装置。由于不需要水份而称为干式。有时焚化式或分解式亦称为干式。 |
G3405 | Semi dry type exhaust gas abatement equipment 半干式排气处理设备 | 是指使用需要水分补给之吸附材料，可将从半导体制造装置等所排放之有害瓦斯，加以无害化处理之装置。虽使用与干式同一吸附材料，由于需要水份因而称为半干式。 |
G3406 | Wet type exhaust gas abatement equipment 湿式排气处理设备 | 是指将从半导体制造装置所排放之有害瓦斯，使用药液或水加以无害化处理之装置。由于使用液体因而称为湿式。填充塔或喷水塔等擦洗器，或气泡塔等当属此一方式。 |
G3407 | Exhaust gas abatement equipment by decomposition process 分解式排气处理设备 | 是指将从半导体制造装置所排放之有害瓦斯，经由热分解或等离子体（plasma）分解，加以无害化处理之装置。就现状而言，等离子体分解方式尚无法将有害瓦斯，处理到容许温度以下之无害化等问题存在。 |
G3408 | Exhaust gas abatement equipment by absorption process 吸附式制程排气处理设备 | 是指以吸附材料将排气中有害瓦斯，加以去除之装置。吸附材料之种类有活性炭，分子筛滤（molecular sieve）活性氧化铝及特殊药剂添加吸附剂等。 |
G3409 | Scrubber 瓦斯擦洗器 | 是指将瓦斯中之尘埃，雾气，有害瓦斯及恶臭等，以水或药液加以清除之装置。因处理方式之不同，有内建有为扩大瓦斯与液体间接触面积之充填式，在多孔板上形成水膜再流通瓦斯之多孔板式。此外，尚有喷溅式及汾丘里管（venturi－tube）式。 |
G3410 | Exhaust system 排气系统 | 是将圆筒状容器（cylinder cabinet）或装置真空排气泵等，在可预测特种材料瓦斯洩漏等场所，以吹风机等经常减压加以排气之系统。特别有关特种高压瓦斯用桶状容器，依规定必须设置此一系统。湿式洗涤站等亦使用此一排气系统。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G3507 | Ozone monitor 臭氧监测器
| 是指对臭氧洗涤或臭氧氧化用所供应瓦斯中之臭氧浓度分析，或对来自紫外线灯附近所产生臭氧之浓度，加以执行管理之监测器。其测试原理有紫外线吸收法，及隔膜式极谱仪（polarograph）法。此外，对晶圆洗涤所用超纯水中之微量臭氧浓度管理亦可使用。 |
G3508 | Trace gas montitor 气体追踪监测器 | 是对N2，Ar或H2等气体内所含微量之杂质，可连续加以测试之分析仪器。可用于对CO，CO2，O2，H2O，THC等气体之杂质加以监控。其测试原理有气体色层分析法（gas chromatography），非色散型红外线吸收法，光散射法等加以搭配使用。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4101 | Clean room 洁净室 | 是指实行污染控制之空间。此一空间其飘浮于空气中之微小粒必须管理在限定洁净度层级以下。此外，对于供应于此一空间之材料、药品、水等亦被要求得保持洁净，有必要时连对温度，湿度及压力等环境条件，亦要实行管理。 |
G4102 | Vertical laminar flow clean room 垂直层流洁净室
| 是指由超低贯穿空气过滤器（ULPA filter）等构成，空气从天花板全面流入室内，而由相对之地面排气口全面流出之房间，其垂直有层流流动形成之洁净室。在广阔之空间可以获得最高洁净度。 |
Downflow clean room 往下流动洁净室 | ||
G4103 | Horizontal laminar flow clean room 水平层流洁净室 | 是指由超低贯穿空气过滤器等构成，空气从墙壁之一侧全面流入室内，而由相对另一侧墙壁全面流出之房间，其水平有层流流动形式之洁净室，愈下方层流其洁净度愈低。 |
Cross flow clean room 正交流动洁净室 | ||
G4104 | Non-laminar flow clean room 非层流洁净室
| 是指气流图样与流速都不一样之洁净室。漂浮在室内空气中之微粒，由天花板或设在一部墙壁上之送气口，供给新鲜空气来加以稀释，而由吸气口排出室外。此一型过滤器方式可使用洁净度层级6以下之场合。 |
Turbulent flow clean room 乱流型洁净室 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4105 | Mixed flow clean room 混流型洁净室 | 是指对某一空间流通层流型与非层流型混合形式之洁净室。例如在生产线上虽采用层流型以确保高洁净度，其他如走道或办公或工作区域，即采用非层流型通风，藉以图谋设备费用或运转费用之下降。 |
G4106 | Clean tube system 洁净输送管系统 | 为防止晶圆之被污染，是将制造装置间，制造装置与洁净输送盒（clean stocker）间等，高洁净空间以管状输送制程围绕起来之系统。具有经由局部洁净化之省能源等优点。 |
G4107
| Clean tunnel洁净隧道 | 是设于洁净室内之一部，而由ULPA过滤器所构成且具有天花板面之隧道型垂直层流通道。洁净空气将隧道内当作垂直层流通道后，通过前面之作业通路，或后面之办公工作区域再加以循环。 |
G4109 | High efficiency particulate 高效率微粒空气过滤器 | 是指在额定风量针对粒径为0.3μm之微粒，具有99.97%以上之微粒捕获绿2，而且就一般而言，其初期压力损失具有300Pa（30mmH2O）以下性能之空气过滤器。HEPA过滤器通常使用在洁净室供气之最终阶段。 |
G4110 | Medium efficiency particulate air filter中效率微粒空气过滤器 | 主要是指针对较5μm为小之微粒，具有中程度威力捕捉率之空气过滤器。一般而言，是配置在主空气过滤器与前置过滤器之间。主要用作辅助主空气过滤器功能之中间过滤器。 |
G4111 | Coarse particle air filter 粗粒子空气过滤器 | 主要是指用作去除大于5μm之粒子空气过滤器。一般而言，是用作设置在空气流最上游之前置过滤器，经过清洗亦有可再使用之种类。 |
G4112 | Gas purifier 气体纯化器
| 是以去除空气中只气体状污染物为目的之空气洁净装置。此一装置有将气体污染物经由吸附，加以去除之吸附式，与经由吸收加以去除之吸收式等。类似之用语有气体清除器（gas remover），及化学性过滤器（chemical filter）。 |
Gas remover 气体清除器 | ||
G4116 | Filter media 过滤器媒介物，过滤材料 | 是指将漂浮在空气之微粒，经由过滤作用加以捕捉之材料。其主有主要材料有玻璃纤维，合成纤维，金属纤维等，此外，薄膜过滤器亦已达到实用化。此等过滤材料可以滤布状，滤纸状及网状等使用。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4118 | Clean booth 洁净小屋 | 是指有天花板垂直向下吹风之简易型洁净室。小屋之天花板面设置有风扇过滤单元等。可将小屋空间变成简便洁净室化，亦可移动。 |
G4119 | Clean bench洁净工作台 Clean work station 洁净工作站 清净作业台 | 是依规定将管理在洁净度层级之空气，如拟直接流向作业对象物，所订制之工作台。此一工作台内建有ULPA过滤器，前置过滤器，及送风机等洁净空气供应源。此一用语有时可称为洁净工作站。 |
G4120 | Fan filter unit 风扇过滤器单元 | 是指将小型送风机与ULPA过滤器等装成一体化之空气洁净装置。此一装置有天花板悬吊型，床底固定型。原来主要虽使用在非层流洁净室，最近已普遍使用于垂直层流洁净室，以及洁净隧道通风上。 |
G4121 | Air lock 密封舱，气栓 | 是指人员或器材进出漂浮微粒管理区域之际，为保持该区域一定压力之特种机构。通常为人物之进出在开口部之两侧设置有2扇门，设计成无法同时开启。此一密封舱有时可称为具有气栓功能之小室。 |
G4122 | Air shower 空气吹淋室 | 是指为要去除附着在工作人员或沾在衣服上之微粒状灰尘，强制加以吹走之装置，而设置在漂浮微粒管理区域之入口部分者。此一装置备有狭缝口（slit）或多数空气喷嘴或排气口，其狭缝口或喷嘴之方向可自由改变方向。空气吹淋室通常亦设在洁净室之入口，而且有气栓功能。 |
G4123 | Anteroom 准备室，休息室 | 是指拟将洁净室使用之器材搬入前加以吹干净，或作搬入准备之房间。此一准备室有空气吹淋装置等洁净设备。 |
G4124 | Pre-cleanroom 前置洁净室 | 是工作人员进入洁净室之前，进行必要准备之房间。更换衣服之场所大都具有洁净室构造之场所，且备有空气吹淋装置。 |
G4125 | Air curtain 空气隔离幕，空气遮蔽幕 | 是将以ULPA过滤器等加以净化之空气，经由裂缝状之喷嘴喷出空气流，将房间与外界空气加以隔离之装置。利用门扇或垂帘等加以隔离时，生产效率会产生明显低落时使用，有时会吸引人注目亦可考虑安装空气隔离幕。 |
G4126 | Pass box 器材搬运口 | 是在洁净度层级不同之管理区域间，或管理区域与其他房间，为小组件或机器之搬运所设置之开口部。基本上要具备气栓功能。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4127 | Pressure setting damper 压力调整器，调压风门 | 是指设置在不同气压之房间墙壁上，为能安定维持两个房间间差压之差压调节风门。通常使用在微小风压即能浮起摆动之板上，固定能滑动且可设定铅坠差压之平衡型。 |
G4128 | Draft chamber 通风室 | 是为防止诸如气状污染物，灰尘，水分或热等扩散到洁净室，而围绕在那些污染物产生源，且具有能局部排气构造之小室。此一小室可用在诸如蚀刻及洗涤只趁制程上。 |
G4130 | Ionizer 电离器 | 是对针状或细线状之电极施加高压，是其引起电晕（corona）放电，使周围之空气加以电离化成正负离子，而以相反极性之离子将带电物体表面之电荷，加以中和之装置。 |
G4134 | Mini enviroment 迷你环境 | 是指为要产品从污染源加以隔离，而以围幕所包围之局部洁净环境谓之。已实用化者有SMIF-Pod及CAVS等。对半导体制造装置之晶圆I/O部份，晶圆之输送系统等设置围幕，形成局部之高洁净度空间。因不需要洁净室全体之高洁净化，具有降低维持费用，节省能源之优点。洁净管路（clean tube）方式可以抑制在晶圆表面形成自然氧化膜。 |
G4135 | Flow shop 流程站 | 是指依对应于制程之顺序，将制造装置依序排列之制造装置配置法。此一配置法，输送效率好，线性化容易。一般而言，装配制程都采用本此一形式。 |
G4136 | Job shop 工作站 | 是指将同种功能之制造装置群，汇总加以配置之制造装置配置法。因不依制程次序排列，对于输送之点虽较不利，例如流程站制程反覆作业较多，对于使用手法（tact）不同之装置时，对作业性、空间之点较有利。在海湾地形系统，对各个海湾地形虽配置同种功能之装置群，这乃是本形式之典型配置。 |
G4138 | Process area 制程区域 | 是指有关洁净室配置中，进行装置与晶圆间之授受与搬运之区域。此一区域被要求有高洁净环境。所谓服务区域，是由分隔板（partition panel）加以区分。 |
G4139 | Service area 服务区域 | 是设置半导体制造装置之区域。亦是对装置供应电、瓦斯、水及药剂等，或设置排水、排气等配管及槽沟等支援区域，或进行维修作业之区域。因晶圆不会直接与此一区域之空间接触，因而被设定在较低洁净度。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4140 | Filter ceiling system 天花板过滤系统 | 是指由HEPA过滤器，ULPA过滤器，过滤器固定框，及照明设备等所构成之天花板全面送风系统。此一系统主要使用于垂直层流型洁净室，可获得没有微粒泄漏以及吸引人之构造。 |
G4141 | Ceiling panel 天花板悬挂式送风盘 | 是指具备有低灰尘性，平滑行，耐蚀性，密封性，低带电性等特性之洁净室悬挂式送风盘。此一送风盘是使用于非层流型或水平层流型洁净室，而垂直层流型洁净室即使用天花板过虑系统。 |
G4142 | Partition panel 分隔板 | 是指具备有低灰尘性，平滑行，耐蚀性，低带电性等特性之洁净室隔板、或隔间用壁材。因洁净室属于封闭式空间，近年来，有开放感之器材较受欢迎。 |
G4143 | Raised floor 垫高式地板 | 是指将供应半导体制造装置之水、电、瓦斯及药剂，同时亦是由制造装置所排放废气，废水等配管管道，可设置在垫高之双重地板构造。将双重地板空间当作回风道使用之案例亦不少。 |
G4144 | Face access floor 易拆装，易检修地板 | 是属于垫高式地板之一种，其变重地板构造之上层地板，可简便加以拆除之放行地板，所购构成之地板构造。此一构造对设置在垫高式地板下配置管道之维修至为方便。 |
G4145 | Grating panel 格子状吸风面板 | 是构成易拆装地板之钢板或不锈钢板制板条状之吸风面板。对将成为会风西风口之开口虽可取大一点，然而对输送用机械人之移动，及工作人员之居住型有所不便。 |
G4146 | Perforated panel 穿孔吸风面板 | 是构成易拆装地板，忧铝膜铸（Aluminum die casting）及钢板等所制成之穿孔地板吸风盘。对将成为回风西风口之开口虽较难取大一点，然而因尺寸精密度较高，且对工作人员之居住性较。 |
G4147 | Central vacuum cleaning system 中央式真空洁净室系统 | 是为防止洁净室清扫时之灰尘飞扬，将真空泵，集尘装置设置在洁净室外，并且与配置在洁净室内之吸气口间，以真空管线加以连结之中央式真空洁净系统。 |
G4148 | Process vacuum system 制程真空系统 | 是由油旋转泵，干燥泵等真空泵，真空槽及配管等设备所构成，在此专指对真空消钳子（pincette），制造装置供应低真空之设备。对形成薄膜，蚀刻制程等所需要之高真空，即单独由设在制造装置之分子泵，低温泵（cryopump）供应之。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4149 | Energy plant 能源工场 | 是指可供应空调设备，卫生设备，公用事业（utility）设备等冷却水，冷水，温水及蒸汽等冷、温、热能源之设备。通常由冷却塔，冷冻机，锅炉，热交换器，储水器，泵及配管设备等所构成。 |
G4150 | Air conditioning system 空调系统 | 是将室内温度，湿度，灰尘，气体成分，臭氧，压力，风速及气流形状等环境空气条件，为目的配合加以调整及管理之设备。通常有空气调节机，箱型空调机，风扇螺旋管单元（fan-coil unit），松、排风机，管道设备等所构成。 |
G4151 | Anti-vibraton device 抗振动装置 | 是为达成半导体制造装置所要求之低振动位阶（level），而设置在振动产生侧之防振设备，及振动接收侧之除振设备。就曝光装置等微细加工制程，以及SEM等检查工程而言，对4Hz程度之低频领域为止之对策是有必要的。 |
G4152 | Earthquake resisting device 耐震装置 | 是为确保在地震时之安全，及防止设备之破坏，所设置之耐震装置。因成为对象设备之设置条件（地域，设置位階，重要度及危险度）之不同，其所采取对策亦迥异，对于设备在易拆装易检修地板之设备，有特别加以留意之必要。 |
G4153 | Energy saving system 省能源系统 | 是为节省电、燃料、水等能源消耗，能谋求对热能回收，空气泄漏量之减少，输送动力之降低，设备容量之最妥适化，机器之高效率化等谋求对策之设备。这些对省能源之投资，不仅能降低维持费用（running cost）亦是对社会善尽一分义务。 |
G4154 | Heat recovery system 热回收系统 | 是指将生产用，废气，废水等所排放之热能，以热交换器等加以回收，而再度利用于冷却、加热等之省能源设备。 |
G4155 | Particulate/small particle/corpuscle 微粒 | 是指粒径很常小粒子，一般而言，漂浮在空气或液体中时，不易下沉而在10um程度以下之粒子。其英文同义词有corpuscle一字。 |
G4156 | Cleanliness 洁净度 | 是可当作对象空间之洁净程度。是以一定容积之空气中，所含不同大小之粒子污染物数表之。此外被定级之洁净程度，以洁净度位階（level）表之。 |
Cleanliness level 洁净度位階 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4157 | Cleanliness class 洁净度等级 | 系将洁净度位阶按等区分加以表达者.在日本系在JISB 9920（在洁净室中漂浮微粒之浓度测试方法）中加以规范，而就1m3空气中所含粒径在0.1μm以上微粒数，而以10之幂次方所表指数表之。或就美国联邦规格209E而言，系指在1ft3之空气中所含粒徑在0.5μm以上之微粒數，或在1m3空氣中所含粒徑在0.5μm以上微粒數或該冪指數，當作潔淨度等級表之。習慣上多以1ft3中，所指定粒徑以之微粒數表之 |
G4158 | Cleanliness recovery characteristic 洁净度恢复特性 | 係在潔淨室内所能考量之最大量污染物闖入或產生時，其潔淨度恢復到潔淨度位階所需要之時間。類似之用語有潔淨度下降可能性。 |
Clean down capability 洁净度下降可能性 | ||
G4162 | Surface contamination by particle 微粒附着表面污染 | 系指被当作对象物体之表面，受到微粒污染者，或被污染之状态。对漂浮微粒会吸附物体表面，虽会受静电力（库仑力），重力，布朗（ brown）扩散等干预。其径粒在2μm以下之微粒全然受到静电力之干预。 |
G4163 | Metal contamination 金属污染 | 系指洁净空气，晶圆表面等，受到金属微粒或金属离子污染者，或被污染之状态。 |
G4164 | Chemical contamination 化学污染 | 系指洁净空气，晶圆表面等，受到化学药剂等之瓦斯，雾（mist）或烟雾（fume）等污染物，或被污染之状态。此一化学污染，不仅要留意生产面，连针对工作人员之卫生面亦必须加以考量关照，其散到洁净室以前，必须采取局部对策。 |
G4165 | Airflow velocity 气流速度 | 系有关层流型洁净室中，形成层流之气体速度。此一气流速度需考量微粒污染物之排放能力，热气流之影响下降，及省能源等，一般而言，0.25—0.5m/s之气流速度被采用之。 |
G4166 | Airflow parallelism 气流平行度 | 系指有关层流型洁净室中，形成层流气流之直线性或平行性。在垂直层流型洁净室，若送风室(supply chamber) 与回风室 (return chamber)间之压力损失较大时，气流将有偏流，有时无法获得层流。一般而言，气体偏流角可调整在140内。 |
G4167 | Airflow visualization 气流形象化 | 系使用一束羽毛（tuft）或纯水雾（mist）籍以看到洁净室内之空气流动者，或可看到之状态。此一气流形象化可利用于垂直层流型结晶使之气流调整，制造装置之形状或配置决定等。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4170 | Chemical filtier 化学过滤器
| 系以去除空气中的气体污染物为目的的过滤器。此一过滤器主要用在吸取外来气体及排气处理，而使用各种有特色的吸附剂。就近年被注目的洁净室循环空气过滤器而言，对有机性气体之吸附使用活性炭，无机性气体使用离子交换树脂及赋活活性碳。 |
G4171 | Boron free filter 无硼过滤器 | 系指素材内不含硼的过滤器。通常以硼矽玻璃（boron silicate glass）纤维为过滤材料的HEPA,ULPA过滤器,因会缓缓释放而成为电晶体特性参差不齐的原因之一。因而研发了不含有硼之PTFE薄膜，或石英玻璃纤维等作为过滤材料之过滤器，就广义而言，对硼矽玻璃纤维涂敷一层薄膜，籍以抑制硼释放的过滤器，亦可以称为无硼过滤器。 |
G4172 | Eyelid 垂幕 | 系指作为调整洁净室内气流图案，遮断紫外线为目的，从天花板下垂之幕谓之。因与分隔板不相同，可自来往对维修作业有诸多优点，但是，对微粒子遮断面而言，较分隔板或廉幕为逊色。此一方式可使用与大房间方式的洁净度领域区分。 |
G4173 | Plenum | 系指内部压力较大气压为高状态之空气所充满的空间谓之。或充满物质之空间。 |
G4174 | Hook up | 系指对半导体制造装置连接电源，给水，排水，排气等公用设施谓之。偶而亦可当作半导体制造装置之安装使用。 |
G4175 | Sequential sampling method | 系属于高洁净度空间之洁净评价法之一种。将空气连续加以取样，若微粒子之累计个数进入评价线图所设定合格区域时，当作已满足所设定洁净度。评价线图可由泊松分布(Poisson distribution)之区间推定,来决定合格区域。 |
G4176 | Outgassing 排气,释放气体 | 系指从材料释放气体。洁净室建材及各种制造装置，使用各种各样之材料。经由材料长期释放，诸如氨等无机气体及Dop等有机气体，而对晶元制造有不良影响者，为此,对使用材料之选择要有充分研讨之必要。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4201 | Distributed process input output control equipment 分布型制程输入输出控制装置 | 分布型设置在制程单位,为进行针对制程之输入输出信号处理,及控制演算除处理之装置.其处理系以内建之微电脑来进行,有中央加以集中管理,在终端实现控制,就全系统而言,可提高可靠性与响应性. |
G4202 | Transmission converter 传送变换器 | 系指为传送信号或量,将其变换成其他信号,或改变其信号大小功能装置. |
G4203 | Temperature and humidity sensor 温度湿度感测器 | 系将温度或湿度当作电气信号,加以检测之感测.将测温电阻体,热电偶及热敏电阻( thermister)多当作温度感测器使用.湿度感测器系以使用氯化锂水溶液,图敷在湿度元件上者为多. |
G4205 | Pressure sensor 压力感测器 | 系经由隔膜（diaphram）将被侧压力变成变形量，在经由半导体应变计(strain gauge)监测变形量，再放大到所指定输出装置。亦可经由巴登管 (bourdon tube) 接受压力，而可检测出巴登管(bourdon tube)变为之方向。 |
G4207 | Flow sensor 流量感测器 | 系指流体通过管路断面时，可测出其对时间比例量之感测器。此一感测器有容积式和压差式，由横切磁场之导电性流体，所感应电压来求得之电磁式，及利用超声波传播速度变化之超音波式。 |
G4208 | Seismometer/seismograph 地震计、地震仪 | 系可检测地震之装置，若地震震动达到设定位阶（250gal重力加速单位）时，会发出警报。 |
G4209
| Central monitoring and control system 中央监控系统 | 系指从中央监控室将设备制运转状况集中加以监视与控制之系统。由于集中化，可图谋监视，操作，控制及维修各功能之效率与能力之提升，且可获得设备运用之省力，省资源化，及安全性与可靠性之确保。近年来采用电脑之功能分散型系统居多。 |
G4210 | Access control 人员进出管制 | 为要维持洁净室内额洁净度或保持机密，对特定人员或人数加以限定的管理。利用ID卡与读卡机(card reader)对照后，将电子锁码解开，或利用CCTV或对讲机加以确认的方法。 |
G4211 | Cleanliness control 洁净度管制 | 系指在洁净室内的几个特定位置，使用微粒计数器作连续或一定时间，对飘浮微粒数加以侦测，将洁净室洁净度作经常管理的系统。若洁净度下降时，须要变更换气次数，或实施进房人数的限值等对策。 |
编号 | ||
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4401 | Electrical transmission and distribution systems 输配电系统 | 是指接受电力公司之供电，变换成各种电力负载之不同设备。其设备由变压器，短路、过电流保护装置二次配电用段流气等所构成。 |
G4402 | Non-utility generation facility 业者自备发电设备 | 是指与电力公司供电有别，由业者自备之发电设备。此一设备是以柴油引擎火器涡轮机为原动力，启动时需要从数秒分之时间。此一设备，是以供应消防设备或公安设备等电力为目的的者居多。 |
G4403 | Cogeneration 汽电共生发电 | 是以石油或瓦斯为燃料，来驱动柴油引擎，七涡轮机，或气涡轮机，变换成动力或电力，再将其所排放热量用作暖气、热水之热能，籍以提升其燃料之使用效率为基本考量之汽电共生发电方式。 |
G4404 | Uninterruptible power supply 无中断电力供应系统 | 是指不允许有瞬间停电之负载供电装置。此一装置是以交流变换成直流，而蓄电在蓄电池内，再将此一直流变换成交流，籍以供应负载之方式居多。因此一变换装置，因具有定电压，定频率之输出特性，亦可简称为CVCF。 |
G4405 | Ground / earth 接地设备 | 是将机器之一部连接到大地同一电位之接地埋设电极，或配线、端子箱之总称。就电力设备而言，有第1-3种类别，其它尚有仪控信号用，避雷用，遮蔽用，及确保公安等目的。 |
4．5 环境分析仪器用语
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G4501 | Particle counter 微粒计数器 | 系能将飘浮在空气中的微粒大小与个数，连续加以量测的机器。此一仪器系将镭射光或百射光，照射于含有微粒的气流，而将来自微粒的散射光，加以检测成电气信号来表示之。 |
Dust counter 灰尘计数器 | ||
Light scattering particle counter 灯光散射微粒计数器 | ||
G4514 | Noise meter 噪音计 | 系以无方向性麦克风收集的声音，而以具有人类耳朵频率特性的听觉补偿电路（通常具有A,B,C的3种特性）加以近似人类耳朵所能听觉的声音加以再现的仪器。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G5001 | Non-combustible material 不可燃材料 | 系指针对通常的火灾热度，虽多少会熔融或产生红热，在燃烧过程并不会产生损伤，且 防火上亦不会产生有害烟雾气体的材料。除了不可燃材料外，对应防火性能有次不可燃 材料，难燃材及较难材料。 |
G5002 | Fire protecting door 防火门 | 为将火灾的延烧控制在每一防火区域，对于有可能来自外界的延烧开口部，或在防火区域的出入口所装设的门。为预防逃难，门必须开向逃难方向。构造可分为甲级防火门及 乙级防火门。 |
G5005 | Smoke detector alarm 烟雾探测警报器 | 系指当建筑物内发生火灾的初期阶段，能检测因火灾所产生烟雾等燃烧成份，而以警铃 或警笛等的扩音设备，告知工作人员已经发生火灾的设备，依次一探测器动作原理的不同，有电离化式或光电式。 |
G5006 | Heat detector alarm 高热探测警报器 | 系指当建筑物内发生火灾的初期阶段，能检测因火灾所产生高热，而以警铃或警笛等扩音设备，告知工作人员已经发生火灾的设备。依次一探测器动作原理不同，有到达一定温度始会动作的定温式，到达一定温度上升率以上即会动作的差动式，以及兼并两方式性能的热复合式等。 |
G5007 | Electric leakage alarm 漏电警报器 | 系由变流器，收音机及警报器所构成，当建筑物内的电气配线、机器设备等流出一定量以上的泄漏电流时，会自动监测警告工作人员的设备。 |
G5008 | Gas leakage detector alarm 瓦斯洩漏探测警报器 | 系由瓦斯泄漏警报器，中继器。收信机及警报器构成，可用来检测可燃瓦斯，或有害瓦斯的泄漏，而向工作人员发出警报的设备。此一探测器有半导体式，与接触燃烧式等。 |
G5009 | Gas concentration sensor 瓦斯浓度感测器 | 系可检测空气中的H2.,SiH4,AsH3,(arsine)等危害瓦斯，或制程瓦斯浓度的感测器。可燃瓦斯系以燃烧微量来测试温度变化，而对极微量瓦斯的侦检即瓦斯色层谱术（gas chromatography）。 |
G5011 | Emergency broadcasting system 紧急广播系统 | 系能将灾害的发生，迅速且确实的通报对象全区域，为要能引导人员至安全区域，专指能引导人员逃难至安全区域，专指由操作装置，放大器，启动装置，指示灯，扩音器，电源及配线等所构成的设备。就紧急广播外，尚有紧急警铃及自动式警笛。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G5012 | Emergency telephone 紧急电话 | 系当作紧急广播设备启动装置所使用的专用电话（包括对讲机）。若将发收话机拿开不用，即可将紧急广播设备置于广播状态。 |
G5013 | Emergency exhaust system 紧急排气系统 | 系指当洁净室内由H2.,SiH4,AsH3等危害性瓦斯、有毒性瓦斯泄漏时，为确保安全可自动紧急动作的排气设备。特别作为圆筒状容器（cylinder cabinet）或特殊材料瓦斯的处理场所，备有可排除灾害设备的紧急排气处理装置。 |
G5016 | Emergency light 紧急照明灯 | 系指在停电时，经由预备电源以照度1 1x以上，最低限度可供连续30 分以上避难行动的照明设备。照明器具及配线等的耐热性，以及预备电源的瞬间启动性、持续性都有所要求。 |
G5017 | Illuminating exit sign 通路引导指示灯 | 系指灾害发生时，为使工作人员易避难，备有能在停电时连续点灯20分以上的蓄电池，可供出入口，楼梯间等避难门口，加以明示的指示灯，原则上应设在避难门楼的顶头上。 |
G5018 | Illuminating exit route light 自动灭火喷水系统 | 系指灾害发生时，为使工作人员容易避难，备有能在停电时可连续点灯20分以上的蓄电池，除可供明示避难方向外，亦能给避难通路地面有效照明的指示灯。此一指示灯有走廊通路指示灯，室内通路指示灯及楼梯间通路指示灯。 |
G5019 | Sprinkler system 自动灭火喷水系统 | 系指当火灾发生时，因燃烧的热气将排列在天花板上灭火用喷水头的对腊加以溶解，水靠自然落差压力自动喷出雨滴状的水，系适合与一般火灾的固定式自动灭火设备。 |
G5029 | Emergency wafer shower 紧急淋浴设备 | 当在处理化学药品的作业场所淋到药品时，可将多量的水从头部淋浴到全身的淋浴设备。 |
G5030 | Eye washer 眼睛洗涤器 | 当化学药品等有害物质进入眼睛时，将眼睛面向喷水口，具有洗涤眼睛的盘状冲水设备。 |
G5031 | Safety glassed 安全眼睛 | 系在处理或产生化学药品、粉尘等作业场所，为防止异物进入眼睛，或为保护眼睛受到高亮度的镭射光，所著用的眼睛。 |
G5032 | Gas mask 防毒气面罩 | 当在瓦斯、蒸汽或与此等混合的粉尘环境作业，为防止因吸入影响身体健康时，所使用具有吸氧过滤机构的面罩。面罩的面体有可覆盖脸全部的全面型，以及罩住口鼻部位的版面型等面罩。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G5033 | Self-contained breathing apparatus 自给式呼吸器 | 当发生火灾，在缺氧或有毒瓦斯产生场所作业时，所使用自备空气的自给式呼吸器。使用时间因不是很久，仅供紧急或急救用。 |
G5036 | Total quantity restriction 总量限制 | 为保护地球环境及防止公害，系针对某地域或事业工厂所排放的废水，废气等总排放量加以规章的制度，或加以限制外，尚有浓度限制。 |
G5037 | Allowable concentration 允许浓度 | 系指一般人在含有有害瓦斯的环境下，进行一日8小时中程度的作业，且长时间连续工作亦不致损害健康程度的瓦斯浓度界限值。此一浓度界限值应依据美国产业卫生评鉴会议（SCGIH）的劝告门槛限值（(threshold limit value,简称TLV)参考订定。此外，所谓有毒瓦斯，系指允许浓度在200ppm以下者。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6101 | Computer integrated manufacturing (CIM) 电脑一贯作业制造 | 系鉴与生产所有咨讯，使用电脑网路及资料库(data base)，经由总括的控制与管理，图谋生产活动最适化的系统。 |
G6103 | Local area network 区域网路 | 系指分散配置在企业内，经由附加多数的通信功能[诸如计算机，终端机及FA(factory automation)等机器]，彼此间互相连接一起，将咨讯通信加以高速且有系统的进行者。例如半导体制造工厂的案例，系以工厂单位，生产线单位，区块单位(block)等，较狭窄范围所购筑以太网路（Ethernet），所代表的高速网路。 |
G6105 | Terminal 终端机 | 系指以主机(host computer)为主的资讯，为能在线上加以操作的通信终端机。终端机可以设置在离电脑主机很远的地方，然后透过各种通信线路与主机连线作业。位在洁净室内的生产线终端机，可进行制程资讯的确认，有时在自动化线有故障时可进行紧急对策。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6106 | Host computer 电脑主机 | 1． 中央处理器，能把计算机能力提供给与其相连的终端设备和周边设备。 2． 远程网路或本地网路对话间的主营计算机。 3． 在计算机网路中，对终端用户提供计算，或例如资料库存取的服务 4． 一般指处理速度快，主记忆容量大，能够连接数个小型电脑和终端机的大型电脑而言，并提供复杂的计算、单杠的存取和各种程式语言等服务。 |
G6107 | Block host computer 区块主机 | 另称区块控制器（block controller）或功能胞控制器(cell controller)。若要构筑分散处理系统时，将同一功能的装置，按每一线或每一功能胞业总成单位，进行资讯、控制用控制器。 |
G6109 | Semiconductor equipment community standard 半导体制造装置共同基准 | 系指将半导体制造装置与工厂的电脑足迹，以通信线路为媒介，互相加以连接的规格。 |
G6110 | Communication protocal 通信协定 | 系指当经由电脑进行通信之际，有关通信手续的规章约定。 |
G6112 | Process recipe 制程处方
| 系在事前准备，以可再利用指令、设定值或辅助变数，经由制程执行资源加以控制，而将从材料面所看制程环境加以设定者。有时处方按每次执行时或每一制程周期会被加以变更。 |
G6113 | Material movement information 物料输送资讯
| 系意味着与输送有关的所有资讯。其所显示范围属广域。就目前的自动输送系统而言，不仅为输送物料，依实际需要经由电脑来管理输送资讯[诸如，批次号码（lot No.）、匣盒号码(cassette No.) 。从何处至何处(From-To0等等，已成为常识。类同的英文用词有 Transportation information。 |
Transportation information 输送资讯 | ||
G6114 | Process information 制程资讯 | 系为管理完成的过程，构成该过程的种种要素，或显示该等要素的顺序关系等咨询。 |
G6115 | Lot 批 | 系指材料、零件或产品等单位体或单位量。由其目的批量可成为订货批量。采购批量，生产批量，运输批量，检查批量等。 |
G6116 | Work in process (WIP) 处理之中工作 | 系指处理中的材料。或投入制程内的所有半成品谓之。 |
G6117 | Data base system 资料库系统 | 系指按多目标且容许软性检索，所管理的资料堆积系统，或应多数的独立使用者要求，将资料加以接纳、储存，或为供应资料的堆积系统。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6118 | Process management system 制程管理系统 | 系按产品种类不同，对每一装置或每一制程，所设定处理条件的管理。先确定是否按所设定条件，材料被正确加以处理，并作制程良率的判定，及执行处理条件的归属处理。 |
G6119 | Production management system 生产管理系统 | 系指为涂抹最妥适的生产，所编成诸管理活动的总和系统。 |
G6120 | Production schedule 生产预定计划 | 系指对工厂生产活动的理想状态与水平，加以决定或被决定者谓之。 |
G6121 | Equipment utilization management system 设备利用管理系统 | 系将设备履历资料（诸如，运转率，现在状态）加以监视，而进行今后装置的保养或校准的预定规则。 |
G6122 | Work in process tracking system 工件处理中的追踪系统 | 系指工作进行状态的统治体系谓之。亦可说系进度管理或按期管理。为应日程进度计划将缴纳日期加以维持，须将每天工作的进度加以整修，而成一串业务的重复。 |
G6123 | Quality control system 品质管理系统 | 系将符合于卖方要求品质的商品或服务项目，为能经济地制造出来的管理系统。 |
G6124 | Reliability availability maintainability (RAM) 可靠性、可用性、可维护性
| 系指与半导体制造装置有关的可靠性，可用性及可维护性，作为用语或装置状态的定义，以及将这些测试、评价方法的指针，加以订定的规格。 |
G6125 | Equipment reliability 设备可靠度 | 系指装置在规定条件内，在规定时间内，可达成所定功能的机率。 |
G6126 | Equipment maintainability 设备可维护度 | 系指在指定时间内，至完成计划功能状态为止，能使装置复员的机率。 |
G6127 | Equipment availability 设备可用度 | 系指当装置被要求时，能独自完成该计划功能的机率。 |
G6128 | Up time 正常运转时间 | 系指制造装置，处于能完成所计划功能状态的时间。此一时间包括生产，准备及加工处理，但并不包括非计划的时间。 |
G6129 | Down time 故障时间。停机时间 | 系指制造装置，处于不能完成所计划功能状态的时间。单不包括计划外的时间。 |
G6130 | Mean cycle between failure 平均间隔周期 | 系指平均失效间隔内制程的重复。亦系指装置的失效与失效间，装置重复制程的平均值。系将全装置的制程重复以失效次数除之商值（包括生产的制程重复与非生产的制程重复）。 |
G6131 | Mean time between failure 平均失效间隔时间 | 系指平均失效间隔（生产中）时间。亦系在装置的失效与失效间，已达成计划功能时间的平均值。系将全生产时间以该时间的失效次数除之商值。有关此一计算仅包括生产时间。在6分钟以内称为平均辅助间隔时间MTBA(mean time between assist)。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6132 | Mean time to repair 平均维修时间 | 系指平均维修时间。系修理故障直到装置完成该计划功能状态为止，完全复员所需要的平均时间。系在指定时间内，将故障修理时间的总和(虽包括装置与处理工程的试验时间，但修理延误时间并不包括在内)，以该时间的故障次数除之商值。 |
G6133 | Preventive maintenance 预防维修 | 系指预防处理，装置测试及制程测试的总和。 |
G6134 | Work in process (WIP) tracking 工件处理的追踪 | 系在生产线上，处理中的工件（WIP），位在何处，处于何种状态（例如，加工中或背保管中），加以正确的监视及追踪的系统。此一资讯可利用用于作预定计划 （scheduling），以及制程履历管理。 |
G6135 | In-line processing 线内处理 | 系结合多数装置，可构成可以实现综合功能的线内处理。例如，有光刻照相术（photolithography）制程涂敷装置，曝光装置，显影装置，洗涤装置及检验装置等编组。 |
G6136 | Off line process 离线处理 | 系指没以电脑主机的连接，而以装置单体所执行的装置。操作者从装置的操作盘进行操作及监视 |
G6137 | On line process 线上处理 | 系指在电脑主机的管理下装置所执行的处理。主机系以通信为媒介，将装置的状态加以监视，且进行处理的控制。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6201 | Air (gas) floating transportation system 飘浮空气中输送装置 | 系指不与输送管道碰触，而可将晶圆加以输送的装置，将输送管道开启多数小孔，从下端喷出空气（或气体），籍以将晶圆加以飘浮起来。其移动系靠空气（气体）的推力或线性马达来达成之。 |
G6202 | Cassette identifier (ID) 匣盒识别符号 | 系指为谋求晶圆存放匣盒与管理资讯间的一致，所附加易于搜寻的媒体。此一媒体有条形码（bar code），ID标签，磁卡及IC卡等方式。 |
G6203 | Automatic guided vehicle (AGV) 自动导引地面运输工具
| 系指在无轨道上行走，可搭载产品、机器零件，而以电磁驱动的无人运输车。其引导系追踪贴在地面上得导引胶带来行走。 |
G6204 | Automatic guided vehicle with robot 自动导引机械人运输车 | 系指在上搭载机械人，可将产品的搭载卸载与运输，自动加以执行的装置。该机械人运输车因在各自制造装置间移动，因而须对装置全体施加防尘对策。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6205 | Clean robot 洁净区机械人 | 系可在洁净区使用，具有防灰尘、无冲击控制，及防静电等功能的机械人。亦系对应于洁净环境的产业用机械人的总称。 |
G6206 | Single wafer transfer system 单片晶圆输送系统 | 系指将晶圆从某一位置，逐片个别输送至另一位置的装置。 |
G6207 | Cassette load wafer transfer system 盒装式晶圆输送系统 | 系将晶圆搭载在匣盒（cassette）内，以匣盒单位由某一位置，输送至另一位置的装置。 |
G6211 | Clean stocker 洁净储存库 | 系指为将收纳在匣盒的晶圆，保存且保管在高洁净环境的储存库。 |
Clean storage equipment 洁净储存设备 | ||
G6212 | Stacker crane 堆叠起重机 | 系洁净储存库（自动仓库）构成要素之一。系指将收纳有晶圆的匣盒，逐一摆放在匣盒棚架，或从匣盒棚架取下的升降装置的总称。 |
Cassette lifter 匣盒升降机 | ||
G6213 | Pallet 平板架，平台 | 系保管或输送物品时，可摆放物品的平台。 |
G6214 | Standard mechanical interface 标准机械台面 | 系属于可将制造装置间的界面，加以统一规格之一种。其简称SMIF，其代表范例有 Pod ，及roller等。具有此一界面功能的晶圆输送携带盒（wafer carrier box）已被发表。 |
G6215 | Transportation between processing unit 制程区间输送 | 系由多数个制造、检查装置所构成之一部分区间，当作一个制程，在此系将该等制程间晶圆等输送，可自动进行的总称。此一用词已很少用而由Interbay transportation所取代。 |
G6216 | Automatic transportation system 自动输送系统 | 系制将输送设备，保管设备，输送管理设备等加以装配在一起的自动化的总称。 |
G6217 | Interbay transportation 制程间输送 | 在半导体制造过程中，将成膜组，洗涤组等各制程组，当作一个制程来看时，系指将此等制程加以连接的输送。一般而言，每一制程都有其制程专用的暂存盒（stocker ），所谓制程间的输送，大都属于暂存盒间的输送。 |
G6218 | Intrabay transportation 制程内输送 | 在半导体制造过程中，将成膜组，洗涤组等各制程组，当作一个制程来看时，系指将此等制程加以连接的输送。一般而言，每一制程都有其制程专用 的暂存盒，所谓制程内的输送，系属暂存盒与制造装置，或制造装置间的输送。 |
G6219 | Interlevel transportation 层阶间输送 | 系指将不同层阶间的输送的输送机器而言，有洁净升降机(clean elevator)及洁净升降杆(clean lifter)。类似的用语有interfloor transportation。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G6220 | Pushcart/personnel guided vehicle/manual guided vehicle 手推车/个人引导车辆/手动引导车辆 | 系依作业员的推力行走的台车。最近已有在台车上搭载搬运装置，或HEPA单位的台车。随着晶圆的大口径化，今后此一型手推车将日益盛行。 |
G6221 | Clean elevator 洁净升降机 | 系移动于垂直方向的输送机器。与一般的送菜用升降机(dump waiter)有所不同，其特点系可防止被输送物来自环境的污染。跨接于层阶间者称为洁净升降机，跨阶于同一层阶不同高度者，称为洁净升降杆(clean lifter). |
G6222 | Conveyer（conveyor） 输送带 | 一般而言，系指（可连续搬运货物的机器）。就半导体制造用而言，与使用在普通环境者不同，需采用可对应于洁净室的不易产生灰尘者。 |
G6224 | Ceiling-track guided vehicle / overhead track guided vehicle (OHT) 架空轨道导引车 | 系沿着架设在天花板高度空间的无人输送车，其轨道大都属于悬吊式。 |
Overhead transportation system 悬吊式输送系统 | ||
G6228 | Transportation amount 输送量 | 系表示输送设备等输送能力的数值。此一数值对输送设备加以计划，设计，评价上，将成为重要的数值。若以50个匣盒每小时的输送量为例，为对应于生产计划，有需要将最大值与平均值，通常值与紧急值，现在值与将来值，从各种角度加以捕捉的必要。 |
G6229 | Open manufacturing system 开放型制造系统 | 系指晶圆在制程装置间移动时，与洁净室空气接触的制造系统。 |
G6230 | Closed manufacturing system 密封式制造系统 | 系指将制程撞间，以隧道等加以连接，避免晶圆与外界空气接触的制造系统。 |
G6231 | Stocker 保管库 | 系由保管架，堆叠起重机，进出库部所构成的自动残酷的一种。系将被保管物维持在洁净环境下，为其特点。 |
编号 | 用语（英文/中文） | 用 语 说 明 |
G7006 | Life cycle assessment 寿命周期评估 | 系将产品或系统，从其制造至废弃为止，对环境负荷加以评价谓之。从天然资源的采用，经制成材料成物品，被输送及被使用，直到成为耗散能量，或不能回收的废弃物，被加以处分为止，加诸于所有环境的负荷，总加起来作一评价。 |
| G7010 | Recycle 再循环，资源回收再利用 | 系指一度被使用或没被使用而加以收集，或对被废弃的物品中，认为再利用原材料者，称为再循环利用。 |
完结——以下无正文
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