PCBA失效分析丨BGA焊点失效该如何做金相切片分析?(2合1)

文摘   2024-11-13 23:59   广东  

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PCBA电子产品焊点失效金相切片分析
详细流程及案例分享

切片目的:电子元器件表面及内部缺陷检查及SMT制程不良分析主要为BGA焊点失效分析;镀层厚度测量;PCB及元器件异常状况分析。

适用范围 : 适用于电子元器件结构剖析,PCBA焊接缺陷,焊点上锡形态及缺陷检测等。 

实验原理: 切片分析实验是将检验样本表面经研磨抛光(或化学抛光、 电化学抛光)至一定的光滑要求后,以特定的腐蚀液予以腐蚀,用各相或同一相中方向不同对腐蚀程度的不同 (anisotropy) 而表现出各相之特征,并利用显微镜放大倍率观察判断。

相关设备:精密切割机、研磨及抛光机、金相显微镜、真空包埋机。

相关材料:环氧树脂、砂纸、切削液、脱模剂、抛光液、抛光布、蚀刻液(氨水+双氧水5%-10%)、镶埋盒、量杯、玻璃棒。

标准规范:IPC-TM-650 


相关设备介绍

设备名称:切割机

用途目的:切割材料成适当大小试片,以便后续镶埋。

原理介绍:利用砂轮锯片或砖石锯片高速旋转,将样本切割。


设备名称:真空包埋机

用途目的:灌胶后在真空环境下去除镶埋磨具中的空气。

原理介绍:电机将密封的包埋机种中的空气抽出。


设备名称:研磨抛光机

用途目的:研磨以及抛光试样表面,为金像观察以及摄像前处理工作。

原理介绍: 利用砂纸上之砂粒或抛光液中之抛光粉与试片表面的物理摩擦作用,对试片表面进行研磨或抛光处理


设备名称:金相显微镜

用途目的:材料或产品表面质量观察或切片焊点失效分析,并能实现微小尺寸的软件测量。

原理介绍:金像显微镜光源发出的光线经物镜照射于金像试样表面,取决于表面显微组织特征而形成的强弱不同的反射光线再经物镜以及目镜放大后进入观察孔,观察者可由观察孔看到放大后的反映组织形态的图像,或经转换后成像于显示器上。


切片基本信息

切片分为:垂直切片和水平切片

水平切片位置示意图

水平切片照片


垂直切片位置示意图

垂直切片检验项目:

  1. PCB结构缺陷:PCB分层,孔铜断裂等;

  2. 产品结构剖析,电容与PCB铜箔层数解析,LED结构剖析,电镀工艺分析,材料内部结构缺陷等;

  3. 微小尺寸量测(一般大于1um):气孔大小,上锡高度,铜箔厚度等 ;

水平切片检验项目:

   1.BGA空焊,虚焊,孔洞,桥接短路,上锡面积等。


切片流程:


切片过程中的注意事项

灌胶:

  1. 灌胶前保证样品的清洁防止灌胶后产生气泡.方法是用棉棒蘸丙酮进行擦拭清洁.或用超声波清洁。

2.取一切片专用模具,涂抹脱模剂,并且将试样竖直于模内(可使用固定夹具),需将待检样品底部水平放置。

3.调配树脂胶混合时将促进剂和树脂充分搅拌均匀。

4.适当提高固化剂的体积含量及适当提高环境温度(比如烘烤),能够缩短固化时间。

5.倒入到模具中时 使用玻璃棒引流,防止产生气泡。

6.将试样放入真空泵中以达到彻底灌封。

7.待树脂在模具内完全固化,此过程中有热量产生。 


灌胶品质与要求

  1. 灌封材料与样品间无间隙。

  2. 灌封材料无气泡。

3.灌封材料灌满PTH孔。


研磨

1.手持样品切片时,千万不可用力,否则就会偏离平衡.轻轻拿,慢慢放,稳稳找平 

2.用180号砂纸粗磨刚脱模样品,接近PTH孔壁边。

注意:大量水洗,以防止烧焦对样品破坏,并冲走磨碎。

3.依次用,800,1200,2400,4000号砂纸精细研磨样品,最后磨到PTH孔中心, 磨时用大量水洗.在精细研磨中,磨盘转速度为200到300转每分钟.在两相邻的研磨,旋转样品90°,研磨时间为磨掉前道研磨的磨痕的时间的2到3倍.在换砂纸间检查样品,可确认磨痕是否磨掉.研磨平面在同一水平面上很重要。

3.用流水冲洗后,用过滤空气吹。 

4.研磨过程效率不宜过快,效率越快单位切削越强,样品标本的形变也 就越大,导致后续细磨和抛光过程中,消除形变的时间变得越久。


抛光

  1. 抛光的主要作用是消除细磨过程中的形变.应当依次对每个方向都均匀进行抛光,以消除各个方向在细磨过程中所残余的形变。

2.抛光布:软、织布或中绒毛布,抛光液:1到0.1微米钻石抛光剂、0.05微米氧化铝或其它氧化物。         

    时间:    抛光剂为氧化物或二氧化硅时,抛光时间10到20秒; 

                  当使用钻石抛光剂和软织布时,抛光需要几分钟。

    转速:    使用的抛光速度为100到1 50转每分钟。

抛光后效果:

1.没有大于被最后的抛光膏引起的磨痕。

2.没有铜渣镀到PTH或基材中。

3.切片平面在孔中心。如果研磨不够,那么要求再研磨和重新抛光。


微蚀液

  25毫升3—5%体积比的双氧水

  25毫升氨水(25—30%)

 1.使用合适的微蚀液擦切片样品;

 2. 时间为2到3秒。

注意:过蚀将造成铜箔和电铜分界线模糊,使测量不准。

 3.用流水或去离子水清洗,除去微蚀剂。

 4.用溶剂洗后吹干。


垂直切片示意图

IMC(Interllic compound)介面合金共化物:

焊锡与被焊金属之间由于原子间的扩散作用,原子间相互渗入,结合,在高温中快速形成一薄层类似“锡合金”化合物。


IMC层基本特性

1.IMC在PCB高温焊接或锡铅重融时才会发生,其生长速度与温度成正比,常温下较慢.直到全铅的阻绝层才会停止。

2.IMC本身具有不良的脆性.影响焊点的机械强度及寿命,尤其是对抗疲劳强度影响最为严重.而且其熔点也较金属要高。

3.由于焊锡在介面附近的锡原子会逐渐移走,而与被焊金属组成IMC,使得该处的锡量减少.对于有铅焊接工艺,使得该处的锡量减少,相对的使铅含量的比例增加,以致使焊点展性增大及固着强度降低,久之会出现多铅的阻隔层,使整个焊锡体的松弛。

4.一旦焊垫上原有的熔锡层或喷锡层与滴铜之间出现“较厚”间距较小的IMC层后,对该焊垫后续再做焊垫有很大的妨碍;  也就是在粘锡性和焊锡性上都会出现劣化的情形。

如HASL退润湿拒焊现象,在板厂时已生成劣质Cu3Sn合金化的IMC死锡。

5.焊点中由于锡铜结晶或锡银结晶的涌入,使得该焊锡体本身的硬度也随之增加,久之会有脆化的隐患。

劣质的IMC层


良好的BGA焊球


BGA焊点气泡空洞


BGA相邻焊点短路


BGA焊点冷焊、不熔锡、生锡、锡未熔(半生田



BGA焊点拒焊


绿油起翘灌锡


垂直焊盘切片-OK


水平切片-OK


垂直焊端切片-OK


电极的裂纹伤切片


电容切片-NG


电阻切片-NG


仿真人体带 8000V静电放电 ESD放电 3次放大 3000倍


仿真EOS放电


PTH切片的图片

孔内填充上锡高度75%,环绕360,拐角OK


不良焊点孔盘不上锡,拐角OK


左边拐角左OK,右边拐角扩散润湿不足NG


蘑菇头切片后的图片

焊锡未与孔壁实际焊接,中间存在空洞,焊点受到外力时容易脱焊




     



(篇2)金相切片试验流程

对标友商设备

厂商:BUEHLER  型号:ISOMET 1000

切割出的样品须符合样品包埋盒的尺寸

1.具有完整切割能力,可不破坏样品结构进行切割;

2.切割材质广泛,包括:岩石、塑料、生物材料、矿物质、   陶瓷、电子元件、金属;

3.最大转速为1000转/分

A实验室:采用ZINIZ 210金相取样机对样品进行切割

样品切割

  1. 样品切割是否水平的确定方法

如上图所示,将样品观察面立在水平桌面,若样品与桌面垂直,说明观察面切割或研磨质量好;如样品立在桌面上倾斜,可通过多次研磨立在桌面上验证后,达到样品切割质量

2.样品切割及样品夹使用判定

a.根据PCB板厚度,确定是否使用样品夹:
b.对于不使用样品来的切片,为了减少切片在灌封固化前偏斜或倾倒,在对观察位置不造成影响的前提下尽量做得矮宽些;
c.为了保证后续研磨抛光的质量与方便程度,灌封后试样高度不应过低。

封胶调配

A实验室:采用FA2204B电子天平对封胶的称量

高精度、环境适应性强等特点,(称量范围为220g,去皮范围为220g,精度为0.0001g)
性能稳定,反应速度快
A使用的灌封胶为buehler环氧树脂, 赛宝实验室使用的灌封胶为特鲁利环氧水晶胶(固化时间不稳定)

B实验室:B实验室所用灌封胶是特鲁利环氧水晶胶,对于环氧树脂与固化剂没有严格的配比要求,B实验室不对灌封胶进行称量

 真空含浸(包埋)

A实验室:采用Cast N‘ Vac 1000真空浸渍机对样本抽真空


  • 从样品中抽出空气,减少样品与固化胶之间的缝隙,这样一来即使研磨/抛光脆弱的样本也不会受损

  • 可同时对几个样品进行包埋

  • 包埋时间为30分钟


包埋盒

包埋样品

烘烤固化

A实验室:采用STWZ远红外鼓风烘干箱对样本烘烤固化

  • 将样品投入烘箱进行烘烤,使灌封胶加速固化。当要采用烘烤加速固化时,应向胶体供应商询问烘烤温度
  • 标乐EPOKWICK环氧树脂组---烘烤固化35℃-38℃,固化时间1.5-2小时
  • 并非所有灌封胶均可以使用烘烤的方法进行加速固化,当不能烘烤固化时,应在实验室室温条件下固化
  • B实验室:采用DZF-6020 真空干燥箱对样本烘烤固化


研磨抛光

A实验室:采用Buehler EcoMet250+AutoMet250研磨抛光机、砂纸、抛光布及相应抛光液对样品研磨抛光

研磨抛光机
厂商:BUEHLER 
型号: EcoMet250+AutoMet250

  • 稳定和可重复的样品制备,能够进行手动及半自动样品制备

  • 可同时进行多个样品的研磨,提高效率

  • B实验室:采用ASIDA爱思达双盘研磨机(手动研磨抛光),砂纸、抛光布采用的是特鲁利供应的,抛光液是Buehler供应的


砂纸、抛光布及抛光液  厂商:BUEHLER

砂纸、抛光布

抛光液

A样品研磨抛光步骤


步骤
表面
磨料
润滑液
压力
时间
转速
1
砂纸
P180
25N
研磨至即将观察位置
300~400rpm
2
砂纸
P600
25N
1~3min
300~350rpm

3
砂纸
P1200
20N
1~3min

300~350rpm

4
砂纸
P2500
20N
1~3min

300~350rpm

5
抛光布
3um金刚石悬浮液
/
20N
1~2min
100rpm
6
抛光布
0.05um金刚石悬浮液
/
15N
1~2min
100rpm



B样品研磨抛光步骤
步骤

表面

磨料

润滑液

时间

转速

1

砂纸

P180

研磨至即将观察位置

300~400rpm

2

砂纸

P400

1~3min

300~350rpm


3

砂纸

P1200

1~3min


300~350rpm


4

砂纸

P2000

1~3min


300~350rpm


5

抛光布

1um金刚石悬浮液

/

1~2min

100rpm

6

抛光布

0.05um金刚石悬浮液

/

1~2min

100rpm



微腐蚀

------基铜腐蚀
         腐蚀液配置:纯水:氨水:双氧水=40:20:1
  • 基铜上再镀铜:如果基层铜与电镀铜之间的层与层看不清楚而又要求测量电镀铜的厚度。如果切片仅用于检查空洞或其它目的时,可以不要求微蚀处理。

  • 镍上再镀金和基层铜上再镀镍:如果金与镍或镍与铜层相连看不清楚而又要求测量金或镍厚度。

  • 基铜上镀铅锡:如果铅锡与铜之间看不清楚而又要求测量铅锡厚度。

------基铜与焊锡腐蚀
         腐蚀液配置:纯水:氨水:双氧水=40:20:1(基铜腐蚀)
                           酒精:盐酸=5:1(焊锡腐蚀)
  • 焊接后形成的IMC层厚度测量


显微观察

A实验室:采用Leica DM2500M 金相显微镜对切片样品进行检测

仪器型号:LEICA DM2500M 金相显微镜
   外尺寸:500mm*340mm*640mm
   放大范围:50X-1000X
   成像模组:DFC425C 制冷型5百万像素

B实验室:采用NIKON-L200金相显微镜对切片样品进行检测

切片样品

镀层测量

Zoom out 50X

Zoom out 200X

Zoom out 500X

Zoom out 1000X 腐蚀后测量

案例分析

金相检测------案例分析(Cypress)

ZOOM   OUT 200X

ZOOM   OUT 500X
为什么基铜与镍层出现空洞?

ZOOM   OUT 1000X
什么成分?

SEM+EDX检测------案例分析(Cypress)

Ni含量27.68%

Ni含量90.12%
Why?


Cu含量13.31%

Cu含量53.37%
灌封胶里为何含有Cu?


案例分析( Pateo CPU)

PCBA 样品名称: Pateo A1030C-2 CPU
P/N:6101911000911PA-B
数量:2pcs
D/C:Sample1:1213(Cross Section);Sample2:1217(Dye penetration)

PCBA

切割后观察部位

Sample1-for Cross Section

Sample2-for Dye Penetration

Cross Section

The Solder balls pictures are naming flowing arrow

A1~5-50x

A6~10-50x

A16~20-50x

A21~24-50x

A4-200x No abnormal observed

A4-BGA-500x Cracked can be seen

A4-PCB-500x No abnormal observed

A4

A4-BGA-1000x No abnormal observe

A4-PCB-1000x No abnormal observed

A12-200x No abnormal observed

A12-BGA-500x Cracked can be seen

A12-PCB-500x No abnormal observed

A12

A12-BGA-1000x Cracked can be seen

A12-PCB-1000x No abnormal observed

Dye Penetration

Dye and Pry failure mode classificatio


BGA1

Solder insufficient picture


Dye Penetration picture

BGA2

BGA Side-35x No abnormal observed

PCB Side-35x  No abnormal observed

BGA Sample information
D/C:1217(2pcs),1213(1pcs)
No reflow

BGA

Cross Section

Sample1(D/C:1217_first row)

A1~5-50x No abnormal observed

A3-200x No abnormal observed

A3-1000x Cracked can be seen

Smaple1(D/C:1217_second row)
B1~5-50x No abnormal observed

B2-200x No abnormal observed

B2-500x Cracked can be seen

Sample2(D/C:1217_first row)A1~5-50x No abnormal observed

A1-200x No abnormal observed

A2-500x Cracked can be seen

Sample2(D/C:1217_second row)
B1~5-50x No abnormal observed


B5-200x No abnormal observed

B5-500x Cracked can be seen

Sample3(D/C:1213_first row)

A8~12-50x No abnormal observed

A10-200x No abnormal observed

A2-1000x Cracked can be seen

Sample3(D/C:1213_second row)B6~10-50x No abnormal observed

B8-200x No abnormal observed

B8-500x Cracked can be seen

Sample3(D/C:1213_second row)

B7-200x Cracked can be seen

Taking photo under light field condition


B7-200x Cracked can be seen
Taking photo under dark field condition 


B7-500x Cracked can be seen
Taking photo under light field condition


B7-500x Cracked can be seen
Taking photo under dark field condition

完结——以下无正文

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END


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