ADC中的溶剂和小分子杂质,超滤/洗滤如何去除?

文摘   2024-09-17 22:12   山东  

文献阅读

一篇来自AbbVie的研究文献,主要研究了超滤/洗滤步骤,尤其是洗滤步骤中对抗体药物偶联物工艺中的有机溶剂和小分子药物的去除,并对工艺参数的影响也进行了评估

背景信息

文献案例研究中需要去除的有机溶剂和小分子杂质包括:

为了评估上述列出的有机溶剂和小分子杂质的清除率,将每种有机溶剂和小分子杂质以不同水平加标到 34C3 mAb 溶液中,并进行恒定体积 DF。分析在不同 DV 收集的样品中截留物溶液和透过物溶液中每种化合物的浓度。

文献中使用的UF/DF装置如下图所示:

确定UF/DF步骤的有机溶剂和小分子杂质的清除率

在 UF/DF 过程中,筛分因子 (S),定义为透过物中物质浓度与截留物中物质浓度之比,通常用于表征清除率。对加标的样品的进行UF/DF后,分析在不同 DV 收集的样品中截留物溶液和透过物溶液中每种化合物的浓度。为了确定每个物种的筛分因子,将每种分子的浓度 (mg/ml) 的自然对数与 DV 数量作图,线性回归的负斜率代表筛分因子

结果显示,这里测试的两种有机溶剂和所有三种小分子杂质都表现出接近理想的清除率,并且对于使用 7-10 DV DF 的典型工艺,它们的水平得到了很好的控制。

不同抗体中有机溶剂和小分子杂质的清除

还使用第二种 mAb AB095 测试了一种有机溶剂 (DMA) 和一种小分子杂质 (NAC)。

结果显示,尽管 mAb 特性和上样样品成分存在差异,但使用 15 mM 组氨酸 pH 6.0 作为DF 缓冲液,DMA 和 NAC 对这两种 mAb 溶液显示出类似的清除趋势。因此,可以猜测只要杂质与 mAb 或缓冲液成分之间不存在相互作用,这些结果也适用于其他杂质、其他 mAb 或其他缓冲液成分。

不同 UF/DF 条件下 DMA 的清除率

研究了多个 UF/DF 参数对 DMA 清除的影响,包括 DF 缓冲液的 pH 值、mAb 的膜载量、温度、TMP和切向流流速

通过添加HCl将缓冲液pH调节至5.0,或通过添加NaOH将缓冲液pH调节至7.0。

通过将上样样品的体积从 50 增加到 200 ml,同时保持所有溶液组分的浓度相同,34C3 mAb 的膜载量增加了四倍,从 113 g/m2 增加到 454 g/m2。

结果显示,当使用 pH 为 5.0 或 7.0 的 DF 缓冲液测试 34C3 mAb 溶液中的 DMA 清除率时,未观察到对截留溶液的清除率趋势和筛分因子的影响。两种 pH 条件均显示 DMA 的清除率接近理想清除率。在测试范围内,DMA 清除率不受膜载量增加的影响,并且低载量和高载量的筛分因子均接近 1。该结果表明膜载量的操作范围很宽,并且可以容忍可能的更高载量而不影响小分子杂质的清除。

最后,通过四组实验对温度、TMP和切向流速进行了组合研究。

结果显示,尽管这四个实验使用的处理条件非常不同,但 DMA 清除趋势非常一致。从截留溶液和透过溶液计算的筛分因子都非常接近从标称条件获得的筛分因子,接近理想的结果。因此,温度为 12-28℃、TMP 为 12-30 psi、切向流速为 186-420 L m2 hr1 的操作范围对 DMA 的清除率没有影响

总体,这些结果表明,UF/DF 过程中的操作变量(包括 DF 缓冲液的 pH 值、膜载量、温度、TMP 和切向流速)均具有良好的耐受性,并且对 DMA 清除率的影响极小。由于研究中评估的所有其他感兴趣的溶质,即 DMSO、EDTA、TCEP=O 和 NAC,在标称条件下具有与 DMA 相似的行为,因此操作变量对这些物质清除率的影响似乎很小。对于小分子杂质,猜测也会如此。

总结

本研究展示了将来自典型 ADC 工艺的有机溶剂和小分子杂质以相关浓度添加到 mAb 溶液中以提供模拟的偶联后反应混合物的条件。根据这项研究,所有小分子杂质均通过UF/DF(特别是 DF 步骤)有效清除。清除率由筛分因子表征,均接近理想清除率(S = 0.9–1)。根据 ICH 指南,相对于药物(基于 10 克/天剂量),DMA 和 DMSO 的每日允许暴露量分别为 10.9 和 50 毫克/天,或 1,090 ppm和 5,000 ppm。在文献的研究中,在不考虑进一步超滤步骤的情况下,DMA 和 DMSO 在 DF 8 DV时被清除超过 2,000 倍,并在 9 DV 后分别低于保守的 1,090 ppm,在 8 DV 后分别低于保守的 1,090 ppm 和 5,000 ppm。对于特定程序,这些杂质的可接受水平将进一步取决于实际剂量、持续时间和 ADC 的指标。这项研究的结果可以作为逐案评估杂质对 ADC 质量造成的风险的基础。如果 ADC 过程中涉及层析纯化步骤,则杂质水平可能会进一步降低,这将减少 UF/DF 操作之前的溶剂和小分子杂质的量。此外,本研究还评估了 DF 过程中工艺变量的影响,例如 pH、温度、膜载量、TMP 和切向流速,并证明这些变量对清除率的影响极小。这些结果表明,通过 DF 操作可以有效、稳健地清除 ADC 工艺所特有的溶剂和小分子杂质,并提供通用数据包,以促进控制其水平的风险评估。


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