Aaron PV
读完需要
速读仅需 3 分钟
/ UVID 紫外衰减 /
关键结论
UV紫外衰减改善,可以从组件封装材料、电池钝化膜层结构设计两方面改善。封装材料改善方向“过滤紫外线”。 钝化膜层结构设计方向为: 一是增强膜层紫外耐受度; 二是调控膜层H含量; 三是调控膜层固定电荷密度、电性,提升场钝化效果。
前人研究结论
UV衰减和组件封装材料老化相关(变色、分层、背板隐裂等) UV暴光会破坏晶硅电池表面钝化膜层(SiNx,SiOx,SiOxNy),削弱表面钝化效果 双面电池UV衰减高于单面电池 UV衰减是由晶硅表面或表层问题导致,LID是硅体B-O或者B-Fe复合问题 UV暴光降低表面钝化的方式:改变膜层固定电荷密度,增大界面态密度 UV衰减可通过退火、去除损伤的钝化层方式修复 热载流子(电子或空穴)产生是UV衰减的另一种模式,载流子密度高于 时,热载流子足够的动能跨越界面势垒,破坏膜层钝化效果,增加界面态密度。
实验方案
研究的电池片类别
异质结HJT,ITO/(p+)a-Si/(i)a-Si / (n)c-Si /(i) a-Si/(n+)a-Si/ITO IBC电池,正面SiNx/SiO2,背面SiNx n-PERT,正面SiNx/SiO2,背面SiNx p-PERC,正面SiNx,SiNx/SiO2,背面AlOx/SiNx,SiNx Al-BSF,正面SiNx
户外预处理
累积户外自然光条件下 ≥15 KW·h,LID光衰后排除光衰因素 电池片温度保持低于45℃,避免LeTID问题干扰 之后再进行UV衰减验证 UV衰减实验室 SLAC(新加坡实验室)、NREL(美国国家能源实验室)
加速UV光照测试
UVA-340荧光光源,295-365nm波长,峰值波段340nm。强度1.24 (~2.5 x UV suns); 温度45±2℃,避免LETID影响 时长:2000h,相当于户外2年的紫外光照量
表征
IV测试 SIMS二次离子质谱仪,监控H分布变化 XPS X射线图谱 反射率
UVID光学光谱建模
针对SiNx减反膜建模,评估SiNx/Si界面 250-2500nm范围光波,组件封装材料自上而下对光的吸收、反射建模 前表面玻璃反射 电池表面发射 透射量 反射量
结果讨论
1 不同类型电池UV敏感性
未封装电池UV衰减对比
异质结HJT衰减幅度最高,平均 -5.46%/年,最高-8%/年 p-PERC、n-PERT平均衰减 -1%/年 Al-BSF电池衰减最小 -0.36%/年 IBC有小幅增益
电性能变化
双面电池UV衰减比单面电池更大 异质结电池UV衰减,主要是FF、Voc PERT、PERC电池UV衰减,主要是Isc、Voc IBC电池,FF有增加,Isc、Voc略降低
2 UVID与Si/钝化破坏
2.1 HJ电池
HJ电池UV处理后
正面功率衰减 -11%,其中Voc -3%, FF -7%,Isc -1% 背面功率衰减-14%,其中Voc -6%,FF -14%,Isc -3.5% FF衰减来源于Rs的上升,ITO/a-Si,a-Si/i-Si界面方阻增加 未观察到ITO界面腐蚀、开裂晶界变大等问题 Voc衰减归因于载流子复合 SIMS图谱显示,UV老化后a-Si/i-Si界面H浓度增加,c-Si硅体H含量降低,i-Si/c-Si界面H含量的减少,饱和悬挂键Si-H键断裂,界面钝化减弱,界面态密度增加。 XPS图谱显示,ITO膜层In、O、Si配位无显著变化,表明净UV处理后,ITO化学键无变化。
2.2 IBC 电池
UV处理后,IBC电池功率无衰减,反而有小幅增加
正面功率增加~2%,背面功率增加~6%
Isc、Voc衰减 -1~-2%
FF增加 +3%,8%
SIMS图谱,UV老化处理后,SiNx/SiO2界面、c-Si硅体H含量均增加。提出假说:UV光子会打断较弱的Si-H键,释放H原子向内层迁移。H是缺陷钝化的关键,但是过量的H会产生H致衰减。
Isc、Voc的衰减,可归因于H团簇导致的载流子复合
2.3 p-PERC和n-PERT电池
p-PERC电池:正面衰减-1%~-4%,背面衰减-13%
Isc最高衰减 -10%,Voc -3% 正背面差异: 正面:SE磷扩选择性发射极/SiNx/SiOx 背面:SiNx/AlOx 前后表面SiNx膜层的膜厚、折射率不同,正面高折膜厚低于背面~70-80nm;背面低折、膜厚高于正面 ~90-100 nm SiNx膜层直接影响UV短波段反射率差异,SiNx膜层折射率越高,对UV紫外线的吸收能力越强
n-PERT电池:
不同膜层结构电池UV衰减差异较大,与钝化膜层结构直接相关 经UV处理后,膜层Si、O、N含量有变化
2.4 BSF电池
Al背场电池 UV衰减整体较低
3 UVID和热电子损伤
开路状态 vs 短路状态UV验证
短路状态UV功率衰减高于开路状态 不同膜层结构对热电子损伤耐受度差异加大
4 PV组件UVID光谱分析
考量:
玻璃对UV的反射、吸收,玻璃材料的选择 POE封装材料对UV的反射、吸收 减反膜AR对UV的反射、吸收 进入到硅体的紫外光 ![[Pasted image 20240120145650.png]]
4 UVID缓解方案
组件封装材料 电池设计/制造优化
组件封装材料的选择:
过滤紫外线的玻璃 过滤紫外线的POE胶膜
电池设计:
减反膜结构优化,减少SiNx/Si界面UV光子进入量 p-PERC设计,背面UV衰减AlOx/(p+)Si相比SiNx的UV稳定性更好。原因一是AlOx膜层与Si中间有一层SiOx界面氧化层,二是固定负电荷密度形成的场钝化效果有助于改善UV特性。
来源:UV-induced degradation of high-efficiency silicon PV modules with different cell architectures