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散英魂寄千万雄鹰翱翔神州,
尽智魄载十亿慧芯呼唤华夏。
——《国务院给予江上舟同志挽联》
01
前沿导读
美国媒体《华尔街日报》发布了一篇紧急新闻:
According to a fresh report in the Wall Street Journal, Chinese efforts to scoop up employees from ASML's key supplier Zeiss have intensified to an extent that Germany's domestic intelligence authorities have become involved. Zeiss' lenses are essential to making ASML's machines that manipulate ultraviolet light to an extent to allow it to print nanometer sized circuits on a silicon wafer to manufacture a chip.
翻译:
中国从 ASML 的主要供应商蔡司挖走员工的努力已经加剧,以至于德国国内情报机构也卷入其中。蔡司的镜头对于制造 ASML 的机器至关重要,这些机器在一定程度上操纵紫外线,使其能够在硅晶片上打印纳米级电路以制造芯片。
02
被封锁的困境
根据多份报告表明,由于美国对荷兰政府施压,导致中国大陆无法拿到先进的EUV光刻机,进而阻碍了中国大陆厂商在先进芯片上面的发展。美国对中国的制裁开始于特朗普政府期间,当时华为被阻止从台积电 (TSMC) 采购先进的 7 nm芯片。
到了拜登政府时期,扩大了这些制裁范围,以防止 ASML 向中国出售其先进的 EUV 机器,荷兰政府也实施了类似的限制。
多年的制裁限制,逼迫着中国的SMIC使用曾经从ASML采购的DUV光刻机来制造产品。该企业只能通过一种多重图案化的制造技术来实现等效于7nm的工艺节点,多重图案化会增加制造复杂性,降低产品质量,同时特征尺寸越小,步数就越多。
DUV光刻机想要实现先进制程的芯片制造,需要通过多重图案曝光来提升晶体管的堆叠密度。而EUV光刻机只需要一次曝光就可以直接将晶体管的堆叠密度达到合格水平,这个技术差距还是相当大的。
03
开高薪招揽工程师
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