法国《世界报》发布紧急消息：中国的一个手机厂商，正在以开出3倍工资的待遇为由，挖走台积电的工程师

从台积电挖走工程师，这件事三星也干过。三星之所以能成为韩国，乃至全球供应链的霸主之一，就因为它舍得在人身上花钱。

梁孟松是台积电的研发处长，制程技术的引领者之一。而且他还是胡正明的学生，胡正明曾经开创了引领行业几十年的Fin FET技术，延续了摩尔定律。在胡正明退出台积电之后，梁孟松成为了他的接班人，带领着台积电攻城略地。

后来台积电内部要提拔两个新副总，梁孟松是最合适的人选，但是最后担任副总裁的蒋尚义并没有提拔梁孟松，反而是提拔了两个不相干的人。梁孟松感觉到自己的付出与回报不成正比，他选择了离职。

梁孟松离职之后，三星立马找到他，请求合作。三星的情报机构在此之前，就已经知道了梁孟松在台积电离职的原因是没有受到重视。

所以三星为了招揽到他，开出了高于台积电3倍的薪资作为基础待遇，还承诺会直接让他担任管理层，领导三星半导体的制程技术研发。

根据报道显示，三星给梁孟松的薪资待遇是1.35亿新台币，确实是台积电薪资的3倍。

在竞业协议结束之后，梁孟松公开宣布加入三星集团，担任三星LSI部门技术长以及三星晶圆代工执行副总，企业地位不比三星集团的家族管理层低。

在他加入三星之后，取消了正在研发的22nm制程技术，准备带领团队从已经完成的28nm工艺，直接越级发展到14nm。

28nm之后，是22nm的制程技术。如果想要发展14nm工艺，就需要采用Fin FET技术。通过3D垂直化的晶体管方案，实现在同面积情况下，更密集的晶体管堆叠，而且Fin FET技术通过对晶体管栅极的修改，实现了更加精密的电流控制效应。

在电流通过源极和漏极的过程中，鳍式场效应的晶体管栅极会极大减小电流漏电情况，这样就会让制造出来的芯片拥有更强的性能，更优秀的能耗。

几年之后，三星电子掌握了Fin FET技术加持下的14nm制程工艺。同期的台积电，也才刚刚实现了16nm工艺的量产。

技术的差距，让三星吃到了红利，拿下了许多手机芯片的订单，冲击了台积电的制造业务。

张忠谋紧急启动夜莺计划，以年薪和年终奖提升30%的薪资待遇，要求台积电的所有技术工程师实行三班倒制度，24小时全天无休的进行技术攻克，全力以赴在技术发展上面反超三星。

不到一年，台积电的14nm工艺落地，在技术上面与三星持平。

同时，台积电以窃取技术专利为由，起诉三星和梁孟松。

经过调查，法院确认梁孟松违反竞业协议规定，在协议生效的期间为三星集团工作，台积电胜诉，梁孟松离开了三星。几年后，他加入了中芯国际。

加入中芯之后，梁孟松继续带队攻克技术，他将自己掌握的Fin FET晶体管技术教给了中芯国际的工程师团队，让中芯国际从28nm工艺直接越级发展到14nm技术，然后进入7nm以及N+1工艺的研发当中。

梁孟松一个人，影响了全球芯片制程工艺的走向。台积电和三星因为他，不惜在国际法庭上面兵戎相见。

足可以说明，一个掌握真正技术的工程师人才，可以抵得上千军万马，是技术发展的关键因素。