编著 [美]罗维尔·南达（Ravindra Nanda），[美]弗拉维奥·乌里韦（Flavio Uribe），[美]萨米特·亚达夫（Sumit Yadav）
主审 金作林
主译 孟勇 蔡川 杨楠 许一起
骨性Ⅱ类、安氏Ⅱ类病例的上颌磨牙远移
患者女性，12岁10个月。
主诉 上牙前突。
临床检查 治疗前的面像可见，侧貌为凸面型，唇闭合不全，颏部紧张；口内像可见，尖磨牙关系为Ⅱ类，覆盖和覆𬌗增加；下颌牙列Spee曲线较深，上颌牙列有间隙（图2A）。
影像学检查 全口曲面体层片显示为全口恒牙列（图2B）。头颅侧位片和头影测量分析显示骨性Ⅱ类，ANB角（上齿槽座点至鼻根点连线与鼻根点至下牙槽座点连线所构成的角）为10°，下颌短小，下颌切牙唇倾（图2C和表1）。
图2 A为病例1治疗前的面像和口内像；B为全口曲面体层片；C为头颅侧位片
表1 病例1的头影测量分析结果
诊断 骨性Ⅱ类，安氏Ⅱ类，凸面型。
治疗计划 计划采用非拔牙矫治方法，0.022槽沟方丝托槽系统，使用上颌第二前磨牙和第一磨牙之间的TAD作为绝对支抗。计划用TAD远移上颌后牙大约3.0mm。通过整平Spee曲线和压低上颌切牙来纠正深覆盖与深覆𬌗。
治疗过程 6个月的治疗后，牙列基本排齐整平，TAD植入于上颌第二磨牙与第一磨牙之间，即刻加载负荷以远移磨牙（图3A）。在远移过程中，右侧TAD松动，在磨牙间重新植入一次（图3B）。在矫治13个月后，磨牙关系几乎为Ⅰ类；继续远移以纠正尖牙Ⅱ类咬合关系（图3C）。去除方丝弓矫治器后，上下颌牙列使用全包裹式的保持器。主动矫治时间是19个月。
图3 病例1治疗过程中的口内像。A为正畸治疗开始6个月后；B为上颌右侧TAD植入位置从第一磨牙近中改为第二磨牙近中（箭头所示）；C为正畸治疗开始13个月后
治疗结果 治疗后的面像显示，侧貌改善，但仍然有一点凸面型。颏肌的紧张和唇闭合不全得到改善。治疗后的口内像显示，咬合改善至磨牙、尖牙达到Ⅰ类咬合关系，覆𬌗、覆盖达到理想水平，但右侧尖牙区的尖窝交错关系有轻度欠缺（图4A）。治疗后的全口曲面体层片显示牙根平行度良好（图4B）。治疗后的头颅侧位片和头影测量分析结果显示，ANB角减小，但是下颌切牙唇倾度增加，下颌平面角增大（图4C和表1）。
图4 A为病例1治疗后的面像和口内像；B为全口曲面体层片；C为头颅侧位片
保持 在保持2年后，观察到咬合稳定，并且右侧前牙的咬合也得到了改善（图5A）。同时，患者侧貌也有显著改善。保持2年后的头颅侧位片和头影测量分析结果显示，下颌切牙唇倾度轻微减小，导致覆盖的轻度增加（图5B和表1）。软组织分析指标（例如上、下唇至E线距以及鼻唇角），均在保持后得到了改善。
图5 A为病例1保持2年后的面像和口内像；B为头颅侧位片
头影测量重叠图 整体重叠图显示，下颌顺时针旋转，侧貌得到一些改善（图6A）。局部重叠图显示，上颌磨牙有约2.5mm的远移量，并且不伴有垂直向的改变，同时观察到约有7°的内收以及2.0mm的压低（图6B）。下颌磨牙有约3.0mm的近中移动和轻度伸长（导致下颌顺时针旋转），同时观察到下颌切牙的少量唇倾和3.0mm的伸长（图6C）。
图6 病例1的头影测量重叠图。A为整体；B为上颌；C为下颌（黑色为矫治前，红色为矫治后，蓝色为保持2年后）
骨性Ⅲ类、安氏Ⅲ类病例的下颌磨牙远移
本文摘编自辽宁科学技术出版社出版，[美]罗维尔·南达（Ravindra Nanda）、[美]弗拉维奥·乌里韦（Flavio Uribe）、[美]萨米特·亚达夫（Sumit Yadav）编著，金作林主审，孟勇、蔡川、杨楠、许一起主译的《正畸治疗中的临时支抗装置（第2版）》一书。该书对种植支抗技术进行了详细全面的阐述，内容包括种植支抗的生物力学机制及其在正畸治疗中的应用，重点讲解了微种植体和微钛板的使用、上下颌的多个植入位置，以及大量的微种植体系统和装置，并附许多相应的真实临床病例便于读者理解和体会。目前出版的新版内容更加深入翔实，其中新增了骨支抗的进展，即三维（3D）技术整合应用于微种植体的植入与临时支抗装置支持式矫治器的制造，以及透明矫治器与骨支抗的结合等内容。本书编著者汇集了正畸种植支抗领域的多位国外权威专家，相信一定能为国内正畸种植支抗技术的广泛应用提供与时俱进的帮助和指导。
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来自《中国医学论坛报·今日口腔》
第498期06~08版
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