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文摘   2024-11-24 21:58   北京  
新的剥离挑战所述的剥离过程和化学性质从技术角度来看是传统的和相对简单的。越来越小的尺寸、更大和更密集的芯片、III-V和SiGe基底、更浅的结、多层堆叠与深孔、铜双大马士革 ...
文摘   2024-11-17 00:01   北京  
几家制造商提供基于溶剂和有机胺溶液,这些溶液是仅用于正性剥离剂的。N-甲基吡咯烷酮(NMP)是最常用的溶剂。还有一些其他的溶剂,比若是二甲基亚砜(DMSO)、磺化烷、二甲基 ...
文摘   2024-11-14 22:12   北京  
等离子体蚀刻的一个不希望的效应是在蚀刻图案的侧面沉积侧壁聚合物串。在这个过程中所产生的聚合物来自光刻胶这一部分。在紧随这个过程后面的氧气等离子体光刻胶剥离步骤中,这些聚合物 ...
文摘   2024-11-10 22:00   北京  
等离子体蚀刻环境非常活跃,许多化学反应发生。光刻胶中的羟基与金属卤化物气体反应,形成稳定的金属卤化物(如AlF3、WF5、WF6)和氧化物,如TiO3、TiO和/或WO2。 ...
文摘   2024-11-07 11:39   北京  
高密度源也会导致光刻胶去除的问题。能量和低压力的结合使光刻胶硬化到难以用传统工艺去除的水平。系统设计者正在寻找具有高密度、低能离子的等离子体源(以减少损伤)和低压力操作。除 ...
文摘   2024-11-03 09:35   北京  
等离子体蚀刻机需要与湿法蚀刻相同的元素:化学蚀刻剂和能量源。从物理上讲,等离子体蚀刻机由室、真空系统、气体供应、终点检测器和电源组成(如下图所示)。晶圆被装入室中,室内的压 ...
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