简讯 | 脑血管高危斑块及血栓磁共振精确定量检测关键技术 获2023年度北京市科技进步一等奖

学术   2024-11-21 07:17   北京  

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神外前沿

图片来源:首都医科大学官网


神外前沿讯,据首都医科大学官网报道,近日,2023年度北京市科学技术奖获得名单公布,首都医科大学牵头的7项科研成果获科学技术进步奖。


其中的《脑血管高危斑块及血栓磁共振精确定量检测关键技术与推广应用》获得一等奖。


据了解,脑动脉斑块破裂及静脉血栓形成是脑卒中的重要发病机制,及时发现高危斑块及血栓是卒中防治的关键。然而,传统管腔成像方法仅针对血管狭窄程度评估,不能直接可视化高危斑块及血栓。


项目组历时15年,通过磁共振成像理论与技术创新,建立了脑动脉管壁磁共振成像评估新方法,实现了高分辨、快速、大范围全脑动脉管壁成像,解决了全脑动脉斑块可视化难题构建了脑静脉血流-血栓一体化成像新方法,脑静脉窦血栓诊断敏感性从70%提高至97%,实现了脑静脉血栓精准分期及量化测定,成像方法被美国心脏学会等多个国际指南推荐;创立了脑血管病MRI精准量化评估新体系,牵头发起国际最大脑血管壁MRI纵向队列,解决了脑血管病早期预警及病因分层的难题。

项目组代表性成果在《Stroke》《Radiology》等领域权威期刊发表。发表SCI 304 篇,获授权国家发明专利27项,国家医疗器械证4项;培养国家杰青2人、优青2人。核心技术在国内21个省市150余家医院实现转化应用。

本期信源:https://news.ccmu.edu.cn/syyw_12977/653ffb9e985c48edb84094ef6f714374.htm


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