半导体光刻机机会!

财富   2024-11-24 20:40   北京  
光刻机是光刻工艺的核心设备,主要由光学系统、机械系统和控制系统构成。
半导体芯片生产的难点和关键点在于将电路图从掩模上转移至硅片上,这一过程通过光刻来实现,光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平。芯片在生产中需要进行20-30次的光刻,耗时占到IC生产环节的50%左右,占芯片生产成本的1/3。
目前市场上的光刻机主要分为g-line、i-line、KrF、ArF、EUV五代迭代更新,五代光刻机的主要差异是光刻机的工艺节点,即限制成品所能获得的最小尺寸。在光刻机的更新迭代中,对光源、光学透镜、反射镜系统提出了越来越高的要求。
根据观知海内信咨询,2020年全球光刻机市场规模为170.9亿美元,预计2024年将达315亿美元。ASML、Nikon和Canon三分天下,ASML垄断高端EUV光刻机市场,Nikon、Canon占据中低端市场。
ASML在10纳米节点以下有100%的市占率,是全球唯一能够生产EUV光刻机(极紫外光刻机)的公司,龙头地位显著。ASML2023年营收298亿美元,同比增长34%;GAAP净利润84.8亿美元,同比增长43%。2023年ASML合计销售光刻机450台,其中EUV销量为53台。EUV作为光刻机中的最先进产品,销售价格持续增长,2023年平均售价为1.91亿美元,同比增长2%。ASML24Q3订单及25年指引低于预期。
中国大陆光刻机进口金额不断增长,2023年ASML在中国大陆销售额为80.1亿美元,同比增长157.6%,ASML为中国大陆光刻机最大的进口来源。上海微电子是大陆光刻机头部厂商,其自主研发的600系列光刻机可批量生产90nm工艺的芯片。但是在技术层面,上海微电子的IC前道光刻机与国际先进水平差距仍较大,国产光刻机任重道远。
富创精密(688409.SH)
2008 年,沈阳富创精密设备股份有限公司成立,2011 年公司为国际半导体设备龙头企业提供产品及服务,2013 年公司为国内半导体设备龙头企业提供产品及服务,2014 年公司承担国家 02 重大专项之“基于焊接和表面涂覆技术的大型铝件制造技术开发项目”,2018 年至今公司分别扩张建立了美国研发中心和日本研发中心。公司所生产的设备零部件产品的技术节点从 65nm 升级至 7nm, 是全球为数不多的能够量产应用于 7nm 工艺制程半导体设备的精密零部件制造商。
富创精密半导体设备零部件产品涉及结构零部件、模组产品、工艺制品和气体产品四大分类,并囊括数十种具体产品。其中,工艺零部件直接参与晶圆反应过程,影响晶圆制造的良率;结构零部件在设备中起连接、支撑的作用;气体产品连接到反应腔,负责输送半导体气体;模组产品是将工艺零部件、结构零部件、气体管道和外购电子标准件/机械标准件进行组装,形成具备部分半导体设备核心功能产品。
晶方科技(603005.SH)
晶方科技专注于传感器领域的封装测试业务,拥有多样化的先进封装技术,同时具备8英寸、12英寸晶圆级芯片尺寸封装技术规模量产封装线,涵盖晶圆级到芯片级的一站式综合封装服务能力,为全球晶圆级芯片尺寸封装服务的主要提供者与技术引领者。封装产品主要包括图像传感器芯片、生物身份识别芯片、MEMS 芯片等,相关产品广泛应用在手机、安防监控、身份识别、汽车电子、3D 传感等电子领域。同时,公司通过并购及业务技术整合,有效拓展了微型光学器件的设计、研发与制造业务,拥有一站式的光学器件设计与研发,完整的晶圆级光学微型器件核心制造能力,相关产品广泛应用在半导体设备、工业自动化、车用智能交互等市场领域。荷兰Anteryon公司的光学器件产品主要应用于光刻机半导体设备、工业自动化等应用领域。
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