声明：本文章不构成投资建议，仅作为研究讨论之用，免不了有不少个人偏见，盲目据此决策带来的后果自负。股市有风险，决策需独立思考，切忌人云亦云。
拓荆科技成立于2010年4月，2021年4月20日在科创板上市，“拓荆”这个名字还是挺有寓意的，半导体前道设备可以说是半导体领域的“荆棘”，得有一种不畏艰难、勇往直前的精神。
公司主要从事薄膜沉积设备，主要是做PECVD（等离子体化学气相沉积设备）和ALD（原子层薄膜沉积设备）设备。我们知道芯片是一种硅结构，其制作过程就跟建房子类似，需要一层一层的沉积各种材料，PECVD主要是沉积二氧化硅薄膜，ALD设备则是沉积氧化铝薄膜。另外北方华创品类比较多，也是以薄膜设备为强项，不过做的是PVD（物理气相沉积设备），沉积的则是金属和金属化合物薄膜，芯片中的金属薄膜跟我们在电路中看到的到导线作用是一样的。
拓荆科技的第一大股东是国家集成电路产业投资基金，截至2024年6月底持有公司19.77%的股份，第二大股东是国投（上海）科技成果转化创业投资基金企业，持有公司13.61%的股份。
从业绩上来看，2024年上半年，公司实现营业收入12.67亿元，同比增长26.22%；归母净利润为1.29亿元，同比增长3.64%，毛利率为47.05%，净利率为9.66%。年度视角上，2023年公司营业收入27.05亿元，同比增长58.60%，归母净利润为6.62亿，同比增长79.82%，毛利率为51.01%，净利率为24.54%，ROE为16.09%。
半导体设备可以说是大国重器，也因为半导体行业在国家竞争中的重要地位，加上设备是半导体制造的关键环节，所以基本上每个国家都会对这个领域进行扶持，更何况国内半导体产业起步比发达国家晚。拓荆科技则是国内技术领先的企业。
从半导体设备类公司的市场角度来看，比较重要的点在于：不要用传统的估值方法看待公司的价值，至少在现阶段。如果我们用DCF或者是PE法去给他们进行估值分析的时候，很容易会出现“恐高”的现象，根本不敢拿，或者说是拿不住。一旦动了用传统方法“估值”的念头，就会陷入到怀疑之中，看哪哪不顺眼。
这个行业的高PE，跟其他科技细分行业又不一样，不只是由于话题性，在某种程度上是具有战略意义的，并且高估值有助于相关行业的发展，企业可以获得更多资金嘛，而且还有一个比较关键因素，就是这个行业不像是光伏等一样，不是只要去砸钱就能够做出来、能够做好的，不仅具有资本壁垒，还具有很高的技术壁垒，因此出现那种一旦扶持就产能过剩的概率是比较低的，技术和技术人才都具有稀缺性，这个局面也无法在短期内改变。
当然，如果再过十几或者二三十年，也许这个行业会逐步变得可以用传统的估值方式，就像是应用材料公司（AMAT.US）、拉姆研究（LRCX.US，又称泛林半导体）现在这样，PE只有20多倍。
另外，除了不要用传统估值去思考半导体设备企业之外，保守的做法还在于避免持仓比例过高，因为市场不确定性比较高，持有太多很容易带来心理上的压力，说不定一有风吹草动就自己撑不住了，这一点是跟那些稳定分红企业是不同的，能够稳定分红的企业，有时候可以这么安慰自己：“跌就跌吧，持股不动，二三十年后股价即便是变为零，也收回了成本”。
