SATISLOH提供的光学制造方案
镀膜工艺
镀膜过程中的步骤
在坩埚充电，更换石英晶体，选择正确的工艺，安装有镜片的圆顶后开始操作。泵下循环从粗加工开始，然后进行高真空泵送。在一个编程的压力值，迈斯纳阀被激活。
当达到初始工艺压力时，离子枪被打开以预先清洗基底，这些基底同时被带到正确的温度，因为在泵送过程中加热被启动。
蒸发器经过预清洗后，即开始运行。选择程序中要求的坩埚，其内容预热，以允许熔化和排气。如果在镀膜时需要氧气，则在预热阶段打开适当的阀门。
在蒸发源上方的闸门打开后，在基板上开始沉积。一旦达到了所需的薄膜厚度，快门就会再次关闭。
如果程序不包括进一步的薄膜，蒸发器现在关闭；否则，重复沉积步骤。如果程序指定了此操作，离子枪也可以在镀膜过程中被激活。
当程序中的最后一个胶片完成后，加热被关闭，迈斯纳阀再次被加热。以冷冻形式保存在上面的水被蒸发并泵出。接下来，关闭高真空阀并打开进气阀。当腔室降至室内气压时，该装置会发出信号，以便操作员可以取出镜片并开始为下一个过程做准备。
一个例子
作为完整气相沉积工艺的一个例子，现在将描述Satisloh Premium工艺：
1.首先用离子源对已经加硬镀膜（涂漆）的塑料透镜进行预清洁。然后沉积粘合层。
2.接下来应用四个光学活性层，在高折射率和低折射率材料和导电层之间交替。
3.离子源的操作可以增强抗刮性和粘附性。
4.最后，应用了超疏水层。
图1：Satisloh Premium流程
如何应用抗反射镀膜，气相沉积镀膜
目前用于眼镜镜片的镀膜工艺基本上可以分为三组：
a)物理蒸汽沉积（PVD）镀膜
b)溅射镀膜
c)干法复合
PVD过程是已经描述过的物理气相沉积。在真空下，一种材料被加热直到它融化，然后进一步加热以蒸发它。蒸气形式的材料通过冷凝而沉积在基底上。一些材料，如一氧化硅SiO或硫化锌硫化锌，直接从固体相到气相，这一过程称为升华。
Satisloh的眼镜抗反射盒式镀膜器都是基于这项技术，它已被证明是最实用，最快和最高质量的实验室实践。
图2：气相沉积涂层。
阴极溅射技术今天被应用于眼镜光学以及精密光学、光学电子学和半导体技术中。
溅射涂层设备通常具有磁控阴极。溅射是通过在安装有靶材的阴极上施加高电压来进行的。
与辉光放电的情况一样，可以产生等离子体，为剩余的过程提供所需的电荷载流子。正气体离子被加速朝向带负电荷的阴极，并将粒子从靶中敲出；然后将这些颗粒沉积在基材上。
因此，溅射不涉及整体加热，而是涉及原子碰撞。从靶中敲出的原子撞击基材的能量大约是气相沉积过程中蒸发粒子的10倍。
在固定靶的阴极板后面是永磁体阵列，其场线在靶前方延伸。
磁场使电子沿着螺旋轨迹移动，增加了它们行进的距离，从而提高了电离的概率。
因此，气体的电离密度要大得多。由此产生的沉积速率与气相沉积工艺中的沉积速率相当。
对于眼镜光学，使用特殊硅化合物靶。
带电的基板支架被放置在锁室中，然后被向下泵送。接下来打开镀膜室的截止阀，在氩气和反应气体进入后开始镀膜。
交替反应气体产生交替的高折射率和低折射率薄膜。整个过程可以自动化。
如何应用抗反射镀膜覆膜
Satisloh薄膜层压展示了镀膜的范式转变。Satisloh的®薄膜层压技术利用了一种复杂的、一体化的多层薄膜，只需几个简单的步骤即可层压到镜片上。
薄膜层压技术使实验室能够大幅降低投资成本、空间需求和镀膜复杂性。对于从抗反射镀膜开始的实验室来说，这是一个真正的替代品，但对于扩大抗反射生产的大型实验室来说也是如此。虽然它可以被认为是传统镀膜的替代品，但它在技术上不会取代它。
其工作原理如下：
Satisloh®Tech Film AR是层压工艺的核心。它取代了许多镀膜耗材，并预制成两种尺寸的圆盘。多层膜结合了：
•镜头粘合剂
•载体箔
•加硬镀膜
•AR镀膜
•超疏水镀膜
然后，层压过程分为三个不同的步骤：
1.表面处理后清洁镜片
2.准备透镜表面以进行精确的Tech薄膜粘合
3.热成型和粘合技术薄膜
Satisloh为所有三个步骤提供设备。整个层压过程只需要几分钟。
1500-X
用于透明抗反射和太阳镜片的高通量真空镀膜机。每批处理多达305片镜片。
1200-DLX-2
用于抗反射和镜面镀膜的高容量真空镀膜机。每批处理多达245片镜片。
MC-380-X-2
高性能，紧凑尺寸。用于抗反射和镜面镀膜的中容积真空镀膜机。每批最多可加工74片镜片。
MC-280-X
用于抗反射和镜面镀膜的独立小型真空镀膜机。处理多达30片镜片/批。
声明:本文并非医学诊断建议也非眼部健康信息建议
以下内容为广告
吸盘上防滑贴
尼德克LEXCE磨边机柔性加工模式！视频中镜片折射率1.6，度数-4.75D.
