• 20世纪80年代创立与早期发展：1984年，飞利浦与ASMI成立合资企业ASMLithography，推出PAS 2000步进光刻机，但因油压驱动等问题市场表现不佳。1986年推出PAS 2500，采用电动系统和新对准技术，并与卡尔蔡司建立合作。1988年借助飞利浦在台湾的合资企业进入亚洲市场.
• 20世纪90年代突破与成长：1991年推出PAS 5500系统，其生产力和分辨率领先，为ASML赢得关键客户，1995年在阿姆斯特丹和纽约证券交易所上市，飞利浦逐步出售股份，ASML成为独立上市公司后扩张研发和生产设施.
• 21世纪00年代技术革新与市场领先：2001年推出双工作台的TWINSCAN系统及首台浸没式光刻机TWINSCAN AT:1150i，2006年量产浸没式设备TWINSCAN XT:1700i，2007年发布首个193nm的浸没式系统TWINSCAN XT:1900i，并收购BRION开启“完整光刻”策略，2008年交付第一套YieldStar（250D）系统.
• 21世纪10年代及以后的EUV光刻时代：2010年交付首台EUV光刻系统原型机NXE:3100，2013年收购Cymer加速EUV发展，当年交付第二代EUV系统NXE:3300，2015年交付第三代EUV系统NXE:3350 。2024年英特尔收到TWINSCAN EXE:5200系统的关键组件，预计2025年三星将引进首台ASML High NA EUV光刻机EXE:5000型号.
ASML收购历史
• 2001年，收购硅谷集团，获得157nm光学技术，加强半导体技术进步能力.
• 2007年，收购BRION，开启“完整光刻”策略，整合光刻系统与芯片制造过程优化技能.
• 2013年，收购Cymer，获取其准分子激光源技术，加速EUV发展.
• 2016年，收购Hermes，增强量测能力.
ASML代表产品光刻机推出年份
• 1984年，推出PAS 2000 步进光刻机.
• 1986年，推出PAS 2500 步进光刻机.
• 1991年，推出PAS 5500 光刻系统.
• 2001年，推出TWINSCAN AT:750T光刻系统.
• 2003年，推出TWINSCAN AT:1150I 浸没式光刻系统.
• 2004年，推出TWINSCAN XT:1250及对应的浸没式版本TWINSCAN XT:1250I.
• 2006年，量产TWINSCAN XT:1700I 浸没式设备.
• 2007年，发布TWINSCAN XT:1900i 浸没式系统.
• 2010年，交付首台EUV光刻系统原型机NXE:3100.
• 2013年，交付第二代EUV系统NXE:3300.
• 2015年，交付第三代EUV系统NXE:3350.
• 2024年，英特尔收到TWINSCAN EXE:5200系统的关键组件.
• 预计2025年，三星将引进首台ASML High NA EUV光刻机EXE:5000型号.
