学习半导体存储器就看余诗孟教授最新著作《半导体存储器件与电路》(“先进存储器技术”课程教材)——详解最主要的几种半导体存储器

科技   2024-11-07 12:02   北京  
半导体存储器作为现代电子系统中不可或缺的组成部分,其技术的发展和创新对整个电子行业有着深远的影响。
以下是对几种主要半导体存储器的核心技术知识点的简单梳理。
图 0.1 包含主流 SRAM 缓存、DRAM 内存、NAND 闪存固态硬盘的存储器层次结构,其中 eDRAM 和新型存储器在末级缓存和存储级内存上存在应用空间

图 0.2 不同存储器在访问时间、集成密度和擦写次数之间的折中。图中展示出新型存储器

存储级内存和末级缓存中的发展机遇



    01 静态随机存取存储器(SRAM)














SRAM是一种易失性存储器,其特点是速度快、功耗相对较高,成本也较高。SRAM的基本存储单元通常由6个晶体管构成,被称为6T SRAM单元。SRAM的稳定性分析包括静态噪声容限和动态噪声容限,以及读与写的辅助方案。SRAM的漏电流是设计中需要关注的问题,特别是随着工艺节点的缩小,亚阈值电流对SRAM的影响日益显著。SRAM的版图和微缩趋势也是研究的重点,随着工艺技术的发展,SRAM的微缩也面临着挑战。

图 1.1 a)SRAM 子阵列及外围电路原理图; b)列侧外围电路原理图

图 1.2 6T SRAM 单元的电路原理图

SRAM具有极高的读写速度,通常被用作CPU和GPU的高速缓存。它的优势在于快速访问和低延迟,但同时也面临着高成本和高功耗的挑战。随着工艺节点的缩小,SRAM的微缩趋势和漏电流问题也日益显著



    02 动态随机存取存储器(DRAM)














DRAM是一种易失性存储器,以其高密度和低成本著称。DRAM的基本单元由一个晶体管和一个电容组成,即1T1C DRAM单元。DRAM的工作原理涉及到电荷共享和感应,其漏电流与刷新机制密切相关。随着工艺节点的微缩,DRAM的微缩挑战包括单元电容、互连线和单元选通晶体管的问题。3D堆叠DRAM技术如HBM(High Bandwidth Memory)通过TSV(Through-Silicon Via)技术实现了高带宽存储。

图 2.1 DRAM 子系统层次结构,包括通道、DIMM、芯片、存储区和子阵列

DRAM是大多数计算机系统的主要内存类型,以其大容量和低成本著称。然而,DRAM的速度较SRAM慢,且需要定期刷新以保持数据。随着AI技术的发展,对高速存储器的需求日益增长,尤其是高带宽内存(HBM)的引入开始逐步挤占传统DRAM产品的产能。



    03 闪存(Flash)














Flash是一种非易失性存储器,具有高密度和快速读写能力。Flash的器件原理基于浮栅晶体管的工作原理,其擦写机制涉及到电子的注入和抽离。Flash的阵列结构包括NOR和NAND阵列,以及外围高压电路。随着技术的发展,3D NAND Flash通过立体集成技术提高了存储密度和性能。

图 3.1 采用 Flash 存储器技术的数据存储产品

图 3.2 a)浮栅晶体管结构示意图;b)浮栅晶体管工作原理
Flash是一种非易失性存储器,广泛应用于USB驱动器、SD卡和固态硬盘(SSD)。它的优势在于非易失性和快速读写能力,但随着技术的发展,Flash也面临着耐久性和写入次数限制的挑战。


    04 新型非易失性存储器














新型非易失性存储器技术,如相变存储器(PCM)、阻变随机存取存储器(RRAM)、磁性随机存取存储器(MRAM)和铁电存储器,都具有改变现有存储层级的潜力。这些新型存储器在器件机理、可靠性、阵列集成和三维集成方面都有着广泛的研究和应用前景。例如,RRAM技术基于金属氧化物,其器件性能、特性、建模技术以及集成到大规模阵列中的设计考虑都是研究的重点。
图 4.1 存储器技术的简单分类

PCM是一种新兴的非易失性存储器技术,具有高速读写、高耐久性和低功耗的特点。它在AI服务器和高性能计算领域有广泛的应用前景。然而,PCM在复位过程中需要大电流,这对能效产生负面影响,给PCM在能源敏感应用中的广泛应用带来了挑战。不过,通过创新设计,如采用可相变SiTex纳米丝,可以有效降低PCM复位电流,提高其在能源敏感应用中的实用性。

RRAM具有尺寸小、速度快、与CMOS工艺兼容等优点,非常适合存算一体AI大算力赛道。RRAM在消费类电子、物联网、人工智能等领域有广泛应用。不过,RRAM也面临着模拟计算的误差累积问题,这限制了它们单位面积下的计算能力。
MRAM被称为“全能手”,因为它结合了SRAM和DRAM的速度与非易失性特点。MRAM在读写速度、耐久度和功耗方面具有明显优势,适用于自动驾驶和车载电子等应用场景。然而,MRAM也面临着材料体系复杂、开关比低等挑战。
铁电存储器(FeRAM)是一种非易失性存储器,具有高速写入、高读写耐久性和低功耗性能。它适用于汽车电子、安全芯片、可穿戴设备、人工智能等领域。铁电存储器的主要挑战在于其材料的可微缩性和与现有工艺的兼容性。


    05 存算一体(CIM)














存算一体是一种新兴的计算架构,它将存储和计算功能集成在同一芯片上,以减少数据传输延迟,提高计算效率。CIM的原理涉及到混合信号计算与存储阵列的融合,特别是在深度学习硬件加速器中的应用。CIM的突触器件属性和原型芯片是当前研究的热点。

图5.1 存算一体(CIM)范式示意图。神经网络的一层被映射到存储器子阵列中。输入作为电压并行加载以激活多行,列电流由模数转换器(ADC)相加并数字化。这里的存储器单元可以通过 1T1R、1T1F 或 8T SRAM 来实现

CIM是一种新兴的计算架构,它将存储和计算功能集成在同一芯片上,以减少数据传输延迟,提高计算效率。CIM在智慧城市建设和未来发展趋势中扮演着重要角色,尤其是在全息感知体系、城市大脑和零碳园区等研究方向。CIM面临的挑战包括数据的海量存储和处理需求、数据权属分割以及系统应用的实施难度。

总结来说,半导体存储器技术的发展正朝着更高密度、更快速度和更低功耗的方向发展。随着新型存储器技术的不断涌现,未来的电子系统将能够实现更高的性能和更低的能耗,这些存储器技术将在电子系统中发挥更加关键的作用
*本文章所有图片来自《半导体存储器件与电路》

新书推荐

余诗孟教授的《半导体存储器件与电路》是基于他近10年的课程教学经历和科研经历。本书系统梳理了各种主流半导体存储器的器件、工艺、电路等核心技术相关的知识点,也介绍了多种新型存储器及存储器的最新发展趋势,介绍了截至2020年前后的产业界及学术界在存储器领域的最新发展现状。同时,本书也是清华大学“先进存储器技术”课程教材,也希望国内产业界的存储器从业人员能够从本书中得到收获。
第1章是对整个半导体存储器技术的概述,包括存储层级结构的概念、通用存储阵列的 图解和常见外围电路模块,以及用于评估存储密度和阵列面积效率的相关指标。
第2-4章将分别介绍三种主流的半导体存储器技术,即静态随机存取存储器(SRAM)、 动态随机存取存储器(DRAM)和Flash存储器(闪存)。每一章都会讨论相应的基本操作原理、器件物理、制造工艺、单元设计、阵列结构和工艺节点微缩带来的挑战等主题。此外, 这三章还会分别介绍最新的行业动态,如基于FinFET的SRAM、高带宽存储器(HBM)和3D垂直NAND Flash等。
第5章将介绍几种新型非易失性存储器(eNVM), 它们都有可能改变现有的存储层级结构,或者作为片上嵌入式存储器,从而带来超越传统数据存储的新型应用。几种受关注的 候选者包括相变存储器(PCM)及用于相关3D X-point技术的选通器;阻变随机存取存储器(RRAM);磁性随机存取存储器(MRAM),包括自旋转移力矩(STT)和自旋轨道力矩 (SOT)两种切换机制的MRAM;铁电存储器,如铁电随机存取存储器(FeRAM)和铁电场效应晶体管(FeFET)。此外,这些新型非易失性存储器的多比特存储、离散性问题,以及可靠性问题等也都会涉及。第5章还将介绍存算一体的概念,即将混合信号计算融入存储阵列中,以加速深度神经网络中的向量-矩阵乘法运算,这是机器学习硬件加速器中一个十分有吸引力的计算范式。


上下滑动

相信对该领域的新人,或者已熟识存储器的从业人员

本书都会有所裨益


 万字长文:芯路非坦途,同仁需努力 | 冯锦锋博士《中国半导体的镜鉴之路》演讲全文整理

 半导体封装丨浅谈面向高功率模块及系统级封装(SiP)模块的新一代芯片嵌入技术

★ 新书推荐丨亲历芯片产线,轻松图解芯片制造,揭秘芯片工厂的秘密——《大话芯片制造》温戈、朱权喆、李金城联袂推荐

 集成电路的结构?为什么在工艺中使用等离子体?这可能是最入门级的半导体芯片制造中光刻工艺的知识讲解,零基础也能看懂!

 全是干货 | 逐步演示遥控小车仿真实例,Proteus单片机电路设计与仿真——电子设计竞赛选手必读!

 热电偶变送器、仪用放大电路、复合放大电路——轻松掌握经典运放电路设计实例

 【科普】1990年以来已证明和开发的主要器件结构的优势和挑战——JFET、SiC、BJT、MOSFET基础知识一文弄懂

 【干货】74页PPT详解电力电子技术核心器件的功率半导体器件

 从量子计算机的发展到自动驾驶,一口气看懂最期待的新物种——量子计算机

 2024半导体行业迎来复苏,是NVIDIA的GPU造成的“假象”?全球半导体市场的全面复苏可能会推迟到2025年

 刘汉诚最新著作《半导体先进封装技术》入选第23届引进版优秀图书!读完这本书,我想分享关于先进封装的30个工程实践知识点

 半导体生产全过程概览,晶体管尺寸极限的曝光技术是什么?——《极简图解半导体技术基本原理》复杂的半导体技术直观呈现,做好入门第一步


文章作者:陶喆
图文排版:吴美祎
责任编辑:翟天睿
审核人:付承桂

机工电子
机械工业出版社电工电子分社官方运营,分享半导体与集成电路相关专业知识。
 最新文章