针对超表面和光波导行业：
*EBL加工流片
*高均匀性镀膜：Si3N4,Al2O3,SiO2,TiO2,HfO2,Ta2O5,非晶硅，氢化非晶硅等等，6，8，12寸
*6寸 DUV 150nm线宽流片
*高折玻璃晶圆：TADF25-TADF55--Hoya
超表面将支持 AR 显示并优化相机性能和设计
光学超表面行业预计将出现显着增长，市场规模预计将从 2023 年的 6200 万美元增加到 2029 年的 19.25 亿美元。这种扩张在很大程度上是由该行业在新兴显示和成像应用中的作用推动的。在显示领域，超表面有望在增强现实 （AR） 中发挥关键作用，为 AR 目镜提供经济高效的高性能解决方案。预计到 2029 年，该细分市场的收入将达到 13.99 亿美元，具体取决于消费类 AR 市场的发展势头。另一个贡献将来自高端屏幕的 3D 裸眼显示空间，超表面正在进入其中。在成像领域，超表面有望降低成本、提高图像质量并引入新的传感功能。移动领域，尤其是用于自动对焦辅助和面部识别的 3D 传感领域，预计将成为增长的主要驱动力，为成像领域预计到 2029 年达到的 5.26 亿美元收入做出重大贡献。如果开发成功，未来的应用，例如彩色成像中的超表面和集成 CMOS 传感器，可能会进一步扩大市场。
整个供应链在超表面的出现中发挥着作用
制造业在光学超表面的开发中发挥着关键作用，弥合了研究小组的创新设计与 Apple、Samsung 和 Meta 等 OEM 在消费类设备中的实施之间的差距。该领域的特点是混合了 Metalenz、NILT 和 Pixelligent 等新兴公司，以及台积电和 EV Group 等老牌公司。这些制造商面临的主要挑战是准确且经济高效地将复杂的设计变为现实，同时获得 OEM 的早期信任。规模较小、更敏捷的公司正在利用其快速原型设计的能力，并在整个供应链中进行协作，以满足这种快速发展的技术的需求。相比之下，超表面领域以外的成熟制造商可能难以适应其中一些新要求。
设计和制造，纠缠不清的挑战
光学超表面是尖端的衍射光学元件，其图案经过精心设计，可在可见光到近红外波长范围 （400-1,000 nm） 内工作。这些结构通常由“线性”光栅或纳米柱阵列组成，通过对其材料成分以及纳米结构的形状、大小和排列进行精确工程设计来实现其光学功能。随着该行业探索超表面的巨大潜力，出现了两种主要的制造工艺：传统的半导体技术和更具颠覆性的纳米压印光刻 （NIL）。虽然半导体方法目前受到复杂成像超表面的青睐，但 NIL 能够快速且经济高效地大规模图案化聚合物光刻胶，这对于 AR 显示器等大批量应用特别有吸引力。高折射率聚合物和先进材料的集成对于满足这些工艺的机械和光学需求至关重要。随着超表面领域的成熟，理论设计和制造之间的持续反馈循环对于将这些突破性技术取得商业成果至关重要。
