浓缩老黄的演讲，有两个重磅信息。
第一个，每个中国人都必须知道：突破性的光刻计算库cuLitho，将计算光刻加速40倍以上，使得2nm及更先进芯片的生产成为可能。
台积电、光刻机霸主阿斯麦、EDA巨头新思科技等芯片巨头都参与研发，并且这项技术已经投入量产应用中。
用中国人的能听得懂的话，AI让光刻机跑得更快，生产更多，制程由现在5~7纳米直接晋级2纳米。
这个技术虽然没有中国大陆芯片厂家参加，但中国的芯片在不久的几天里，也会应用上AI。到时候，中国成熟制程14纳米及以上芯片将会大爆产能？
老黄演讲中做了光刻机科普，利用动画视频讲解芯片制造的最关键设备光刻机是如何运作的。
图一：芯片光蚀刻的过程
计算光刻模拟了光通过光学元件并与光刻胶相互作用时的行为，应用逆物理算法来预测掩膜板上的图案，以便在晶圆上生成最终图案。
图二，EUV中国芯片制造之芯，是如何工作的
老黄对OpenAI的ChatGPT评价是，这个一个产品爆发的前奏，但还需要更多的计算平台，更廉价高效的。而老黄宣布推出3款全新推理GPU，分别擅长AI视频、图像生成、ChatGPT等大型语言模型的推理加速。同时发布了AI超级计算服务DGX Cloud、加速企业创建大模型和生成式AI的云服务NVIDIA AI Foundations等，并宣布与日本三菱联合打造了日本第一台用于加速药研的生成式AI超级计算机。
此外，老黄如同华为的任正非一样：认为行业应用才是AI的战场。
下面：我们只关注一个：
先进芯片制造的突破性技术——NVIDIA cuLitho计算光刻库。
这个技术将会让中国找到突破美国芯片技术封锁的新路径。
光刻工序是芯片制程中最昂贵环节约占加工成本的30%以上。
通过AI计算光刻是提高光刻分辨率、推动芯片制造达到2nm及更先进节点的关键手段。
“cuLitho能够将计算光刻的速度提高到原来的40倍。处理单个掩膜板需要15天cuLitho只需8小时。”
提效40倍的同时还节能：
“台积电该工序生产中计算所需功率从35MW降至5MW，时间缩短40分之一。可见能耗降低程度达到两个数量级。
这就是AI的在产业应用中魅力。
