兄弟们，天大的好消息，国产高端DUV光刻机实现突破了。
就在9月9日，国产duv光刻机正式官宣了！
工业和信息化部于 9 月 9 日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，文件列出了两款自主可控duv光刻机，一款是氟化克光刻机，另一款是氟化亚光刻机。
我来简单说说这两款光刻机啊，氟化氪光刻机主要用于28nm和14nm芯片的生产。
而氟化亚光刻机光源波长是193nm，能实现的分辨率小于或等于65nm，套刻精度小于或等于8nm，主要应用于制造7nm及以上工艺节点的芯片。
总的来说，氟化氪光刻机主要用于28nm和14nm芯片的生产，而氟化亚光刻机则用于更先进的7nm和5nm芯片的制造，这两种技术各有优势啊，共同推动了半导体产业的发展。芯片实现国产替代的路已经越来越快，相信不久后，我们很快就能攻破高端芯片制程。
所以说啊，华为的芯片就是我们自己造的，这没什么好怀疑的，只不过是用了一点黑科技而已。好了，那现在工信部官宣了啊，大家就不要猜了，不好的地方我们要吐槽，好的地方我们还是要为他点赞了。那DUV这样一出来，我觉得EUV应该也不远了，我估计两到三年就会出来。我们拭目以待吧。
