熊跌三年，连涨三天！你回本了么？看看全网第一科技美女大主播怎么说
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财经
2024-09-28 16:08
中国香港
站在后天看明天是洞察，站在今天看昨天是韭菜。三年不开张，开张吃三年，瞄准比扣动扳机更重要！看看美女大主播怎么说？写在开头：全网光刻机第一人，公众号流量600万+，依靠理论和实践总结一套产业投资的方法论。实现2020-2022阳光电源6倍，2022-2024中际旭创7倍收益。中美的科技战从第一阶段的战略防守，逐步走向了第二阶段的战略相持。论持久战还能打多久？2027年见分晓，决高下！
28纳米光刻机采用浸润式技术，是一个重要的里程碑式技术突破。浸润式技术（Immersion Lithography）通过将光刻过程中的空气介质替换为液体，通常是水，来提高光刻的分辨率。这种技术利用了液体的折射率高于空气的特性，使得光源的有效波长缩短，从而达到更高的分辨率和更小的特征尺寸。浸润式技术的引入，使得28纳米节点成为半导体制造中的一个关键进步。因为它允许使用现有的深紫外光（DUV）光刻机来制造更小尺寸的电路，而不是必须转向极紫外光（EUV）光刻技术。这意味着，对于那些还未计划进行昂贵的EUV技术路线投资的公司来说，可以继续使用DUV技术，同时达到更高的集成度和性能。浸润式技术的成功应用也为后续的工艺节点，如20纳米、14纳米、7纳米甚至5纳米节点的发展铺平了道路。这些更先进的节点继续使用浸润式技术，但通常会结合其他技术，如多重曝光或多重图案化，来进一步提高分辨率和减小特征尺寸。中国在28纳米浸润式光刻机领域的突破，标志着其在半导体制造技术上取得了重要进展。上海X电子（防止X）展示的国内首台28纳米浸润式光刻机，不仅是中国光刻机产业的一次阶段性胜利，也是向全球宣告中国在高端制造的舞台上的身影愈发挺拔，能够完全依靠自己解决半导体卡脖子的问题。28nm光刻机被视为一个重要的技术突破节点，因为它代表了半导体制造技术的一个关键进步。28nm技术难度是一个转折点和质变的过程。28纳米工艺是在传统光刻技术的基础上实现的，它需要精确的光刻胶、光源和曝光控制技术。这个节点之前的技术（如90纳米）相比，28纳米工艺在制造晶体管时，能够实现更小的特征尺寸，这对于提高集成度、性能和能效都是至关重要的。28nm对半导体产业影响是具备转折意义的。28纳米工艺的成功实施，对于推动半导体产业的发展具有里程碑意义。它不仅能够满足现有市场的需求，还能够为未来更高性能、更低功耗的芯片制造打下基础。28nm的经济效益高，通过规模经济带来极致的性价比。28纳米工艺能够大幅提高芯片的性能，同时降低功耗，这对于移动设备和高性能计算设备来说非常重要。此外，相比于更先进的工艺（如7纳米或5纳米），28纳米工艺的成本效益更高，适合大规模生产。28nm基本可以满足80%的使用场景，除了类似手机或者可穿戴设备这类对集成度要求极高的场景。对于任何国家来说，掌握28纳米光刻技术都是提升其在全球半导体产业中竞争力的关键。28nm技术的突破，被视为中国国产芯片崛起的分水岭，带领中国半导体产业崛起。因此28纳米光刻机的突破不仅是技术上的成功，也是经济和产业发展的重要推动力。它为半导体行业的未来发展奠定了坚实的基础，并将继续影响着全球技术和市场的走向。以时间换空间，以制程换市场。中国完全可以依靠国内巨大的人口规模经济优势，通过超大规模发货解决产业的成本竞争力。在28nm上构筑无人可及的竞争力，以及培养产业链上下游的人才，做好人才储备。然后再逐步演进迭代到14nm、7nm、5nm、3nm、2nm。摩尔定律总有极限值，放缓半导体制程的发展步伐，实际上是给了中国追赶全球科技的机会窗。
不怕慢，就怕站。先跟随，再追赶上，最后再超越，进入无人区。这不就是中国在无线通信领域的成功故事再次重演么？2G/3G跟随，4G追赶持平，5G中国实现遥遥领先。同时具备技术优势和市场规模优势的，只有中国。所以说28nm突破对于缩小中国与国际先进水平的差距，提高中国科技竞争力，以及推动半导体产业的发展具有深远的意义。自我介绍：前华为人，战略规划15年经验，投资A股，4年25倍收益。终身学习，学以致用。产业战略洞察，科技锚点挖掘。
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