国产28nm光刻机问世,攻克5nm芯片卡脖子:雄关漫道真如铁,而今迈步从头越

文摘   财经   2024-10-21 00:01   广东  
谁是我们的敌人?谁是我们的朋友?这个问题是革命的首要问题。---教员的一句顶一万句。
上海微电子的国产28nm光刻机已经交付,5nm的芯片已经在静水潜流。现在美国科技制裁带来的种种困难,难道会比革命时代更艰难么?
科技战最终也有终极一战,一代人有一代人的使命。我们的使命就是我们要用艰苦奋斗,英勇牺牲,打出一个未来30年的和平环境,让任何人都不敢再欺负我们。我们在为自己,也在为国家。为国舍命,日月同光;凤凰涅槃,人天共仰。历史会记住你们的,等我们同饮庆功酒那一天,于无声处听惊雷。
回顾中国科技的发展历史,每次到科技路线选择的十字路口,总有盖世英雄出现。80年代的倪光南带领的技工贸和贸工机之争,2019年的华为被美国全面制裁事件。历史的车轮都是由这些大事件推动前进,看似是偶然而已。他们前赴后继,呕心沥血推动着历史朝着正确的方向前进。虽然有曲折,但是从未放弃。
中国半导体国产化真正发力是在2019年5月16号华为被美国全面制裁。中国才开始聚焦于半导体的全产业链国产化,坚定了科技的战略方向。我们用5年的时间走过欧美100年的路,这就是中国自古以来人定胜天的气质决定了。技术的研发虽然不是一朝一夕的事情,但是正视差距,奋起直追,科技的进程只会越来越快。星光不负赶路人,做难事,必有所得!
光刻机是半导体产业的皇冠明珠。因此光刻机是必须要攻克的,它在芯片制造过程中起着至关重要的作用,是半导体产业核心战略产品。因此光刻机的研发成为科技的上甘岭,这也是美国一直打压中国的原因。禁止日本、欧洲、韩国等出口先进制程的光刻机和相关材料,就是为了阻止中国的科技发展。因此中美在科技方面的上甘岭大决战是不可避免的。
光刻机的技术门槛极高光刻机能够在半导体晶圆上精确地绘制出微小而复杂的电路图案。这些图案的精度直接决定了芯片的性能和密度。光刻是半导体制造中最复杂和关键的工艺步骤之一。它涉及将电路设计从掩模转移到硅片上,这一过程需要极高的精度和稳定性
光刻机是有明显的代际演进。随着摩尔定律的推进,芯片的特征尺寸不断缩小,光刻技术也在不断创新。例如,极紫外光刻(EUV)技术使用更短波长的光,实现更小的特征尺寸,从而推动了芯片性能的提升。光刻机属于整个产业价值曲线分配最高的环节,占据了27%
光刻机是半导体制造设备中最昂贵的部分之一。其研发和制造需要大量的资金和技术投入。这也使得光刻机成为半导体行业中最具战略意义的设备光刻机的这些特点使其在半导体制造中占据了不可替代的重要地位,因此被誉为“皇冠明珠”。
中国自主研发光刻机突破美国不断加码的封锁中国已成功研发了90、65、55、45、28(纳米)等多个节点的光刻机,并开始量产和出口。这些光刻机虽然不是最先进的,但已满足部分国内外客户的需求,如汽车芯片、物联网芯片和安防芯片。据统计,2023年,中国自主研发的光刻机在国内市场份额达到15%,全球市场份额达到5%。我们已经走在了正确的科技兴国的道路上,美国的制裁只会让我们越走越快
国产5nm芯片首发在即,值得期待。比起2023年的华为Mate60的先锋计划,更期待Mate70的发布。拉动国产电子工业崛起 中国为世界打造科技第二平面,实现中华有为。
华为作为中国科技企业的领头羊,通过自主创新、技术引领和产业链带动,为国产电子工业的发展做出了积极贡献。中国半导体行业走在了正确的战略路径上,未来必将成为全球第二极。将来中国为世界打造科技第二平面,为全球提供第二选择。
中国通过自主创新敢把美帝拉下马,与美国在科技上实现分庭抗礼打造全球科技第二平面,中国科技出海,全面释放科技红利未来科技国产化满足国内需求,科技出海满足海外其他国家的需求,为全球提供科技第二平面,打造一个新的科技体系指日可待!
中国依靠规模经济优势,后发制人,奋起追赶未来在感知、连接、计算、存储、云、AI和应用领域,中国必将诞生一大批有竞争力的国际化企业,走出中国,走向全球,为世界提供第二平面选择。这也是美国打压中国,倒逼中国重新发展科技树的结果。
带动中国半导体工业的崛起,将是未来十年最大的产业红利。第一步先完成美国产品的替代,实现国产自主化。第二步出海寻求第二增长曲线,蚕食美国的海外市场。最终实现中国半导体产业真正在国际上站稳脚跟,扬名立万,敢于美国抗衡。
雄关漫道真如铁,而今迈步从头越!从头越,苍山如海,残阳如血。
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自我介绍:前华为人,战略规划15年经验,投资A股,4年25倍收益。终身学习,学以致用。产业战略洞察,科技锚点挖掘。躬身入局,胜天半子

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前华为人,战略规划15年经验,投资A股,4年50倍收益,130万字文章,650万公众号流量。实战总结一套产业投资方法论。终身学习,学以致用。产业战略洞察,科技锚点挖掘。
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