每套低数值孔径（NA）极紫外（EUV）光刻系统的成本超过1亿美元，是历史上最昂贵的半导体制造工具之一。
这就引出了一个关键问题：台湾半导体制造公司（TSMC）拥有多少台这种先进的EUV系统，尤其是考虑到这家晶圆代工巨头正在对下一代High NA EUV设备采取慎重态度。
虽然台积电和ASML尚未披露台积电收购的EUV系统的具体数量，但AnandTech和The Register的报告显示，2020年至2023年间，台积电在全球EUV系统安装中的份额已从50%增长至56%。
在回应最近关于台积电采用High NA EUV的询问时，The Register披露了在SemiWiki论坛上引发大量讨论的数据。
台积电在给The Register的声明中解释道，它将根据新技术创新的成熟度、成本以及对客户的潜在利益，仔细评估它们，例如先进的晶体管结构和新工具，然后再考虑将High NA EUV系统集成到其量产流程中。
该公司强调，正如今年早些时候在其2024年技术研讨会上所透露的那样，到2023年，其运营中的EUV系统数量与2019年相比增长了10倍，目前占全球EUV安装基数的56%。
业内人士估计，基于台积电在2022年收购的84台EUV系统和2023年收购的100多台EUV系统，该公司在2019年成功推出业界首个商用EUV光刻工艺时，很可能运营着大约10台EUV系统——专门用于其7nm技术的第二个版本N7+。
台积电的N7+工艺首次采用EUV光刻技术，后续的N5、N3等工艺也继续利用EUV技术。
除了台积电的N7+、N5和N3工艺之外，三星代工厂还在其7LPP、5nm和3nm GAA工艺中采用了EUV技术，同时将EUV纳入其DRAM生产中。（南华早报）
