Microstructures新文速递 | 于荣团队:给材料科学家的电子叠层成像简介

文摘   2024-10-11 17:09   上海  


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文章题目Introduction to electron ptychography for materials scientists

第一作者:于荣

通讯作者:于荣

通讯单位:清华大学

DOI:10.20517/microstructures.2024.46




图片摘要



01

背景介绍


即使在像差校正电镜方兴未艾之时,材料微观结构的原子尺度分析也面临残余像差、带轴偏离、表面损伤和辐照损伤等难题,不仅使电镜的空间分辨率近年来一直徘徊在0.5 Å左右,也制约了微观结构分析的可靠性和精确度。




02

文章简介


电子叠层成像(electron ptychography)是基于4D-STEM数据的一种计算成像方法,是微观结构分析领域继像差校正电镜后最重要的进展。最近,通过局域轨道电子叠层成像,显微成像的信息极限已达0.14 Å。而且,电子叠层还具有零像差成像的特点,能够近乎完美地重现样品的真实结构。本文从材料微观结构分析面临的主要问题出发,简要介绍电子叠层的基本原理和主要算法,并通过应用实例介绍电子叠层所具有的高空间分辨、高相位精度、高位置精度、高剂量效率、深度分辨、取向成像等特点。在郭可信先生诞辰100周年的纪念文章“电子叠层的原理与特点”的基础上,本英文版补充了一些示意图、应用实例、参考文献;还增加了一个附录,比较详细地介绍了CPP,LOP,以及APP方法。

Figure. 传统像素化叠层成像与局域轨道叠层成像





03

结论与展望


电子叠层作为像差校正电镜后的新一代结构分析方法,能够有效地解决原子尺度微观结构分析面临的各种难题,将材料的微观结构分析带上了一个新的高度。随着计算机硬件和算法的发展,电子叠层将逐渐获得广泛应用;空间分辨信息极限将不断提高,进入0.1 Å以内;并且揭示自旋、电荷、轨道等电子层面的信息。




       基金支持


本文研究由国家自然科学基金(52388201)支持。



       通讯作者简介

于荣:清华大学长聘教授、杰青。长期从事电子显微学与材料科学研究,主要在原子尺度研究材料的晶体结构与缺陷、电子结构与磁结构,并开展稀土永磁材料与工艺研究。发明了自适应传播因子叠层成像、局域轨道叠层成像、局域轨道三维重构等方法,将显微成像的信息极限推进到了14皮米,实现了原子分辨的磁成像、低剂量亚埃分辨成像、金属中单个间隙轻原子的显微成像。课题组近三年来相关学术论文成果已在Nature Materials, Nature NanotechnologyScience AdvancesNature CommunicationsActa Materialia等SCI期刊发表多篇论文,授权发明专利和软件著作权多项。


                                                                                                    



                                                                                                    

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Microstructures  [ISSN 2770-2995(Online)]是一本金色开放获取,严格同行评议的国际学术期刊,目前已被ESCI, Scopus, CAS, Dimensions, Lens, CNKI等重要数据库收录。刊文范围包括从微观尺度到原子尺度,面向终端用户的应用程序的设计、制造、建模、表征、测试和评估,涵盖但不限于金属和合金、陶瓷、聚合物、复合材料、晶体、玻璃、生物材料、界面和纳米材料等。自2021年正式创刊以来,共计发表4卷12期,132篇文章,Google总引用756次,篇均引5.7次,10指数29(google数据)。其中Web of Science数据库总引用600余次。



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