详细谈会几千字，浓缩一下，两句话解释问我清华极紫光方案以及光刻工厂的问题；
1这只是激光光源的一种解决方案。光刻是一个系统工程，不是只有光源就可以，比如如何建立如此大的真空环境。因为13.5nm激光空气中衰减极大，等等。光刻机不是只是一个激光笔，拿着就能刻字。
2功率太大。如何分光，反射镜系统，同步生产可能性等等，都是问题。就如同人类拥有氢弹几十年了，但要造一个可控核聚变的家用电站却很难。有巨大的能量，如何使用，任重道远。
其它的就不多说了，太多的细节，具体包括刻蚀的具体操作步骤，我这种搞激光出身，但没有进入芯片制造业的人，也很难解释得专业且清晰简单。
任何科技创新和进步都是循序渐进的，不可能一蹴而就。每一个工程革命，都是要进行系统性创新的，不可能一日之功。任何一个关键性技术，只是系统工程中的一个难点而已。
如果有兴趣，多去看看教科书和讲义。不要沉迷于快餐式科普。如果这样能行，专业学习不都没用了？
