中国市场前景广阔，且是各大企业竞相逐鹿的首选之地。为了在竞争激烈的中国市场站稳脚跟，日立高新技术全力推进开拓中国市场的企业战略，而重中之重便是培养、延揽人材。本集团堪称国际人材大家庭，其中包括在中国大陆录用、培训并起用的优秀员工，以及来自日本、韩国、中国台湾等国家或地区的精英，他们在富有挑战性且有助提高自身能力的职场环境中充分发挥聪明才智，进而推动企业战略的实现。
产品
蚀刻机台
20纳米世代后的装置对精度和工艺要求非常高，如双重图案和3D构造，以及针对新材料相对应的高精密度复杂制程要求，包含后道处理和形成保护膜等。为了对应这类下一代器件工艺，半导体蚀刻装置9000系列统一了接口并且能够搭载高精度模块化的各种腔室，从而实现了对应先进器件的扩展性和柔软性的工艺。
搭载日立先进技术的CD-SEM CS4800兼容4、6、8英寸晶圆的CD测量，提供高解析度的SEM成像，更高的测量精度和快速自动化操作，将有助于提高客户现有生产线的生产力。此外用户可以通过简单的操作处理自动搬送两种不同尺寸的晶圆。除了传统的硅基晶圆以外，对于SiC（碳化硅），GaN（氮化镓）等材质晶圆也有丰富的对应实绩。
高速缺陷观测设备CR6300(Defect Review SEM)
运用ADR和高精度ADC来为提高良率做贡献的Inline缺陷观测SEM。
光-电联用显微镜法（CLEM）系统 MirrorCLEM
MirrorCLEM是一个可简便观察光学显微镜和扫描显微镜同一位置的CLEM*1用系统。
创新的“EM Wizard”界面更加直观，仅需要“点击”即可得到理想的图像。
超前的电脑辅助技术将电镜的操作与控制提升到一个新水平。
SU7000不仅可以在低加速电压下获得高画质图像，而且还可以同时接收多种信号。此外，它还具备大视野观察、In-Situ观察等FE-SEM的众多优异性能。
SU7000是一台实现了获取大量信息的新型扫描电镜，可以满足客户的多种观察需求。
专门为电子束敏感样品和需最大300万倍稳定观察的先进半导体器件，高分辨成像所设计。
200 kV相差校正TEM/STEM，平衡了空间分辨率和倾斜、分析性能
通过单极片实现0.078 nm的STEM空间分辨率和高样品倾斜度、高立体角EDX。
透射电子显微镜除了延续了日立公司配备的球面像差校正器的功能、自动校正功能，像差校正后的SEM图像和对称Dual SDD技术等特点。还融汇了透射电子显微镜HF系列中所积累的技术。
对于包括高端用户在内的广泛用户，我们提供亚Å级空间分辨率和高分析性能以及更多样化的观察和分析方法。
以创新的操作性，满足广泛领域的需求。
新一代TEM"RuliTEM"诞生。
～从生物医学到材料领域～
"RuliTEM"120 kV透射电子显微镜系列，包含配备高衬度透镜，实现大视野、高对比度观察的HT7800和配备高分辨率透镜的HT7830。
全新操作可应对日常工作。
多功能扫描探针显微镜AFM100 Plus /AFM100 系统
AFM100 Plus /AFM100系统是以在研发、生产、教育等各种场合普及AFM应用为目的， 并追求操作性、可靠性及高效率观察的通用型高分辨扫描探针显微镜系统。
除高精度扫描器和各种测量自动化功能，还配置两种共享坐标样品台功能。通过多种设备的关联解析，实现了单个设备无法实现的多维缺陷评价和故障解析。
扫描探针显微镜AFM5500MⅡ配置宽范围平板扫描器，降低了机械原因造成的测量误差。自动悬臂更换等自动化功能有助于提升品质管理，提高测试效率。
单独使用AFM5500MⅡ测试可以得到形貌和物理测量结果，再利用与SEM/CSI等其他显微镜的共享坐标样品台功能，可以实现高精度的故障解析与缺陷评价。
此外，由于新增了AFM标记功能，多台设备可以轻松测量样品的同一位置。
原子力显微镜工作站AFM5000II／RealTune® II
AFM5000Ⅱ工作站采用全新的图标用户界面，标准配备参数自动设置功能(RealTune® II)，即使是刚刚接触SPM的初学者或者遇到全新的样品时，也能快速获得准确的测量数据。
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