12月20日,上海见|梧桐荟 “产·投·研”沙龙 第6期——芯片级散热技术发展应用与投资机会

科技   2024-12-13 21:19   北京  
时间:2024年12月20日 周五 
地点:上海市徐汇区云锦路701号西岸国际人工智能中心9层
形式:需提前报名(短信查收报名通知)。
我们将邀请产业专家、项目团队、投资机构。围绕主题进行嘉宾主题演讲、圆桌论坛、问答环节。交流产业洞察,发现投资机会
主办单位:水木梧桐创投、独木资本
支持单位:仲德科技、芯率智能
媒体支持:芯榜、芯果、亚太芯谷科技研究院、黑马产业研究院、财联社、科创板日报、猎云网、钛媒体、大话芯片、头部科技等

近几年随着AI技术的大力发展,芯片的散热已经成为困扰半导体及工业界的重要问题,也带来了新的投资机遇。

芯片的小型化和高度集成化,会导致局部热流密度大幅上升。算力的提升、速度的提高带来巨大的功耗和发热量。台积电发布的一份报告显示,未来一些面积大于500平方毫米的“大芯片”,其目标设计功耗可能会高达2000瓦以上。尽管芯片工艺尺寸不断减小,但是功耗密度却在不断增加。半导体工艺一旦进入2nm,芯片的晶体管数量和算力自然会高倍数提升。AI算力‘飚升’的场景对超高功率芯片的解热及散热将持续带来巨大挑战。最终真正能确保高算力IC芯片发挥其设计极致功能的将是针对这些IC推出的超高功率解热及散热技术。

另外,ChatGPT掀起全球人工智能热潮,其中涉及的各种CPU、GPU、存储芯片、AI芯片、交换机芯片和光模块等功耗都非常大,如果它们产生的热量不能传导出去,那么芯片就会被烧坏。有数据显示,超过55%的芯片失效,都是源于热量传不出去,或是由温度升高而引起。芯片在70℃以上时,温度每升高10℃,其可靠性就会降低50%。所以,制约高算力芯片发展的主要因素之一就是散热能力。未来,人工智能行业也会因为算力散热问题被“卡脖子”。

散热又是一层一层的工作,从芯片级到装置级,再到基地级,为了更好的解决越来越高的功耗带来散热挑战,每一层的散热技术都在不断地实现突破和迭代,这其中芯片级的散热成为了半导体领域重点在攻克的环节。随着GPU、CPU的制程逐步提高,芯片封装体内的功耗越来越高,全球的头部企业,包括了英伟达、AMD、intel、三星等芯片设计公司,以及台积电、日月光等生产企业,都在投入较大的人力和资本开展新型散热技术的研究和应用,这其中尤其以VC-Lid、金刚石、3D VC等在芯片级层面应用的技术作为研究的重点。

我们希望通过日积月累,持续汇聚中国最具成长潜力的科技创业者、科技成果转化创业企业,并在这里帮助他们找到更多同行人。
      
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