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近日，湖南大学Yang Zhang, Yue-Ying Zhou, Shihao Zhang, Hao Cai，Wen-Xiao Wang, Zhihui Qin & Long-Jing Yin等，在Nature Nanotechnology上发文，报道了在令人惊讶的液氮温度时，基于扫描隧道显微镜和光谱学，在3到9层菱方石墨烯RG多层膜中，观察到了层相关的电子结构和相关性。
明确地确定了层增强的低能平带和层间耦合强度。低能平带直接表明在较厚的菱方石墨烯RG中，低能带的进一步平坦化，层间耦合强度表明，在菱方石墨烯RG多层膜中，存在变化的层间相互作用。
研究还发现，在77K温度下，当菱方石墨烯RG被部分填充时，从~50MeV到80MeV平带发生了显著的劈裂，这表明出现了相互作用诱导的强关联态。特别在较厚的菱方石墨烯RG中，关联态的强度显著增强，并在六层中，达到最大值，直接验证了理论预测，并为强关联系统建立了丰富的新候选者。
这一研究，为菱方石墨烯RG中电子性质的层依赖性，提供了有价值的见解，并证明是研究稳健和高度可获得相关相的合适材料系统。
通讯作者：Wen-Xiao Wang, Zhihui Qin & Long-Jing Yin
通讯单位：湖南大学
Layer-dependent evolution of electronic structures and correlations in rhombohedral multilayer graphene.
多层菱方石墨烯中，电子结构和关联的层相关演化。
文献链接
Zhang, Y., Zhou, YY., Zhang, S. et al. Layer-dependent evolution of electronic structures and correlations in rhombohedral multilayer graphene. Nat. Nanotechnol. (2024).
https://doi.org/10.1038/s41565-024-01822-y
https://www.nature.com/articles/s41565-024-01822-y
本文译自Nature。
信息来源：今日新材料
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