SK海力士合作公司高管因严重泄露核心技术被判更重刑罚，二审法院加强了对A先生及其同伙的惩处，不仅因其向竞争对手泄露了SK海力士的敏感信息，更因其行为对整个韩国半导体行业造成了深远影响，再次凸显了技术保密的重要性。
近日，韩国首尔高等法院对一起涉及SK海力士合作公司高管泄露核心技术的案件作出二审判决。该案中，合作公司副社长A先生及其三名员工因涉嫌向国外竞争对手泄露SK海力士的核心半导体技术，以及窃取三星电子子公司的设备蓝图而受审。
10月18日，首尔高等法院刑事第七庭对A先生判处1年有期徒刑，并因违反《工业技术泄密防止及保护法》另加6个月监禁。这一刑罚相比一审的有期徒刑一年更为严厉。同时，三名同案员工在二审中也由缓刑增至1年至1年6个月的有期徒刑。此外，合作企业还被判处10亿韩元（约合519万元人民币）的罚款，高于一审的4亿韩元。
二审法院认定，A先生等人不仅向第三方泄露了SK海力士提供的信息，还泄露了在共同开发过程中开发的大量衍生技术。法院指出，被告人的犯罪行为对受害企业以及整个韩国半导体行业都产生了严重影响，特别是A先生作为最终决策者，指挥了犯罪行为，应负主要责任。
据悉，A先生等人涉嫌在2018年8月至次年6月期间，向一家半导体公司泄露了与SK海力士合作时学到的HKMG半导体制造技术、清洗配方等核心技术、尖端技术和商业秘密。HKMG是一种新一代工艺，可用于提高DRAM半导体的速度并降低功耗。此外，他们还涉嫌通过三星电子半导体设备子公司SEMES的前员工，秘密获取先进的半导体技术和商业机密，并开发设备出口到国外。
此次判决再次提醒企业和个人，保护核心技术和商业机密至关重要，任何泄露和窃取行为都将受到法律的严厉制裁。
