前言
当我第一次看到LC-MS方法时，我对MS设置中的各种缩写参数感到困惑，找不到一个好的指南来为初学者介绍所有内容，虽然每次都能从仪器工程师那得到部分解答，但告知的也并不全面，也有可能跟提问的方式与角度有关吧。因此，才有了“学习交流”与“玩转质谱”这些系列文章，并希望它能成为一本很好的小册子，让其他人迈出攀登方法开发“山峰”的第一步。
现在就让我们一起看下三重四极杆MS配置中的一些关键参数所代表的意思吧，它又有什么作用。
液质相关参数示意图
源相关参数
GS1（雾化器气体）：这是有助于液滴形成的气体。它有助于从入口流中剪切液滴。
GS2（加热气体）和TEM（源温）：TEM是与辅助气体加热相关的温度设置。当氮气流过时，它被加热并作为GS2（加热气体）流出。TEM和GS2的使用可促进脱溶剂化，并有助于离子蒸发过程最终冷凝带电分析物，产生气相离子。
IS（离子喷雾电压）：这是施加在针和孔板之间的电压。产生的强电场最终将形成的离子拉入分析仪。
CUR（帘式气体）：这是窗帘板和孔口之间的气流。它排斥溶剂液滴和中性物质，以防止源污染并保持Q0清洁。此参数应尽可能保持高，而不会失去灵敏度。
IHE（界面加热器）：界面加热器有助于最大化离子信号并防止离子光学元件污染。对于生物分析方法，它几乎应该始终打开。
扫描参数
DP（去簇电位）：DP对应于施加到孔口的电压，以最大限度地减少样品离子进入真空室后可能残留在样品离子上的溶剂簇。离子将通过去团聚电位加速，以获得足够的能量并敲除剩余的溶剂分子。然而，更高的DP并不总是更好。不必要的高电位可能会引起不必要的碎片，甚至响应的线性也可能因使用非最佳设置而受到影响。
EP（入学潜力）：这是Q0电压与地之间的电位差。它用于引导和聚焦离子通过Q0区域。EP 对系统优化的影响很小。
CE（碰撞能量）：这是Q0和Q2（碰撞单元）之间的电位差。前体离子接收能量并加速进入碰撞池，在那里它们与气体分子（CAD气体）碰撞并形成碎片离子。碰撞能量越高，引起的碎片就越多。
CAD（碰撞气体）： 碰撞气体有助于破碎前体离子。当前体离子与碰撞气体碰撞时，它们可以解离形成产物离子。
CXP（碰撞单元退出电位）：CXP 聚焦、加速并将离子从 Q2 传输到 Q3。
小结
这些参数在很大程度上取决于给定化合物的物理化学性质，必须进行优化，尤其是DP、CE和CXP。设置也因供气的性质和仪器制造商而异。此外，每个人都有自己的习惯和偏好，这可能会影响最终的设置。每个参数的典型值和工作范围可在制造商的系统用户指南中找到。
【每周分享-01】液质中的去族电压（DP）和裂解电压（CE）
【每周分享-02】液质参数中 event/loop/dwell time 的相互关系
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在这里也只是“抛砖引玉”，希望能够对大家有所帮助。
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来源|网络
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