制造尖端芯片不可或缺的EUV（极紫外）光刻设备即将登陆日本。日本Rapidus（位于东京千代田区）将于2024年内在千岁工厂(北海道千岁市)引进，这将是日本国内首次引进。将由世界上唯一制造EUV光刻设备的荷兰阿斯麦(ASML)提供。
以Rapidus为开端，日本的半导体工厂将陆续引进EUV光刻设备。美国美光科技将于2025年在广岛工厂(位于广岛县东广岛市)引进，自2026年开始用于DRAM的量产。据推测，台积电(TSMC)将在力争于2027年投产的熊本第2工厂(熊本县菊阳町)引进。日本产业技术综合研究所将与美国的英特尔（Intel）合作，建立使用EUV光刻设备的研发基地。
EUV光刻设备由荷兰阿斯麦垄断市场(照片：阿斯麦)
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（本文由日经BP提供）
