光刻机是半导体制造过程中的关键设备。随着半导体产业在电动汽车、风光储、人工智能等新需求的推动下持续发展，光刻机前景广阔。
光刻机的定义及分类
光刻机，又称光刻对准曝光机、掩模对准曝光机、曝光系统或光刻系统等，是光刻工艺乃至整个芯片制造过程中的核心设备。光刻机可以根据不同的分类标准划分为多种类型，以下是一些常见的分类方式：
资料来源：中商产业研究院整理
光刻机行业发展政策
光刻机是芯片制造流程中不可或缺的核心设备。近年来，国家层面出台了一系列法规和产业政策，推动国产替代进程，通过政策引导、资金扶持等方式，引导鼓励国内光刻机企业加大研发力度和投入。
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光刻机行业发展现状
1、光刻机占比
光刻机能够将芯片图案投影到硅片上，实现微小结构的制造。目前，光刻机是半导体设备中市场占比最大的产品，市场占比达24%。
数据来源：SEMI、中商产业研究院整理
2、光刻机全球市场规模
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3、光刻机销量结构
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4、光刻机竞争格局
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光刻机行业重点企业
1、上海微电子
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2、芯碁微装
芯碁微装从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售以及相应的维保服务。芯碁微装在直写光刻设备领域推出了多个产品系列，如MAS系列、RTR系列、NEX系列、FAST系列、DILINE系列等，不断进行性能升级与下游应用的拓展。芯碁微装在直写光刻设备领域拥有关键核心技术，其直写光刻设备可应用在IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件、IC掩膜版制造、先进封装、显示光刻等环节。
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3、华卓精科
华卓精科主营业务为光刻机双工件台、超精密测控装备整机以及关键部件等衍生产品的研发、生产以及销售和技术服务。公司在光刻机双工件台技术方面取得了重要突破，并成功研制出国产光刻机双工作台系统，打破了国外在这一领域的技术垄断。
华卓精科的光刻机双工件台是其核心产品之一，具有高速运动、高精度定位和高稳定性等特点。公司推出了DWS和DWSi两种系列的双工件台，分别适用于干式步进式扫描光刻机和浸没式光刻机。
4、大族激光
大族激光在光刻机领域拥有自主研发的核心技术，其光刻机项目分辨率在3~5微米，主要聚焦分立器件和LED领域的应用。大族激光的光刻机产品线相对丰富，包括不同型号和规格的光刻机设备，以满足不同客户的需求。大族激光的光刻机主要应用于分立器件、LED等领域，市场定位较为明确。同时，公司也在积极探索和拓展其他领域的应用，如半导体封装等。
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5、晶方科技
晶方科技通过收购Anteryon公司，布局了光刻机相关业务，Anteryon是ASML（荷兰光刻机制造商）的核心供应商之一，提供了晶圆级光学元件技术。这意味着晶方科技不仅在光刻机行业中具备核心竞争力，而且还通过其子公司参与了光刻机相关技术的研发和生产，进一步强化了其在该领域的地位和影响力。
光刻机行业发展前景
1、国家政策支持产业发展
中国政府持续加大对半导体产业的支持力度，推动国产光刻机的发展。国家出台了多项政策鼓励半导体产业的发展，包括提供财政支持、税收优惠等。政策环境的优化为国产光刻机提供了有力保障。
3、光刻机市场需求大
随着新能源汽车、人工智能、物联网等新兴产业的蓬勃发展，对芯片的需求不断攀升，从而推动了光刻机市场的增长。此外，中国作为全球最大的半导体市场之一，对光刻机的需求尤为旺盛。随着国内半导体产业的快速发展和国产替代政策的推进，国产光刻机有望在市场上占据更大的份额。
3、技术创新推动行业发展
光刻机技术将继续向更高精度、更高效率的方向发展。同时，随着多元化技术路线的出现和发展，光刻机技术有望实现更多的创新和突破。技术创新与突破将推动光刻机产业发展。
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