工作稳定性成为影响有机场效应晶体管（OFETs）商业化的关键问题。人们普遍认为它与介电介质和有机半导体界面上的缺陷和陷阱密切相关，但这种认识并不总是有效地解决运行不稳定性问题，这意味着影响运行稳定性的因素尚未得到充分了解。
2024年9月6日，天津大学Tie Kai等人在Science Advances 在线发表题为“Crucial role of interfacial thermal dissipation in the operational stability of organic field-effect transistors”的研究论文，该研究揭示了自热效应是影响运行稳定性的另一个关键因素。这项工作加深了对运行稳定性的认识，为超高稳定器件的研制开辟了一条有效途径。
但是，在2025年1月29日，该文章被撤回，主要原因是数据异常。
