上海集成电路设计产业园2b-6项目

文摘   2024-11-02 11:35   上海  
近日,上海集成电路设计产业园2b-6项目建设进度喜人,地下室正负零结构板施工现已完成,A塔楼主题结构施工至18层,B塔楼至7层,C塔楼至3层。该项目预计于2026年全面竣工。


上海集成电路设计产业园2b-6项目基地四至范围为北临2b-5公共绿地、西临盛夏路、南临银冬路、东临张东路。项目占地面积43,505平方米,容积率5.0,根据规划,将配置约15万平米的办公空间、2.5万平米的酒店和5万平米的商业配套。

竞赛阶段项目场地分析

项目动线设计以 “安全、高效、便利、灵活”为原则,合理组织项目内的办公、商业、人流、车流与货运流线。项目中央广场与周边建筑相呼应,为在此办公和休闲的人群提供了一个活力多元的绿色公共空间。


竞赛阶段项目手绘图
项目建筑功能业态丰富集成,将多样化空间完美融合在一起,建立人与建筑之间的情感联系。可持续设计也持续贯穿在设计理念中,结合多样化的绿色元素意在打造一个水绿交融的生态活力中心。


竞赛阶段项目体块生成图

向右滑动查看更多效果图


项目意在打造一个共治共享的创新生态共同体、大师云集的科技创新策源地与科创人才近悦远来的创新氛围。整体空间自西向东递升,形成八大亮点空间:张江之眼、天幕街区、潘多拉花园、流云露台、百变中庭、星辰广场、屋顶乐园和时光通道。

项目亮点空间

立面设计以简洁、科技、流畅为主旨,建筑造型力求简洁、统一,内部积极回应公共平台空间,拥有更加有机的造型,外部通过有序的手法追求简洁大气的立面效果。立面的凹凸进退在视觉上拔高了建筑体量并串联起不同的功能体块,塑造简约大气、优雅流畅的整体氛围

向右滑动查看更多效果图


同时,建筑立面极具未来感,弧形凹槽强调竖向线条的同时柔化了生硬的直角,突显企业科学创新特征,彰显科技要素集聚特色;此外还采用了玻璃与铝板的肌理变化传达设计意象,室外露台使得建筑更为生动,与周边自然更加和谐,赋予城市生态森林的立面形象。



项目所在的上海集成电路设计产业园位于"金色中环"核心区,规划面积约4平方公里,其中2b-6项目预计于2026年建成,届时将为园区再添深具引领作用的科创标杆新空间。





查普门泰勒设计团队

集团董事: Chris Lanksbury
项目主创:蒋毅 Johnny Jiang
项目负责人:  张鑫 Zhang Xin, 刘家齐 Jiaqi Liu
计人员: Wen Hao, Jingbo Wang, Xing Min, Huichao Han, Xiangjun Zhang, Lili Dong, Xianshuang Zeng, Liu Ke, Chenyi Zhang, Vivian Wang, Zhengyu Sun, Shinan Li, Zhu Hua, Zhikai Chen, Shi Hui, Yixin Liu, Yuting Lu, Zhang Yang, Yuntian Shi, Yunxiao Ji, Jingyi Wang, Elena Michelutti

项目合作设计单位:
同济大学建筑设计研究院(集团)有限公司(一院)







免责声明:
以上图片及资料内容部分来源于网络,版权归原作者所有。


有料设计市集
精选设计资料与案例分享 Let Even A Brick To Be Something微店店铺同名~
 最新文章