虽然等离子体光刻技术可以突破衍射极限，产生超分辨率的图案，但金属固有的高损耗严重阻碍了其在实际应用中的应用。本文提出了一种基于介电光子晶体（PC）结构的新型光刻方法，并对其纳米膜进行了系统的分析。结果表明，PC机能够有效地传输所需的高k波，有利于产生深亚波长图样和实现超分辨率光刻。典型地，PC由多层的九层薄膜堆叠而成。在光刻胶层中形成周期为60 nm的纳米图案。
此外，这种基于pc机的光刻系统对多层表面粗糙度具有容忍度。分析表明，这种基于介质pc的设计可用于超分辨率光刻，产生具有强场强、高纵横比和均匀性好的周期性图案。
论文结果
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仿真结果表明，该光刻系统不受多层光刻系统粗糙度的影响，可以灵活地设计光栅掩模。该方法为超分辨率光刻技术提供了新的见解，有望在各种周期图案的纳米制造中得到应用。
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