2024年5月27日至31日，由蔡司显微镜主办的蔡司先进显微表征分析技术系列研讨会在北京、沈阳和上海陆续举行。
本系列研讨会旨在介绍和讨论先进材料研究中所急需的显微学新技术及其发展现状，探讨这些技术在材料科学中的多维度、多尺度、多参数综合分析研究的应用。
系列研讨会邀请并吸引了多位顶尖专家学者出席并分享先进金属和材料表征中的高效率、高精度缺陷分析难题和解决方案，涵盖了金属、陶瓷、电子半导体等多个领域。
马克斯-普朗克研究所(MPI)“显微学与衍射”研究组负责人
Stefan Zaefferer博士
Stefan Zaefferer博士分享了用于SEM的电子通道衬度成像技术（cECCI）的理论与应用，其基于晶格错排导致的背散射电子局部产额差异成像。此技术非常契合先进显微表征中迫切需要解决的高效率、高精度缺陷分析难题，引起了与会专家学者们的热烈讨论。
Stefan博士还详细介绍了cECCI的原理、流程、案例和分析方法，还进行了细致的具体演示和答疑，充分展示了cECCI技术的惊艳效果和科研潜力。
相较于传统方法，该技术具有下列鲜明特点：
✓ SEM的制样手段，TEM的表征效果
✓ 支持缺陷的定性定量分析
✓ 自由的表征面积，可大可小
✓ 支持宏观样品的原位测试
✓ 流程简捷，易上手
各地会场学者倾力分享
北京会场
先进金属表征分析技术研讨会
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沈阳会场
先进扫描电镜表征分析
上海会场
先进材料表征分析技术研讨会
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上海会场
SEM晶体缺陷定量定性技术(cECCI)研习班
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与此同时，为了更好的让各领域专家理解和掌握cECCI方案，蔡司在线上线下同步开展了专题培训班，获得了很好的效果与反馈。
蔡司显微成像客户服务中心演示和参观
在系列研讨会的表征分析技术演示环节，蔡司显微成像客户服务中心为专家学者们带来了多种独具特色的先进方案，与老师们共同探讨如何将这些方案与实际科研相结合，最终实现科学问题的解决。
活动最后，蔡司显微镜材料科学负责人黄铭刚先生表示：蔡司持续重视客户的需求，坚持外部合作与研发创新相结合，为科学家们带来更高效、更智能的解决方案，助力开辟科研新思路，收获更好的科研成果！
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