您在半导体失效分析工作中遇到过这些困难吗？
难以实现高分辨高倍率的成像？
由于新材料和新器件结构的不断更新，困扰于用哪种合适的探测器获取高衬度和信噪比的图像？
疲于学习各种复杂的先进显微成像应用？
在显微镜中手动地导航到前序分析中找到的缺陷十分费时费力？
担忧电子束对于先进工艺样品造成的辐照损伤？
找不到专用于您的失效分析痛点的定制化软件解决方案？
在您的工作中时常遇到上述挑战？来一起探索蔡司Gemini电子光学技术，为您解决这些问题的同时简化操作。
高衬度的低电压VC
（voltage contrast）成像
蔡司Gemini电子光学技术拥有优异的低电压成像能力，能获得准确的电压衬度（PVC）图像，用于快速的失效定位。
▲ SRAM区域的电压衬度图像
有利于电性表征的
不漏磁光学系统
蔡司Gemini镜筒可实现不漏磁的超低电压成像，是纳米探针（nanoprobing）测试的理想平台。具备3nm制程的测试能力，且能实现低至100eV的SEM实时成像，极大地降低电子束辐照损伤。
▲ 80V加速电压下成像，SRAM区域和八根纳米探针
创新的探测器技术
提升速度、分辨率和衬度
亚表面结构的观察和快速导航需要高扫描速度、高分辨、高信噪比的高电压成像。蔡司高速背散射电子探测器（Rapid BSD）满足了这类使用需求。
▲ 5nm FinFET的背散射电子图像
超大视野的高分辨成像
在大面积成像中实现精度和效率的兼顾需要大视野无畸变成像的能力，Gemini镜筒的设计提供了12mm的观察视野和最大32k x 24k像素的分辨率，可以实现单张图片的大视野高分辨，也可使用自动的拍图拼图工作流程进一步提升效率。
▲ 2.5D封装截面，单张图大视野成像
稳定性和易用性
改变电压、束流时保持聚焦和视野的一致性能显著提高日常FA工作的效率，蔡司Gemini镜筒的稳定性更好地实现了这一特点。
▲ 切换电子束加速电压时图像变化
为半导体应用专用定制的软件解决方案
蔡司Solutions Lab可为半导体用户快速开发专用于特定场景的定制化解决方案，无论是自动化工作流程、AI助力的特征识别、分割、导航、量测或数据管理，我们都能为您提供专业支持。最大化利用蔡司显微镜的潜力，更高效获得所需的数据。
▲ 使用可视化编程工具实现电镜的自动化工作流程
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