据ASML网站公告，荷兰政府9月6日发布了关于浸润式DUV半导体设备出口的最新许可要求。ASML认为，这一要求将协调颁发出口许可证的方式。
根据更新后的许可要求，并据美国出口管理条例734.4.(a).(3)，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCANNXT:1970i和1980i DUV浸润式光刻系统。荷兰出口许可要求已适用于TWINSCANNXT:2000i及后续DUV浸润式系统。ASML的极紫外（EUV）系统的销售也需遵守许可要求。 荷兰政府发布的最新许可要求将于9月7日起生效。
有消息称，荷兰政府周五新公布的出口管制规定，要求ASML就其部分机器向海牙而非美国政府申请许可证。ASML发言人Monique Mools表示，“由于新的要求，ASML将需要向荷兰政府申请出口许可证，而不是向美国政府申请光刻机TWINSCANNXT:1970i和1980i的出口许可证。预计新规不会对我们2024年的财务前景产生任何影响，也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。”
荷兰贸易部长雷内特·克莱弗在宣布最新消息时表示：“我做出这个决定是为了我们的安全。我们发现，由于技术的发展，这些特定生产机器的出口存在更多的安全风险。”尽管美国和荷兰仍在就出口政策进行谈判，但周五的决定是一个切实的举措，应该可以缓解两国政府之间的紧张关系。
所涉及的机器是ASML的1970i和1980i DUV浸润式光刻设备，大约处于其产品系列的中间位置。在美国的压力下，荷兰政府从未允许ASML向中国客户运送其最好的EUV工具，同时从2023年9月开始要求对NXT:2000系列及更高版本的DUV工具进行许可。
2023年10月，美国单方面开始限制ASML 1970i和1980i工具的出货，理由是其包含一些美国零部件。荷兰议会议员曾就此对荷兰主权的影响提出质疑。（来源：券商中国）
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