中科大物理学教授朱士尧：中国永远造不出光刻机
文摘
科技
2024-09-19 07:02
上海
近年来，光刻机作为高端芯片制造的核心设备，备受全球科技界和公众的关注。很多人都期待中国能尽快攻克这一技术壁垒，实现高端芯片的自主生产。然而，来自中科大物理学教授朱士尧的一番言论却让这一梦想蒙上了阴影。在一次采访中，朱士尧教授明确表示：“光刻机，中国永远造不出来。”这一发言引发了广泛的讨论，很多人对此感到不解甚至质疑。那么，光刻机到底有多难，为什么连中国都无法造出来呢？
光刻机，尤其是用于制造5纳米芯片的极紫外光刻机（EUV），是现代芯片制造过程中最核心的设备之一。芯片制造中，光刻机的作用相当于“微型投影仪”，它通过光源将电路图案精确地刻画在半导体晶圆上，形成芯片的精密结构。随着技术的发展，芯片尺寸越来越小，制造过程中的精度要求也越来越高。5纳米光刻机，就是能够以极高精度刻画出仅为5纳米（相当于1根头发丝直径的几万分之一）大小的芯片结构。如此高精度的设备，不仅依赖于光学、材料学、机械工程等多学科的融合，更需要全球最顶尖的技术集成。朱士尧教授在采访中坦言，“光刻机是一个国家整体实力的表现，而在这方面，中国与西方国家差距巨大。” 他指出，光刻机的制造涉及到多个学科和技术领域，是全球数十个国家顶尖工艺的结晶，并非任何单一国家能够独立完成。以目前全球唯一能够制造5纳米光刻机的荷兰阿斯麦公司（ASML）为例，尽管其看似是荷兰的公司，但背后汇集了来自美国、德国、日本等几十个国家的技术支持。阿斯麦公司更多的是负责组装，真正的技术来自于全球各地的顶尖企业和科研机构。因此，朱士尧教授认为，中国在短期内不仅不可能造出5纳米光刻机，甚至在未来相当长的一段时间内都难以实现这一目标。他进一步强调，“即便是美国，也无法独立制造出光刻机。”光刻机之所以如此难以制造，是因为其涉及的技术和工艺极其复杂。朱士尧教授形容光刻机的尺寸“相当于一个集装箱那么大”，而其内部包含了成千上万的精密零部件。目前许多人误以为中国在某个领域取得的技术进展意味着我们即将造出完整的光刻机，这是错误的观念。他指出，“光刻机有数百个工序，每一个工序中的一小步进展，并不代表我们整体上缩小了与国外的差距。”朱士尧教授指出，中国在综合科学技术和工艺水平方面，与欧美国家相比至少落后50到100年。正因如此，他才坚定地认为，中国在未来很长一段时间内都难以造出真正的5纳米光刻机。尽管朱士尧教授的言论听起来十分悲观，但他也并非全盘否定中国在光刻机领域的未来。他指出，“光刻机的难点在于综合实力的提升，而非某一领域的突破。”因此，中国要想在光刻机制造上实现突破，必须在基础科研、材料科学、精密制造等多个领域持续发力，这需要长时间的积累和全球合作。
近年来，中国在芯片和半导体领域确实取得了一些进展。例如，华为等公司在芯片设计和研发上取得了显著突破，国内一些企业在制造设备上也有所突破。但是，这些进展距离真正能够生产5纳米光刻机还有很长的路要走。朱士尧教授认为，“未来我们将逐步解决这些问题，但需要时间和积累。”那么，中国真的永远无法造出光刻机吗？从朱士尧教授的角度来看，这个过程或许会非常漫长，但并非完全不可能。他承认，随着中国科技水平的不断进步，未来逐步突破光刻机的某些关键技术是可能的。他强调：“将来我们会慢慢解决。”这意味着，尽管目前中国在光刻机制造方面的确面临巨大挑战，但未来并非没有希望。只要我们认清差距，脚踏实地，未来总有一天能迎来属于中国的技术突破。
