文/源
国家知识产权局
由IPRlearn编辑
为完善集成电路布图设计保护制度，国家知识产权局开展了《集成电路布图设计保护条例》修改准备工作。在前期调研的基础上，经与相关部门沟通，形成了修改草案，现将《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》及其起草说明予以公布，征求社会各界意见。有关单位和各界人士可以在2025年2月9日前，选择以下方式中的一种，提出修改完善具体意见：
《集成电路布图设计保护条例修改草案
（征求意见稿）》起草说明
党中央、国务院高度重视知识产权工作。党的十八大以来，习近平总书记对包括集成电路布图设计在内的知识产权工作作出一系列重要指示。党的二十大报告指出，要“加强知识产权法治保障，形成支持全面创新的基础制度”。2021 年，党中央、国务院印发了《知识产权强国建设纲要（2021-2035 年）》，国务院印发了《“十四五”国家知识产权保护和运用规划》，均指出要完善集成电路布图设计法规。为贯彻落实习近平总书记重要指示精神和党中央、国务院的决策部署，在前期工作的基础上，起草了《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》（以下简称“条例修改草案”），现说明如下：
一、修改必要性
为全面贯彻落实习近平总书记关于知识产权工作的重要指示精神、党的二十大精神以及党中央、国务院的决策部署，不断加强知识产权法治保障，促进新质生产力发展，有必要在立足我国国情的基础上，全面考虑集成电路产业的创新特点、发展趋势和保护需求，着力解决集成电路布图设计保护法律制度中存在的突出问题，完善《集成电路布图设计保护条例》（以下简称“条例”）相关规定，为促进集成电路产业发展，支撑经济高质量发展，在集成电路布图设计保护法律制度层面提供更加有力的法治保障。
条例自 2001 年 10 月 1 日发布实施以来，至今已历经 20 余年。随着集成电路产业的快速发展和国际贸易的日益频繁，其中部分内容已与技术发展和产业需求不相适应，且与其他法律法规也存在不协调之处，主要体现在布图设计专有权保护范围难以界定、缺少有力规制侵权行为的相关规则、撤销程序缺少依申请启动规定、转化运用以及对设计者激励措施缺乏等方面，确有必要予以修改。
二、起草总体思路
条例修改草案的起草总体思路包括以下四个方面：一是坚持党的领导，更好发挥政府职能；二是完善登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护；三是加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益；四是促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展。
三、修改主要内容
1. 坚持党的领导，更好发挥政府职能
2. 完善登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护
3. 加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益
4. 促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展
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