在 2024 年 10 月 15 日这一重要的日子里，武汉东湖新技术开发区管理委员会（中国光谷）传来了一则振奋人心的消息。
光谷的太紫微光电科技有限公司（太紫微公司）在半导体专用光刻胶领域成功实现了重大突破。太紫微公司于 2024 年 5 月刚刚成立，其背后有着华中科技大学武汉光电国家研究中心团队的强力支撑。
该公司推出的 T150A 光刻胶产品堪称业界的一颗新星。
它经过了严格的半导体工艺量产验证，实现了配方的全自主设计，这在以往一直是国内半导体光刻胶领域的短板。
从性能方面来看，T150A 光刻胶展现出了极为突出的优势。它对标国际头部企业的主流 KrF 光刻胶系列，在光刻工艺中，其极限分辨率达到了令人瞩目的 120nm，这意味着它能够在更精细的图形制作上发挥重要作用。
与被业内称为“妖胶”的国外同系列产品 UV1610 相比，T150A 光刻胶在工艺宽容度上更胜一筹，稳定性极高，坚膜后烘留膜率也十分优秀。
更难能可贵的是，它对后道刻蚀工艺表现出了极为友好的特性，当密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度依然能保持优异的状态。
太紫微公司的企业负责人朱明强是英国皇家化学会会员，也是华中科技大学的教授。他明确表示，从原材料开发起步，最终获得自主知识产权的配方技术，这仅仅是一个开端。团队深知，要想真正在国内半导体光刻制造领域开创崭新局面，不能仅仅满足于这一项成果。因此，他们决心继续发力，计划发展一系列应用于不同场景下的 KrF 与 ArF 光刻胶。
这一突破无疑具有重大的意义。它不仅填补了国内在高端光刻胶领域的部分空白，打破了国外在该领域的部分技术垄断，为国内半导体产业的自主可控发展注入了强大的动力。
相信在太紫微公司团队的不懈努力下，未来将会有更多高性能的光刻胶产品不断涌现，推动中国的半导体光刻制造在全球舞台上逐步占据更重要的地位，让我们共同期待太紫微公司未来为国内相关产业带来的更多惊喜和成就。
