12月26日，国家知识产权局发布通知，将《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》（以下简称“条例”）及其起草说明予以公布（全文附于文后，点击文末阅读原文可下载全文PDF文件），征求社会各界意见。有关单位和各界人士可以在2025年2月9日前提出修改完善具体意见。
据介绍，条例自2001年10月1日发布实施以来，至今已历经20余年。随着集成电路产业的快速发展和国际贸易的日益频繁，其中部分内容已与技术发展和产业需求不相适应，且与其他法律法规也存在不协调之处，主要体现在布图设计专有权保护范围难以界定、缺少有力规制侵权行为的相关规则、撤销程序缺少依申请启动规定、转化运用以及对设计者激励措施缺乏等方面，确有必要予以修改。
此次修改的主要内容包括四个方面：
一是坚持党的领导，更好发挥政府职能；
二是完善登记注册和确权程序，包括代理制度、期限相关规定、申请日相关规定、复制件或者图样提交要求，以及驳回、撤销制度相关规定等，强化知识产权源头保护；
三是加强布图设计专有权保护，包括新增独创性声明相关制度以及专有权保护范围的确定规则、明确诚实信用和禁止权利滥用原则、增加共有专有权人行使权利的方式、加大侵权赔偿力度、增加证据保全相关规定等，维护权利人合法权益；
四是促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展。包括新增职务创作中的奖酬措施，明确知识产权部门加强公共服务、促进实施和运用的职责，完善专有权转让、许可和质押规定，完善非自愿许可相关规定等。
有关修改内容的更多详情参见附件2：《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》起草说明（附于文后）。
以下是本次公布的《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》及其起草说明全文：
关于就《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》公开征求意见的通知
为完善集成电路布图设计保护制度，国家知识产权局开展了《集成电路布图设计保护条例》修改准备工作。在前期调研的基础上，经与相关部门沟通，形成了修改草案，现将《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》及其起草说明予以公布，征求社会各界意见。有关单位和各界人士可以在2025年2月9日前，选择以下方式中的一种，提出修改完善具体意见：
1. 电子邮件：tiaofasi@cnipa.gov.cn
2. 传真：010-62083681
3. 信函：北京市海淀区西土城路6号国家知识产权局条法司条法一处 邮编100088（请于信封左下角注明“集成电路布图设计保护条例”）
附件：
1. 集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）
2. 《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》起草说明
附件1
集成电路布图设计保护条例修改草案
（征求意见稿）
第五十二条 本条例自2001年10月1日起施行。
附件2
《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》起草说明
党中央、国务院高度重视知识产权工作。党的十八大以来，习近平总书记对包括集成电路布图设计在内的知识产权工作作出一系列重要指示。党的二十大报告指出，要“加强知识产权法治保障，形成支持全面创新的基础制度”。2021 年，党中央、国务院印发了《知识产权强国建设纲要（2021-2035 年）》，国务院印发了《“十四五”国家知识产权保护和运用规划》，均指出要完善集成电路布图设计法规。为贯彻落实习近平总书记重要指示精神和党中央、国务院的决策部署，在前期工作的基础上，起草了《集成电路布图设计保护条例修改草案（征求意见稿）》（以下简称“条例修改草案”），现说明如下：
一、修改必要性
为全面贯彻落实习近平总书记关于知识产权工作的重要指示精神、党的二十大精神以及党中央、国务院的决策部署，不断加强知识产权法治保障，促进新质生产力发展，有必要在立足我国国情的基础上，全面考虑集成电路产业的创新特点、发展趋势和保护需求，着力解决集成电路布图设计保护法律制度中存在的突出问题，完善《集成电路布图设计保护条例》（以下简称“条例”）相关规定，为促进集成电路产业发展，支撑经济高质量发展，在集成电路布图设计保护法律制度层面提供更加有力的法治保障。
条例自 2001 年 10 月 1 日发布实施以来，至今已历经 20 余年。随着集成电路产业的快速发展和国际贸易的日益频繁，其中部分内容已与技术发展和产业需求不相适应，且与其他法律法规也存在不协调之处，主要体现在布图设计专有权保护范围难以界定、缺少有力规制侵权行为的相关规则、撤销程序缺少依申请启动规定、转化运用以及对设计者激励措施缺乏等方面，确有必要予以修改。
二、起草总体思路
条例修改草案的起草总体思路包括以下四个方面：一是坚持党的领导，更好发挥政府职能；二是完善登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护；三是加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益；四是促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展。
三、修改主要内容
1. 坚持党的领导，更好发挥政府职能
一是坚持党的领导。明确党对集成电路布图设计专有权工作的领导（第二条）。二是完善立法宗旨。增加推动集成电路布图设计应用的相关表述（第一条）。三是完善行政机关职能。进一步完善国务院知识产权行政部门和地方人民政府管理知识产权工作的部门的职能，明确管理职责（第八条、第十二条、第四十九条）。
2. 完善登记注册和确权程序，强化知识产权源头保护
一是完善代理制度。明确强制代理相关要求（第五条）。二是完善期限相关规定。明确请求延长指定期限以及延误法定或指定期限请求恢复权利的规定（第十一条）。三是完善申请日相关规定。规定申请日的确定方式以及专有权自申请日起生效（第二十七条、第三十条）。四是明确复制件或者图样提交要求。规定复制件或者图样应当包含布图设计的全部信息，且能够清楚展示布图设计的独创性部分（第二十五条）。五是完善驳回、撤销制度相关规定。增加依请求启动的撤销程序，明确予以驳回、依职权或者请求撤销的理由，其中将违反诚实信用原则和提交复制件、图样或者独创性声明不符合相关要求作为理由（第二十九条、第三十二条）。
3. 加强布图设计专有权保护，维护权利人合法权益
一是新增独创性声明相关制度以及专有权保护范围的确定规则。将独创性声明作为必须提交的申请文件，明确专有权的保护范围以复制件或图样为准，独创性声明用于解释复制件或者图样的独创性部分，以解决布图设计专有权保护范围难以确定的问题（第二十四条、第二十六条、第三十四条）。二是明确诚实信用和禁止权利滥用原则。规定申请布图设计登记和行使专有权均应当遵循诚实信用原则，不得滥用专有权损害公共利益或者他人合法权益，引导申请人和权利人合法行使权利（第九条）。三是增加共有专有权人行使权利的方式（第三十六条）。四是加大侵权赔偿力度。完善确定赔偿数额的顺序和方式，新增惩罚性赔偿制度，完善举证责任（第四十六条）。五是增加证据保全相关规定。为制止侵权行为，在证据可能灭失或者以后难以取得的情况下，布图设计权利人或者利害关系人可以在起诉前依法向人民法院申请保全证据（第四十七条）。
4. 促进布图设计实施和运用，助推新质生产力发展
一是新增职务创作中的奖酬措施。法人或者非法人组织应当对完成职务创作的自然人进行奖励、给予报酬，从而激励创新和促进产业发展（第十六条、第十七条）。二是明确知识产权部门加强公共服务、促进实施和运用的职责。国务院知识产权行政部门、地方人民政府管理知识产权工作的部门应当会同同级相关部门采取措施，加强布图设计公共服务，促进布图设计实施和运用（第十二条）。三是完善专有权转让、许可和质押规定（第三十五条）。四是完善非自愿许可相关规定。将垄断行为列为非自愿许可的适用条件之一（第三十九条、第四十条）。
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