本文所用资料均为国家平台公开资料,非政治问题,拒绝删稿。
笔者完成整理且未发表的资料还有中国SiC晶圆统计产线和中国12“集成电路晶圆产线统计两个数据,考虑到SiC抛光片前段时间才磨磨蹭蹭的放完,在此还是先放SiC晶圆统计,等这个弄完后再慢慢放12”集成电路产线统计结果。
本文基本以半导体综研等媒体的资料作为底稿并进一步整理而来,文中对工厂的描述或存在不准确的地方,欢迎各位进行反馈。同时因为被人抄袭严重,所以会对部分信息进行遮蔽处理。
浙江芯科半导体有限公司成立于2021年9月22日, 是中国碳化硅(SiC)第三代半导体掺杂技术研究及器件研发、设计、制成、应用、销售为一体的机构。是致力于大功率半导体芯片结构设计和外延生长、MOSFET、IGBT芯片设计与应用、第三代半导体功率器件封装与散热的倡导者。
该企业信息比较难查,目前可以确定 该公司于2023年8月和9月分别成立了芯科半导体(衢州)有限公司和芯科半导体(湖州)有限公司, 两者目前均无环评。
作为主体的公司在20222年, 申报《第三代半导体材料研发线新建项目》, 实际建设情况不详。其后在2023年5月, 杭州市规划局发布用地许可证, 项目为1亿颗 MOSFET芯片项目。在2023年6月, 杭州市规划局发布用地许可证, 项目为2” SiC MOSFET项目。在2023年8月,芯科半导体 MOSFET芯片基地开工, 新闻显示该项目一期用地面积约30亩, 总投资4亿元, 将建设碳化硅功率芯片产业化基地, 计划年产1000万颗功率芯片, 6”SiC外延片1万片。
在2024年中旬,发现其建设项目申请,拟投资10亿元建设SiC产线,但是申报产能为10万片。
瑞能半导体的SiC晶圆产线由瑞能微恩半导体科技(北京)有限公司运行, 该公司成立于2021年12月15日, 产线位于北京顺义区仁和镇杜杨北街三号院。项目在2022年9月备案,其后在2022年12月申报。根据公开资料显示该厂房拟采用租用厂房的方式建设产线,设计产能为72万片。目前查询不到验收报告,但是2023年企业员工人数为28人,估计还在正在运行吧?
2021年斯达半导体非公开发行股票公告显示其SiC芯片项目主要由嘉兴斯达微电子有限公司承担。该公司成立于2021年2月26日, SiC项目位于浙江省嘉兴市南湖区市新大公路以北。在2021年4月,《高压特色工艺功率芯片和SIC芯片研发及产业化项目》公示, 拟投资200000万元开展工艺功率芯片的研发和产业化, 达产后形成年产 36 万片功率芯片生产能力, 产线尺寸为6寸, 包含24万片的功率芯片和12万片的SiC芯片。2023年11月, 《高压特色工艺功率芯片和SIC芯片研发及产业化项目》进行先行验收, 根据验收报告显示其实际投资为160000万元, 具体建设情况不详。但是根据细节大致推断其产线只有高压特色功率芯片产能约12万片, 验收期间并未发现SiC芯片生产。根据2024年半年报显示SiC芯片项目实际投资大概为82.19%, 即该项目依然有一定几率在2024年投产。
2024年上半年嘉兴斯达微营业收入在1.92亿元,环比增加15%,同比下降102%,同期呈现净亏损3000万元,净利润率由正转负。
振华科技在2022年表示将由中国振华集团永光电子有限公司承接一条6英寸硅基/碳化硅基功率器件制造线, 年产能为12万片, 总投资7.9亿元, 目前没有进一步消息。
目前信息显示士兰微的SiC产线由厦门士兰明镓化合物半导体有限公司承运。该公司成立于2018年2月1日, 项目地点在厦门市海沧区兰英路 99 号。该公司在2022年7月, 备案《SiC功率器件生产线建设项目》,其后在8月份申报,拟投资15亿元扩建现有产线, 施工期为5个月, 新增生产 SiC 功率芯片产品, 规模为 MOSFET 芯片 28.8 万片/年、SBD 芯片 28.8 万片/年。
该项目未能查询到验收报告, 但是在2022年报道显示其SiC Pilot产线在2021年Q3通线, 而在2023年6月其他项目环评中指出SiC项目已经量产。
而在2024年5月, 士兰微公布《8英寸SiC功率器件芯片制造生产线项目之投资合作协议》指出厦门士兰集宏半导体有限公司为项目承建单位。项目公司负责作为项目主体建设一条以 SiC-MOSEFET 为主要产品的 8 英寸 SiC 功率器件芯片制造生产线, 产能规模 6 万片/月。第一期项目总投资70 亿元, 其中资本金 42.1 亿元, 占约 60%;银行贷款 27.9 亿元, 占约 40%。第二期投资 50 亿元, 在第一期的基础上实施(第二期项目资本结构暂定其中 30 亿元为资本金投资, 其余为银行贷款。第二期建成后新增 8 英寸 SiC芯片2.5 万片/月的生产能力, 与第一期的 3.5 万片/月的产能合计形成 6 万片/月的产能。目前该项目一期已经申报。
声明
所有信息均来自于公开渠道,所用文件为中国政府平台提供的公开查询文件,由文中所提及企业自行提交和公示,笔者仅对其中核心内容进行引用和重述,并不会改变文字观点。本文所涉及的文件和信息均为国家强制要求企业如实填写并公开的资料,涉及公司机密信息应由公司在提交时自行删除,未删除的信息则可视为非涉密信息。
本文章内容符合中国《著作权法》第一章第五条规定,本文章内容并不需要文章中涉及公司的授权。
文章所用的信息和平台陈列如下。
建设项目环评申请、审批和规划文件,信息来源为 建设项目所处 地方政府环保局,该文件为法定强制公开文件。
建设项目环评验收报告 信息来源为 中国建设项目环境影响平台 中企业自行提交位置,该文件为法定强制公开文件。
企业股权结构 和股东背景,该文件为法定强制公开文件。信息来源为企查查、天眼查等平台。
除此以外,还会用到的平台包含但不限于:企业官网、上交所/深交所/北交所 企业信息公示中心、全国排污许可证管理信息平台、全国投资项目在建审批监管平台、全国建设项目环境影响信息备案登记系统等官方网站。所有文件和信息为法定强制公开文件。
如果文章所涉及公司认为文中内容存在不易公开信息或不实内容,请以公司邮件发函澄清缘由,在理由合理且合规的前提下,笔者会删除文章。所有文章涉及资料,均已存档。