第104届中国电子展（CEF）定于2024年11月18日至20日在上海新国际博览中心盛大举行。本次展会特别设置了核心先导基础元器件馆以及终端创新应用馆，旨在全面展示电子信息行业的最新成果与未来趋势，为参展商与观众搭建一个高效、专业的交流平台。
- 参展企业简介 -
新毅东（北京）科技有限公司
展位号：2D002
新毅东（北京）科技有限公司（以下简称“BNE”）成立于2014年3月，是一家专注于半导体生产线设备业务的高新技术企业。
BNE核心业务围绕黄光设备的技术服务与自主研发，同时积极引入海外先进产品技术，并致力于关键国产化替代，为集成电路、化合物半导体、MEMS以及LED等领域的客户提供设备制程整合与个性化解决方案。BNE与中芯国际等行业领头羊建立稳固合作关系，积累了丰富的技术经验，拥有一支高素质技术团队。
为强化服务能力与技术创新，BNE在北京、上海、武汉、昆山布局了研发生产网络，旨在创建半导体前道设备综合服务平台，促进技术革新和产业升级。
- 展示范围 -
光刻机（Nikon G线/I线/KrF/ArF）
二手翻新光刻机Nikon和Canon均提供高分辨率和高生产率的解决方案。Nikon光刻机如S308，以其0.07μm分辨率著称，支持12nm套刻精度。Canon光刻机如FPA-3000EX6，以其248nm步进式、0.18μm分辨率和35nm套刻精度为亮点，支持多种晶圆尺寸。
自研高端湿法设备
公司自主研发、设计、制造槽式清洗设备XW3000系列，可用于RCA清洗，湿法去胶，介质层湿法刻蚀，金属层湿法刻蚀，炉管前清洗以及其它特殊工艺清洗需求。设备采用模块化设计，可依照客户不同化学药液及工艺需求定制化设计。
自研涂胶显影设备
公司自主研发涂胶显影设备TC2000，适用于多种材料涂覆显影工艺的高端机台，支持与光刻机联机作业。该设备占地面积小、可靠性高、易于维护，满足各种功能芯片制程需求，可广泛用于8寸以下半导体、化合物半导体、MEMS及LED等领域。
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