展商资讯丨致东光电科技(上海)有限公司参展第104届中国电子展

企业   2024-11-12 17:34   北京  



第104届中国电子展(CEF)定于2024年11月18日至20日在上海新国际博览中心盛大举行。本次展会特别设置了核心先导基础元器件馆以及终端创新应用馆,旨在全面展示电子信息行业的最新成果与未来趋势,为参展商与观众搭建一个高效、专业的交流平台。




 - 参展企业简介 



 致东光电科技(上海)有限公司

 展位号:2B015


致东光电科技(上海)有限公司自2006年成立至今,秉着以客户为导向的企业经营理念,由专业的测试仪器代理商快速发展成为集研发、生产、销售、服务为一体的高精度测试仪器供应商。


致东光电奉行“以人为本”的理念,延揽经验丰富、资质优良、充满活力的人才,与客户的需求紧密结合,为其提供卓越而可靠的加值型服务。“客户的满意是我们的目标”,致东光电遵循“高机动性、高效率、高行动力”的三大方针,目前我们的客户已经遍及整个IC、TFT-LCD、LED及Solar cell等学术及工业相关领域,并广泛得到客户的认同和喜爱。



 - 展示范围 


 全光谱椭偏仪SE 


可 Demo 免费量测 Sample;

精密量测膜厚及折射率;

波长范围 : 193nm-1050nm (Option~1700nm)

快速量测、单晶或多晶或多层膜检测;

各种功能材料的光学常数测量和光谱特性分析;

精密量测膜厚及折射率 Thickness & ( N, K ) λ

测试精度 Repeatibility : 0.05nm;

测试厚度范围(Thickness Range) : 1nm - 30um。



 全光谱反射仪SR 


针对PI、Thin-Film、Semicon、Solar Cell及TFT-LCD的客制化应用机型;

Customized application models for PI,Thin-Film,Semicon,Solar Cell and TFT-LCD

量测时间1-3s,精确度高;

Measurement time:1-3s,high accuracy测试精度(precision):0.1nm;

测试厚度范围(Thickness Range):1nm-100um;

量测膜厚(N.K)值,穿透率(T%),反射率(R%)Thickness&(N.K)λ&T%&R%)。




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