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日本分析称H的光刻机对比ASML多个方面优势明显。
根据H的EUV光源专利【202110524685X】，日本方面分
分析得出了四个优点：
第一：结构更加简单；
第二；更加省电，寿命更长，消耗电力甚至不到asml的1/10……
第三：功能更多，EUV光源还增加了除尘，镜片，膜保护，利用率大幅提升。
第四：成本更低，价格更便宜，近asml一半的价格……
科研的每一步都很艰难，尤其在代表世界顶级难度光刻机的研发上，有人说科技无国界，但事实上科技已经是最残酷没有硝烟的战场，当然我们要正视差距，有些东西靠媒体不负责任的吹嘘是缩短不了的，不过科技自主，我们走在正确的道路上，我们的进步是巨大的，至少我们现有的工业化应用的绝大部分能自产了！
未来，随着技术的不断成熟，中国的光刻机必将会在国际舞台上绽放出越来越耀眼的光芒，让我们一起期待那一天的到来
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