i线、g线、KrF、ArF和EUV光刻机光源的波长分别为365nm、436nm、248nm、193nm、13.5nm。
氟化氩光刻机也就是深紫外光刻机，其光源波长193纳米，套刻精度小于8纳米，可用于制造7纳米以上的芯片，真的是太不容易了，要好好的保护保密相关企业以及科研工作者。
大漂亮对我们的芯片技术封锁只能说反者道之动，如今国产7纳米以上，已经是主要出口国，未来我们芯片技术可想而知，只会越来越强，即如此，登上巅峰还远吗？
封锁促我进步，只有掌握核心技术，才能走自力更生，发奋图强之路，受制于人的教训永远不要忘记……
这个咱们应该好好跟“大漂亮”学习，如何有效管制技术不外泄……
