单晶硅拉晶时为啥要“缩颈”

学术   2024-07-31 18:02   北京  


文章来源:晶格半导体

原文作者:晶格半导体


本文简单介绍了生长无位错直拉硅单晶的方法。


引晶阶段是硅单晶生长过程的关键阶段,当籽晶浸入硅熔液时,由于籽晶和熔液温度相差很大,高温熔液对籽晶造成强烈的热冲击,籽晶头部会产生大量的位错。为了消除引出单晶中的位错,这些位错甚至能够延伸到整个晶体。因此,在50年代Dash发明了“缩颈”技术,可以生长无位错的单晶。

根据 Dash 缩颈工艺,当籽晶和熔液熔接完成后,先引出一段细晶,这样在冷却过程中热应力较小,不易产生位错,然后缓慢提拉晶体。当引晶长度达到 120-150mm 后,再进行放肩。

缩颈去位错原理

硅单晶作为金刚石结构,其滑移系为{111}滑移面的<110>方向。通常硅单晶的生长方向为<111>或<100>,这些方向和滑移面{111}面的夹角分别为36. 16°和19. 28°;—旦位错产生,将会沿着滑移面向体外滑移,如果此时硅单晶的直径很小,位错很快就滑移出硅单晶表面,而不是继续向晶体体内延伸,以保证直拉硅单晶 能无位错生长。


因此,引晶完成后,籽晶应该快速提拉向上,晶体生长速度加快,新结晶的单晶硅的直径将比籽晶的直径小,整个阶段称为缩颈。对于(110)方向而言,晶颈的直径越小,越容易消除位错。但是,缩颈时单晶硅的直径和长度会受到所要生长单晶硅的总重量的限制,如果重量很大,缩颈时晶颈的直径就不能很细。

另外,有研究者提出利用重掺硼单晶或掺锗的重掺硼单晶作为籽晶,利用重掺硼或锗可以抑制种晶过程中位错的产生和增殖的原理,采用“无缩颈”技术,同样可以生长无位错直拉硅单晶。


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