近日
我校武汉光电国家研究中心团队
在国内率先攻克
合成光刻胶所需的原料和配方
助推我国芯片制造关键原材料
突破瓶颈
其研发的T150A光刻胶系列产品
已通过半导体工艺量产验证
实现了原材料全部国产
配方全自主设计
有望开创国内半导体光刻制造新局面
团队在电子化学品领域深耕二十余载，立足于关键光刻胶底层技术研究，致力于半导体专用高端电子化学品原材料和光刻胶的开发，并以新技术路线为半导体制造开辟新型先进光刻制造技术，同时为材料的分析与验证提供全面的手段。
团队负责人表示：“以光刻技术的分子基础研究和原材料的开发为起点，最终获得具有自主知识产权的配方技术，这只是个开始。我们团队还会发展一系列应用于不同场景下的KrF与ArF光刻胶，致力于突破国外卡脖子关键技术，为国内相关产业带来更多惊喜。”
来源｜华中科技大学官微
责编 | 冯芃菲
审核 | 胡涛
