9 月 9 日，中国工信部发布的《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录》中，氟化氪光刻机与氟化氩光刻机的信息引人瞩目，这标志着中国在成熟制程领域 DUV 光刻机国产化道路上迈出了坚实一步。
而颇为“巧合”的是，前几日荷兰政府刚刚宣布进一步收紧针对中国的光刻机出口限制，这一对比充满了讽刺意味。
光刻机主要分为深紫外光刻机（DUV）和极紫外光刻机（EUV）。DUV 的波长为 193nm，EUV 的波长大幅降低至 13.5nm。按照刻蚀方法又可分为干式和浸润式。干式光刻机是光线直接在硅片上画图，而浸润式则是在光线和硅片之间加一层纯净水，通过光线的折射缩小波长，提升光刻精度。
目前先进的光刻机分为三类：最先进的是浸润式 EUV 光刻机，用于制作 7nm 以内的最先进芯片；其次是浸润式 DUV 光刻机，可制作 14 - 28nm 的芯片；最后是干式 DUV 光刻机，能制作 28nm 以上制程的芯片。国内官宣的光刻机应是干式 DUV 光刻机，最高可做到 28nm 制程。虽然与国际先进水平相比仍有差距，但要知道全球目前尚无一个国家能够独立开发光刻机，荷兰的光刻机也是集合了美国、德国、日本等多国技术，所以国内能独立开发光刻机已是非常不易。
回想上海微电子曾在 2021 年底到 2022 年初宣布推出 28nm 光刻机，虽然后来在年底验证中未全部通过 02 专项的验收，但这并不能掩盖中国在光刻机研发道路上的巨大进步。未通过验收或许只是暂时的，可能是因为还需进一步优化，或者部分零部件尚未完全国产化。然而，中国科技工作者们从未气馁，他们坚信只要坚持不懈，就一定能攻克难关，实现 DUV 光刻机的完全自主可控。
如今，中国芯片产业发展势头强劲。2024 年上半年，中国芯片累计产量同比增长 28.9%，出口金额达到 5427 亿元人民币，较去年同期增长 25.6%，超越韩国。这充分证明中国已不仅是芯片消费大国，更是正在崛起的芯片生产、制造大国。在成熟制程芯片领域取得的卓越成就，为中国向高端芯片制造领域迈进奠定了坚实基础。
在中美芯片博弈的硝烟中，中国芯片业者正昂首阔步迈向世界舞台。随着国产 DUV 光刻机的不断完善和发展，中国芯片业者将更加独立自主地掌控芯片生产命脉，摆脱对国外技术的依赖，成为全球成熟芯片市场中不可忽视的强大力量。
中美芯片竞争已进入全新阶段。拥有成熟芯片制程的国产化技术后，中国将全力向先进制程发起冲锋。这意味着中美芯片竞争从“求生存”阶段迈入“激烈竞争”阶段，不仅在高端芯片制造上展开巅峰对决，还在高端芯片设计领域一较高下，尤其是 AI 芯片。后期，中美芯片竞争或将演变为一场惊心动魄的“芯片战争”，这将是一场科技大战。目前，美国芯片领域的巨头们或许已感受到来自中国芯片业者的强大挑战，其霸主地位受到前所未有的冲击。
美国试图通过全力冲刺 AI 芯片市场来巩固其在芯片领域的优势地位，但这注定是一场徒劳的挣扎。美国 AI 芯片业者向海外国家描绘虚幻的美好前景，鼓吹“主权 AI”概念，妄图诱使各国盲目采购美国的 AI 芯片。然而，他们忽视了中国芯片业者在高端制程技术上的突飞猛进。如今，国产 AI 芯片性能正逐渐接近美国同行，假以时日，当中国业者推出性能媲美美国芯片且价格仅为其五分之一的 AI 芯片时，美国芯片业者的市场份额必将大幅缩水。中美在 AI 芯片市场的争夺将成为中美芯片战的关键一役，虽然中国可能需要 5 年左右时间才能在该领域实现赶超，但中国芯片业者潜力无穷，必将在这场科技竞赛中崭露头角。
虽然国产 DUV 光刻机明显落后于阿斯麦的产品，在荷兰巨头的产品线中属于中下等级别型号，但我们至少有了方向。下一步可以攻克林本坚 20 多年前的浸润式技术，再利用目前的机器研究多重曝光技术，一步步来，先意识到问题，再解决问题。凭借中国人的智慧与勤奋，总会有所突破。我们有理由相信，两年之后，8nm 以下的光刻机就会出现在中国大地，荷兰阿斯麦的丧钟已然敲响。
在中美芯片博弈的大背景下，中国应坚定不移地加大对芯片产业的投入，大力推动科技创新和人才培养，进一步完善产业链。只有这样，我们才能很快见证国产光刻机的崛起，在全球芯片领域占据重要地位。中国芯片产业的未来充满希望，让我们共同期待中国科技在芯片领域创造更多的辉煌。
