在科技飞速发展的当今时代，光刻机作为半导体制造的核心设备，其重要性不言而喻。复旦大学政治系沈逸教授在访谈中对国产光刻机做出了客观而深刻的评价。 国产光刻机目前大体上处于浸润式的前一代，即干式技术。与 ASML 的光刻机相比，确实如沈逸教授所言，差不多是人家 10 年、20 年前的设备水平。但我们不能忽视的是，这台光刻机是在非美工艺和产业生态下研发出来的，这背后蕴含着巨大的价值和意义。
以汽车行业为例，如今的汽车越来越智能化，对芯片的需求也日益增长。而芯片的制造离不开光刻机。ASML 的光刻机在全球市场占据着重要地位，其镜头来自德国蔡司，光源技术来自美国，还采用了大量美国的其他技术。
相比之下，中国的国产光刻机则是完全基于非美供应链。这意味着什么呢？意味着美国想要对中国进行长臂管辖制裁时，却对这台光刻机无能为力。
国产光刻机的意义重大。它不仅能够覆盖成熟制程的工艺产品，还在军事领域有着重要的应用。目前，军事领域的芯片技术并非追求 5nm、3nm 的高端制程，而是以 65nm、90nm 等成熟制程工艺为主。
中国的干式氟化氩光刻机，分辨率≤65nm，套刻精度≤8nm，可以进行 55nm 芯片的制造，通过多曝光技术，在极限情况下甚至可以进行 40nm 芯片的制造。虽然在手机等消费电子产品领域可能不太适用，但在军事领域却完全足够。
沈逸教授还指出，中国国产光刻机的推出，更像是给荷兰政府看的一个信号。中国现在可以大规模推广宣传干式光刻机，这让人们不禁联想，中国科研团队在实验室里正在研发的技术会是什么呢？
当实验室中的技术设备成功推出时，未来 3 到 5 年的市场格局又会发生怎样的变化？这确实值得荷兰政府以及 ASML 公司深思。是选择继续与美国站在一起，面临未来市场的断崖式下降，还是与中国进行务实的贸易合作，搭上中国发展的快车，这将是一个至关重要的抉择。
如今，中美两国的博弈点已经从芯片产品转变为国际企业立场。其中，最核心的就是荷兰的 ASML 公司。ASML 公司需要考虑是否应该与中国握手言和，共同发展技术。
而美国在这方面似乎并不需要过多考虑，因为美国向来不心疼劫杀其他国家的企业。中国未来光刻机的发展方向是从干式技术迈向浸润式技术，进而掌握极紫外线的整套技术设备。
从实际案例来看，美国宣布对已出售给中国的浸润式 DUV 光刻机在耗材以及软件维护上不再进行售后维护，这成为了中美两国博弈的焦点之一。然而，从积极的层面来看，美国的这一制裁举措可能会促使国内涉及光刻机产业链和芯片制造的企业迎来爆发式的技术增长。
就如同多年前日本与韩国在半导体材料上的纷争，日本对韩国实行材料出口限制，结果让中国的一些半导体制造材料企业获得了发展机遇。
如果荷兰选择与美国站在一队，对中国市场进行压制，那么按照西方国家的规则，中国可以直接没收荷兰 ASML 在中国的企业资产。中国的消费市场在国际上规模庞大，放弃这片市场对于荷兰和 ASML 来说将是巨大的损失，需要用好几个国家的市场才能弥补。
而且，中国前几年采购 ASML 光刻机的价格高达百亿人民币，并且这个数值还在逐年增长。与中国市场进行经济脱钩，无疑会直接触动荷兰以及 ASML 的核心利益。
早在多年以前，长春光机所就已经完成了 EUV 技术曝光台的技术认证，掌握了部分 EUV 光刻机的技术体系。
但由于其他零部件的供应链问题，目前还无法将这种技术进行商业化发展。如果未来国内能够解决 EUV 技术的供应链问题，那么中国光刻机的产品换代将指日可待。 总结一下，国产光刻机虽然目前与 ASML 相比还有一定差距，但在非美工艺下取得的突破意义重大。中美两国在光刻机领域的博弈焦点逐渐转向国际企业立场，而荷兰的 ASML 公司面临着重要的抉择。
中国光刻机的未来发展充满希望，只要我们不断努力，解决供应链等问题，必将在光刻机领域实现更大的突破。朋友们，让我们一起为中国科技的发展点赞、关注和评论，共同见证中国光刻机的崛起！“道阻且长，行则将至；行而不辍，未来可期。”让我们携手为中国光刻机的美好未来加油！
