一，光刻机龙头
今天光刻机胶核心龙头大涨！
【“国队”出手 大基金三期注册资本超预期！分析：或投向光刻机、AI芯片等领域】
近日，国j集成电路产业投资基金三期股份有限公司成立，注册资本3440亿元人民币。
蓝英装备：2021年12月10日关系记录表：公司精密清洗设备面向的高端芯片制造行业企业客户包括光刻机制造企业的合资(参股)公司，该客户负责制造光刻机的核心光学系统。
波长光电 ：2023年8月25日互动易回复：在半导体应用领域，公司已具备提供光刻机配套的大孔径光学镜头的能力。公司成功开发的光刻机平行光源系统可用于国产光刻机领域配套，并已交付多套系统用于接近式掩膜芯片光刻工序。
茂莱光学 ：2023年5月23日互动易回复：公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的关键模块。
张江高科 ：2023年9月1日互动易：公司通过子公司上海张江浩成创业投资有限公司投资了上海微电子装备有限公司22,345万元人民币，持有微装公司10.779%的股权，后续公司未实施增资。公司投资上海微电子装备、华勤通讯为代表的一批集成电路优质企业，实现“中国芯”国产光刻机的重大突破。
新莱应材 ：2021年6月22日互动易：光刻机的相关工艺需要在超高真空以及特殊气体的条件下完成，公司真空产品的AdvanTorr品牌以及气体产品的NanoPure品牌均可以应用到光刻机的设备中，公司的客户中已经包含光刻机设备的制造商。
国林科技 ：2023年9月14日互动易回复：子公司国林半导体臭氧设备产品从2022年下半年开始进行市场导入，2023年以来陆续在半导体、面板、科研等行业领域出货验证，该产品用于化学气相沉积（CVD）、原子层薄膜沉积（ALD）、晶圆清洗、污染物及光刻胶去除等工艺中。
美埃科技 ：公司上市保荐书：公司为上海微电子装备（集团）股份有限公司开发国内首台 28 纳米光刻设备工艺制程所需的机台内国际最高洁净等级标准（ISO Class 1 级）洁净环境提供 EFU （超薄型设备端自带风机过滤机组）及 ULPA（超高效过滤器）等产品，亦已验收合格，助力国内光刻机事业突破卡脖子技术难题。此外，在海外市场，公司系Intel、 ST Microelectronics 等国际半导体厂商的合格供应商，为其提供空气净化产品。公司在前述产品核心技术指标、客户信赖度等方面，可与国际品牌平行竞争，处于国内品牌领先的地位。
炬光科技 ：2023年3月20日互动易回复：公司多年来一直为半导体光刻应用领域提供光刻机曝光系统中的核心激光光学元器件——光场匀化器（招股书中“光场匀化器——光刻应用”），供应给世界顶级光学企业A公司，最终应用于全球高端光刻机生产商的核心设备。同时，公司与国内在这一领域的研发单位有广泛合作，公司的光场匀化器产品应用于国内主要光刻机研发项目和样机中。
国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
光刻机被称之为“现代光学工业之花”，想要制造出一台光刻机器，难度极其高，流程极其复杂。光是制作出一台光刻机，零配件就多达5万个。
将它们组装到一起，要耗费巨大的财力、人力、物力。
张江高科
2022年全球光刻机市场规模约230亿美元，三大巨头垄断市场。全球光刻机三大巨头ASML/Canon/Nikon光刻机营收分别为169/20/15亿美元，
国内市场规模超200亿元，国产化率不足3%，
高端光刻机被卡脖子。
国产化势在必行！
国产化迫在眉睫，国产厂商正在积极突破，空间广阔。
据资料，上海微电子成立于2002年3月，是目前国内第一家也是唯一一家光刻机巨头，具备90nm及以下的芯片制造能力。
上海微电z，在我国的光刻机制造领域，它打破了零的记录，成为了唯一一家制造厂商。
ASML处于绝对领先，国内市场规模超200亿元，但是国产化率仅2.5%。
同时，美国对先进制程设备和技术限制，光刻机核心“卡脖子”状态。
国产高端光刻机的发展有望获得推动，光刻机及半导体设备产业链将有望同步受益。
福晶科技：
激光晶体以及高端光学元件核心供应商，公司为光刻机等半导体设备提供光源系统以及光学元件等产品。
深耕光电子晶体材料，非线性光学晶体全球领先。
公司实控人国资，技术实力雄厚。
福晶科技引入远致星火对控股子公司至期光子增资，符合公司的战略规划，将进一步提升至期光子的资本实力和综合竞争力，有利于加快至期光子拓展超精密光学元件等业务的步伐。
国内精密光学产品龙头，持续加强研发
此外，AI引领光通信增长，公司可提供高质量铌酸锂(LiNbO3）晶体、磁光晶体、光纤传输器件以及精密光学元件等，
以上就是光刻机光学电子类产业链的大概分析，
后面再持续重点谈论相关上市公司分析，
想要分析光刻机胶产业链的，欢迎讨论。
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