在当今全球科技竞争白热化的时代，半导体产业无疑是各国科技角逐的核心战场。而光刻胶，作为半导体制造中至关重要的关键材料，其地位举足轻重。近期，一则来自 “中国光谷” 的消息如同一道耀眼的闪电，瞬间照亮了科技界的天空。
武汉太紫微光电科技有限公司在半导体专用光刻胶领域取得了重大突破。其推出的 T150 A 光刻胶产品成功通过半导体工艺量产验证，并且实现了配方全自主设计。
这款产品在性能方面与国际头部企业主流 KrF 光刻胶系列相媲美，甚至在某些方面更胜一筹。以国内某大型半导体制造企业为例，在实际生产过程中，T150 A 光刻胶展现出了惊人的极限分辨率，达到了 120nm。而与之对比的国外同系列产品，在同等条件下的分辨率表现稍显不足。
同时，T150 A 光刻胶的工艺宽容度更大，稳定性更高，坚膜后烘留膜率表现卓越，对后道刻蚀工艺的适应性也更强。在实际刻蚀作业中，密集图形经过刻蚀后，下层介质的侧壁垂直度堪称完美，为半导体制造的高精度和高可靠性提供了有力保障。
太紫微公司由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。这个团队在电子化学品领域辛勤耕耘了二十余载，积累了深厚的技术底蕴和丰富的研发经验。
武汉光电国家研究中心作为科技部首批批准建设的国家研究中心之一，在光电领域的科研成果斐然。比如，过去几年中，该中心在光通信、光存储等多个领域实现了重大突破，为我国光电产业的蓬勃发展注入了强大动力。
根据天眼查的信息，太紫微公司成立于 2024 年 5 月 31 日。虽然成立时间不长，但凭借着强大的技术团队和卓越的创新能力，迅速在光刻胶领域崭露头角。公司注册资本为 200 万元，实控人朱明强最终受益股份达 77%。其独特的股东结构也为公司的快速发展提供了坚实的后盾。
对于此次重大突破，业内人士给予了高度赞誉。在 KrF 系列光刻胶产品中，T150 A 所对标的 UV1610 产品是市场上较为常用的胶，需求量巨大。目前，国内的北京科华、徐州博康等厂商也具备了生产类似产品的能力，这充分表明我国在光刻胶领域的国产化进程正在加速推进。
国产光刻胶的发展历程一直备受瞩目。当前，我国集成电路用半导体光刻胶，尤其是高端产品，仍然高度依赖进口。其中，日本是我国光刻胶的最大进口来源国。
据中国海关总署的数据显示，2023 年我国感光化学品进口总额高达 21.77 亿美元，其中从日本进口的金额为 11.49 亿美元，占比高达 52.8%。到了 2024 年 1 - 6 月份，从日本进口额达到 6.38 亿美元，同比增长 16.7%。今年第二季度进口总额为 3.38 亿美元，同比增长 15.6%，环比增长 12.6%。日本进口平均占比约为 51.5%，近年来一直处于历史高位。
从全球光刻胶市场格局来看，日美厂商占据了绝大部分市场份额。日本合成橡胶（JSR）、日本东京应化、美国杜邦 - 罗门哈斯、日本信越化学、日本住友化学、日本富士电子材料这六家大厂高度垄断了半导体光刻胶市场。相比之下，我国光刻胶国产化率还处于较低水平。综合各方面的数据，KrF 光刻胶整体国产化率不足 5%，ArF 光刻胶整体国产化率更是不足 1%。
我国光刻胶的加速发展可以追溯到 21 世纪初。2018 年 5 月，国家科技重大专项中的极紫外光刻胶项目顺利通过国家验收，这标志着中国在高端光刻胶领域迈出了坚实的一步。此后，我国陆续发布了一系列鼓励性和支持性政策，全力推动国产光刻胶实现突破。
从国内光刻胶产业链相关企业的发展情况来看，国产光刻胶在近年来取得了飞速发展。中国已经成为全球最大的光刻胶市场之一，国内有数十家企业积极涉足光刻胶领域，其中一些企业已经取得了令人瞩目的成绩。
今年 4 月，九峰山实验室与华中科技大学组成的联合研究团队成功突破了 “双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶” 技术。这项成果在国际顶级刊物上发表，并在产线上完成了初步工艺验证。
徐州博康信息化学品有限公司也成功开发出了 ArF/KrF 单体及光刻胶、I 线光刻胶等系列产品。彤程新材在半导体光刻胶业务方面实现了快速增长，多款产品在客户端验证通过并开始销售。
上海新阳在光刻胶产品方面覆盖广泛，技术水平不断提升。南大光电坚持自主化研发路线，多款 ArF 光刻胶正在国内主要集成电路芯片制造企业进行验证。
此外，还有众多企业在光刻胶领域积极进行研发和生产，为国内光刻胶市场的快速增长提供了强大动力。
“没有比人更高的山，没有比脚更长的路。” 在科技强国的道路上，只要我们坚定信念，勇于创新，不断突破技术壁垒，国产光刻胶必将迎来更加辉煌的明天，为我国半导体产业的崛起乃至全球科技的进步做出更大的贡献。希望大家点赞、关注、评论，一起为中国科技的腾飞加油助威！
